新颖的杀微生物剂制造技术

技术编号:12582858 阅读:76 留言:0更新日期:2015-12-23 21:01
本发明专利技术提供了具有化学式(I)的化合物(I)其中Y1、Y2、Y3、G、V1、V2、V3以及V4是如在权利要求书中所定义的。本发明专利技术进一步涉及包括这些化合物的组合物并且涉及它们在农业或园艺中用于控制或预防植物被致植物病的微生物、优选是真菌所侵染的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物:其中Y1代表氢;卤素;CN;NO2;C1‑C6烷基;C3‑C8环烷基;C3‑C8环烯基;C2‑C6烯基;C2‑C6炔基;苯基;萘基;包含一至三个独立地选自O、S以及N的杂原子的5‑至10‑元单‑或双环的杂环,其条件是该杂环不包含相邻的氧原子、相邻的硫原子、或相邻的硫和氧原子,其中该杂环可以是芳香族的、或者完全或部分饱和的;OR1;CO2R1;COR2;CON(R3)2;N(R3)2;NR3COR2以及C(R2)=N‑OR1;其中该烷基、环烷基、环烯基、烯基、炔基、苯基、萘基、以及杂环任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、OH、NH2、NR3COR2、SH、NO2、OR1、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、苯基、卤代苯基、C1‑C4烷基苯基、C3‑C8环烷基、C3‑C8环烯基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚磺酰基以及C1‑C4烷基磺酰基;Y2以及Y3独立地选自氢;卤素;CN;NO2;C1‑C8烷基;C3‑C8环烷基;C3‑C8环烯基;C2‑C8烯基;C2‑C8炔基;苯基;苯基‑C1‑C6‑烷基;包含一至三个独立地选自O、S以及N的杂原子的5‑或6‑元杂环,其条件是该杂环不包含相邻的氧原子、相邻的硫原子、或相邻的硫和氧原子;OR1;COR2;SH;C1‑C8烷硫基;C1‑C8烷基亚磺酰基;C1‑C8烷基磺酰基;苯基硫基;苯基亚磺酰基;苯基磺酰基;N(R3)2;CO2R1;O(CO)R2;CON(R3)2;NR3COR2以及C(R2)=N‑OR1;其中该烷基、环烷基、环烯基、烯基、炔基、苯基、苄基、以及杂环任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、OH、NH2、SH、NO2、OR1、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚磺酰基以及C1‑C4烷基磺酰基;或Y3是如上定义的,并且Y1和Y2连同它们附接的该化合物的片段形成部分不饱和的或完全不饱和的5‑至7‑元碳环的环或者部分不饱和的或完全不饱和的包含一至三个独立地选自O、S、N以及N(R3)的杂原子的5‑至7‑元杂环的环,其条件是该杂环不包含相邻的氧原子、相邻的硫原子、或相邻的硫和氧原子,并且其中由Y1和Y2形成的环任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、NH2、NO2、OH、SH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基以及C1‑C4卤代烷氧基;G代表键、O、S、S(O)、SO2、C(O)、CO2、C(R4)(R5)、C(R4)(R5)‑C(R6)(R7)、C(R4)=C(R5)、C≡C、O‑C(R4)(R5)、S‑C(R4)(R5)、C(R4)(R5)‑O、C(R4)(R5)‑S或苯基;每个R1独立地选自氢、C1‑C8烷基、C3‑C8环烷基、C3‑C8环烷基‑C1‑C2烷基、C3‑C8环烯基、C3‑C8烯基、C3‑C8炔基、苯基、苄基或包含一至三个独立地选自O、S、N以及N(R3)的杂原子的5‑或6‑元杂环,其条件是该杂环不包含相邻的氧原子、相邻的硫原子、或相邻的硫和氧原子,其中该烷基、环烷基、环烯基、烯基、炔基、苯基、苄基以及杂环任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、OH、NH2、NO2、SH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4‑烷氧基‑C1‑C4‑烷基以及C1‑C4烷氧基羰基,并且其中该杂环可经由C1‑C2亚烷基部分而附接至该分子的剩余部分;每个R2独立地选自氢、C1‑C8烷基、C3‑C8环烷基、C3‑C8环烯基、C2‑C8烯基、C2‑C8炔基、苯基、苄基以及吡啶基,其中该烷基、环烷基、环烯基、烯基、炔基、苯基、苄基以及吡啶基基团任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、NH2、NO2、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷硫基以及C1‑C4卤代烷氧基;每个R3独立地选自氢、C1‑C8烷基、C3‑C8烯基、C3‑C8环烷基、C3‑C8环烯基、C3‑C8炔基、苯基、苄基、CN、OR1、COR2、C1‑C8烷基磺酰基、以及包含一至三个独立地选自O、S、N以及N(R8)的杂原子的5‑或6‑元杂环,其条件是该杂环不包含相邻的氧原子、相邻的硫原子、或相邻的硫和氧原子,其中该烷基、环烷基、环烯基、烯基、炔基、苯基、苄基以及杂环任选地被独立地选自以下各项的一个或多个基团取代:卤素、CN、NH2、NO2、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4‑卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基以及C1‑C4‑烷氧基‑C1‑C4‑烷基;其中当两个基团R3被附接至相同氮原子时,这些基团可以是相同的或不同的;其中当两个基团R3被附接至相同氮原子时,...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:K·尼贝尔M·波尔利特
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:发明
国别省市:瑞士;CH

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