当前位置: 首页 > 专利查询>帕尔公司专利>正文

自组装聚合物-IV制造技术

技术编号:12486529 阅读:76 留言:0更新日期:2015-12-11 00:52
公开了包括式(I)的二嵌段共聚物的自组装嵌段共聚物:其中,R1-R4、n和m如本文中所述,其应用于制备自组装结构和多孔膜。自组装结构的实施方式包含圆柱体形态的嵌段共聚物。还公开了制备这类共聚物的方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】自组装聚合物-IV 专利技术背景 聚合物,尤其是嵌段共聚物,其自组装成纳米结构,已被建议应用于多种应用,包 括过滤膜、渗透汽化膜、平版印刷、固态聚合物电解质、离子交换膜和生物材料。例如,当溶 于选定溶剂时,二嵌段共聚物自组装成球形或圆柱体胶束、囊泡和其它结构。然而,获得结 构规整的纳米结构仍然存在挑战。前述表明,对于在合适的加工条件下自组装以提供结构 规整的纳米结构的嵌段共聚物,仍然存在未满足的需求。 专利技术简介 本专利技术提供了一种式(I)或(II)的嵌段共聚物: 其中: R1是式-(CHR-CH2-0)p-R'的聚(氧化烯)基团,其中p= 2_6,R是H或甲基,以及 R'是H、烷基或者C「(^环烷基; #是C6_C2。芳基或是杂芳基,任选地被选自羟基、硝基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰 基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基取代; R3和R4之一是C6_C14芳基,任选地被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代,以 及R3和R4的另一个是Ci_C22烷氧基,任选地被选自駿基、氣基、疏基、炔基、烯基、卤素、置氣 基和杂环基的取代基取代; n和m独立地是2至约2000 ;0本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式(I)或(II)的嵌段共聚物:其中:R1是式‑(CHR‑CH2‑O)p‑R’的聚(氧化烯)基团,其中p=2‑6,R是H或甲基,以及R’是H、C1‑C6烷基或者C3‑C11环烷基;R2是C6‑C20芳基或是杂芳基,任选地被选自羟基、硝基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基取代;R3和R4之一是C6‑C14芳基,任选地被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代,以及R3和R4的另一个是C1‑C22烷氧基,任选地被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基和杂环基的取代基取代;n和m独立地是2至约2000;0<x≤n以及0<y≤m。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:K·AH·H·阿米尔
申请(专利权)人:帕尔公司
类型:发明
国别省市:美国;US

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1