一种彩色滤光片基板及其制造方法、液晶显示面板技术

本发明专利技术公开了一种彩色滤光片基板、彩色滤光片基板的制造方法和液晶显示面板。所述彩色滤光片基板包括衬底基板；黑矩阵层，其包括形成在衬底基板的第一表面上的边框；金属网格层，其包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线；其中，金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。本申请采用金属网格作为静电传导层，能够同时保证高较高的穿透率和较低的面电阻，提高静电传导能力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器
，具体地说，涉及一种彩色滤光片基板、彩色滤光片基板的制造方法和液晶显示面板。
技术介绍
近年来，随着液晶显示技术的不断发展，已出现多种提供大视角显示效果的显示技术，例如共面转换(In-Plate Swiching, IPS)技术和边缘电场开关(Fringe FieldSwitching, FFS)技术。FFS和IPS显示技术在实现宽视角的前提下，同时实现了高透光率、高对比度、高亮度和低色差等优良特性。FFS和IPS同属于水平电场控制模式。图1为现有技术中IPS模式的液晶显示面板的结构示意图。液晶显示面板具有彼此相对设置的彩色滤光片基板110和阵列基板120，以及位于彩色滤光片基板110和阵列基板120之间的液晶层130。在彩色滤光基板的内表面形成有黑矩阵113和彩色滤光层115，通常，还在黑矩阵和彩色滤光层上形成保护层117。在阵列基板120的内表面上形成有公共电极123和像素电极125，使得液晶层中的液晶分子在水平电场的控制下发生偏转。液晶显示器制造过程中或者在使用过程中，会产生静电积聚在彩色滤光片基板上。当静电积累到一定程度后会形成静电场，对液晶层内部的液晶分子产生干扰，导致显示画面异常。为了防止静电对液晶层的影响，通常利用真空溅射工艺在彩色滤光基板110的上表面形成透明导电的氧化铟锡(Indium tin oxide, ITO)层119。并且，需要增大ITO层的厚度来降低其面电阻，以获得较好的导电效果。然而，ITO层厚度增大导致其透光率明显降低。如图2所示，当ITO层的厚度为200埃时，其面电阻为2000 Ω，波长为400nm光的穿透率为98% ;当ITO层的厚度增加为400埃时，其面电阻降低为500 Ω，但是波长为400nm光的穿透率降低至80%，这使得液晶显示面板整体的亮度显著降低。因此，亟需一种彩色滤光片基板，其表面形成的静电传导层同时具有较低面电阻和较高穿透率。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于解决现有的彩色滤光片基板在静电传导层面电阻减小时，导致穿透率过度降低的技术缺陷。本专利技术的实施例首先提供一种彩色滤光片基板，包括:衬底基板；黑矩阵层，其包括形成在衬底基板的第一表面上的边框；金属网格层，其包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线；其中，金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。在一个实施例中，所述金属网格层的网格线围成多个网格单元，每一网格单元设置为与黑矩阵层的矩形单元一一对应。在一个实施例中，所述金属网格层的网格线围成多个网格单元，每一网格单元设置为与黑矩阵层的至少一个矩形单元对应。在一个实施例中，所述金属网格层的网格线的宽度小于黑矩阵层的边框的宽度。本专利技术的实施例还提供一种彩色滤光片基板的制造方法，包括以下步骤:提供一衬底基板；在衬底基板的第一表面上形成黑矩阵层的边框；在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上形成金属网格层的网格线，并使金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。在一个实施例中，在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上形成金属网格层的网格线的步骤包括:在衬底基板的第二表面上涂布光刻胶；利用掩模板对光刻胶进行曝光并显影，形成缺口区域和残留区域；在缺口区域和残留区域上沉积金属膜；采用显影工艺去掉残留区域以及残留区域上沉积的金属膜，保留由缺口区域上沉积的金属膜，获得金属网格层。在一个实施例中，所述金属网格层包括多个网格单元，每一网格单元设置为与黑矩阵层的矩形单元一一对应。在一个实施例中，所述缺口区域的宽度小于黑矩阵层的边框的宽度。本专利技术的实施例还提供一种液晶显示面板，包括:如上文所述的彩色滤光片基板；阵列基板，与彩色滤光片基板相对设置；其中，所述金属网格层与阵列基板上的接地端连接。本专利技术实施例提供的彩色滤光片基板采用金属网格作为静电传导层，能够同时保证高较高的穿透率和较低的面电阻。进一步的，金属网格的可挠性较好，更适于用在曲面衬底上。另外，传统ITO层中的铟元素为稀有金属，面临原料短缺的危险。本实施例中提供的金属网格能够利用钨(W)、钛(Ti)、钼(Mo)或者铜(Cu)等常见金属原料制造，更具有实用性。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。【附图说明】附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例共同用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中:图1为现有技术中IPS模式的液晶显示面板的结构示意图；图2为现有技术中ITO层的膜厚、面电阻与穿透率的相关关系示意图；图3为本专利技术实施例一的彩色滤光片基板的剖面示意图；图4为本专利技术实施例一的黑矩阵和金属网格结构示意图；图5为本专利技术实施例一的黑矩阵和金属网格的另一种结构的示意图；图6为本专利技术实施例一的黑矩阵和金属网格的另一种结构的示意图；图7为本专利技术实施例二的彩色滤光片基板的制造方法的步骤流程图；图8a为本专利技术实施例二的涂布光刻胶后的彩色滤光片基板的结构示意图；图Sb为本专利技术实施例二的曝光显影后的彩色滤光片基板的结构示意图；图8c为本专利技术实施例二的沉积金属膜后的彩色滤光片基板的结构示意图；图Sd为本专利技术实施例二的再次显影后的彩色滤光片基板的结构示意图；图9为本专利技术实施例二的液晶显不面板的结构不意图。【具体实施方式】为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图对本专利技术作进一步地详细说明。以下结合说明书附图对本专利技术的实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。并且在不相冲突的情况下，本专利技术的实施例中的特征可以相互结合。实施例一本实施例提供一种彩色滤光片基板。如图3所示，彩色滤光片基板300包括衬底基板310，以及分别设置在衬底基板310两侧的黑矩阵层320和金属网格层330。具体而言，黑矩阵层320包括形成在衬底基板310的第一表面上的边框321。而金属网格层330包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线331。相对于传统的ITO层而言，金属网格层330的阻抗更低，当彩色滤光片基板300上积聚静电时，金属网格层330能够更迅速地传导静电。图4为彩色滤光片基板上的金属网格和黑矩阵的结构示意图。在图4的示例中，黑矩阵层包括由边框321交错形成的多个矩形单元Bll至B23，金属网格层包括由网格线331围成的多个网格单元Mll至M23。由于网格线331为不透明的金属线，将网格线331与黑矩阵的边框321尽量重合设置以保证彩色滤光片基板的透光率。也就是说，通过合理设置网格单元Mll至M23的位置，使金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部，以保证网格线331不会遮挡矩阵单元Bll至B23中的透光区域。在图4的示例中，网格单元Mll至M23优选设置为与矩阵单元Bll至B23——对应。然而，液晶显示器的背本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：衬底基板；黑矩阵层，其包括形成在衬底基板的第一表面上的边框；金属网格层，其包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线；其中，金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈珍霞，马小龙，李泳锐，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44