用于从包含全卤代烷基团的受阻苯胺类制备酰胺的方法技术

本发明专利技术提供了一种用于生产包含全氟代烷基团的受阻苯胺类的新颖和改善的方法，该方法以良好产率，并且通过使用接近化学计算量的酰化剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于从包含全卤代烷基团的受阻苯胺类制备酰胺的方法已知包含全卤代烷基团的受阻苯胺类对酰化剂具有低的反应性。进行酰化的标准方法(例如，用酸性氯化物或酸酐在碱或亲核性催化剂的存在下处理)仅会导致低产率，主要的副反应是二酰化。通过使用两当量的酰化剂，继之以一个酰基基团的水解裂解，有可能获得适中产率的这些酰胺类。然而，该方法涉及牺牲至少一个当量的通常贵重的酰化配偶体(参见例如，WO2008000438以及WO2010127928)。显然，现有技术方法的一个显著缺点是过量酰化剂的牺牲使用，这使得这一方法不经济并且尤其不适合于大规模生产。现在已经出人意料地发现一种提高反应性的方法，该方法允许以良好产率并且通过使用接近化学计算量的酰化剂来制备所需酰胺。因此，本专利技术的目标是提供一种用于包含全卤代烷基团的受阻苯胺类的酰化的新颖和改善的方法。因此，本专利技术涉及一种用于制备具有化学式VI的化合物的方法该方法包括至少以下步骤a)至c)：步骤a)使一种具有化学式(I)的化合物与一种具有化学式(II)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(III)的化合物：然后步骤b)使该具有化学式(III)的化合物与一种具有化学式(IV)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(V)的化合物：然后步骤c)使该具有化学式(V)的化合物与水性碱发生反应以获得一种具有化学式(VI)的化合物：其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基；R2是H或C1-C4-烷基；R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，Q1是4-氰基-苯基、2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；优选地，X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基；R2是H或C1-C4-烷基；R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，Q1是4-氰基-苯基、2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；其条件是当R3a是CN时，R3是H，以及当R3a是H时，R3是氟或甲氧基；更优选地，X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基；R2是H或C1-C4-烷基；R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，Q1是4-氰基-苯基、2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；其条件是R3和R3a两者不均是H；并且其条件是当R3a是CN时，R3是H，以及当R3a是H时，R3是氟或甲氧基；在下面对以上描述的反应步骤更详细地进行说明。本专利技术进一步涉及根据化学式(III)的化合物其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基；本专利技术进一步涉及根据化学式(IV)的化合物其中X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R2是C1-C4-烷基；R3是H、氟或甲氧基；R3a是H或CN；Q1是2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；其条件是R3和R3a两者不均是H；优选地，在根据化学式(IV)的化合物中，X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R2是C1-C4-烷基；R3是H、氟或甲氧基；R3a是H或CN；Q1是2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；其条件是R3和R3a两者不均是H；并且其条件是当R3a是CN时，R3是H，以及当R3a是H时，R3是氟或甲氧基；本专利技术进一步涉及根据化学式(V)的化合物其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基；R2是H或C1-C4-烷基；R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，其条件是当R3a是CN时，R3是H；Q1是4-氰基-苯基、2-甲基-4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基；根据本专利技术的这些化合物，即具有化学式(III)、(IV)和(V)的化合物，以及在根据本专利技术的方法中提到的这些化合物可以按不同的几何或旋光异构体或互变异构形式存在。本专利技术涵盖了所有的此类异构体以及互变异构体以及它们的处于所有比例的混合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制备的方法，该方法包括在酸的存在下使一种具有化学式(I)的化合物与一种具有化学式(II)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(III)的化合物：然后步骤b)使该具有化学式(III)的化合物与一种具有化学式(IV)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(V)的化合物：然后步骤c)使该具有化学式(V)的化合物与水性碱发生反应以获得一种具有化学式(VI)的化合物：其中X1和X2各自独立地是卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基甲基、C1‑C4‑烷基磺酰基、C1‑C4‑卤代烷基磺酰基、C1‑C4‑烷基亚磺酰基、C1‑C4‑卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4‑烷硫基、C1‑C4‑卤代烷硫基，X3是七氟丙‑2‑基、1‑[氯(二氟)甲基]‑1,2,2,2‑四氟‑乙基、1‑[溴(二氟)甲基]‑1,2,2,2‑四氟‑乙基或九氟丁‑2‑基；X4是一种选自卤素、C1‑C6‑烷基‑C(O)O‑、苯基‑C(O)O‑、C1‑C6‑烷氧基‑C(O)O‑、苯氧基‑C(O)O‑、苄氧基‑C(O)O‑和咪唑‑1‑基的离去基团；R1是H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基，R2是C1‑C4‑烷基R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，Q1是4‑氰基‑苯基、3‑吡啶基或4‑吡啶基。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.04.02 EP 13162011.4;2013.12.23 EP 13199385.91.一种用于制备的方法，该方法包括在酸的存在下使一种具有化学式(I)的化合物与一种具有化学式(II)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(III)的化合物：然后步骤b)使该具有化学式(III)的化合物与一种具有化学式(IV)的化合物发生反应以获得一种具有化学式(V)的化合物：然后步骤c)使该具有化学式(V)的化合物与水性碱发生反应以获得一种具有化学式(VI)的化合物：其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基、C1-C4-烷基磺酰基、C1-C4-卤代烷基磺酰基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-卤代烷基亚磺酰基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-卤代烷硫基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-、苯氧基-C(O)O-、苄氧基-C(O)O-和咪唑-1-基的离去基团；R1是H、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基，R2是C1-C4-烷基R3是H、氟、甲氧基；R3a是H或CN，Q1是4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基。2.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基，X3是七氟丙-2-基、1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基或九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-的离去基团；R1是H、C1-C4烷基，R2是甲基或乙基Q1是4-氰基-苯基、3-吡啶基或4-吡啶基。3.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基甲基，X3是1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基、1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-、苯基-C(O)O-、C1-C6-烷氧基-C(O)O-的离去基团；R1是H、C1-C4烷基，R2是甲基或乙基Q1是3-吡啶基或4-吡啶基。4.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，X3是七氟丙-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-的离去基团；R1是H、甲基，R2是乙基Q1是4-吡啶基。5.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，X3是七氟丙-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-的离去基团；R1是H、甲基，R2是乙基Q1是4-吡啶基。6.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，X3是1-[氯(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-的离去基团；R1是H、甲基，R2是乙基Q1是4-吡啶基。7.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，X3是1-[溴(二氟)甲基]-1,2,2,2-四氟-乙基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-的离去基团；R1是H、甲基，R2是乙基Q1是4-吡啶基。8.根据权利要求1所述的方法，其中X1和X2各自独立地是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，X3是九氟丁-2-基；X4是一种选自卤素、C1-C6-烷基-C(O)O-的离去基团；R1是H、甲基，R2是乙基Q1是4-吡啶基。9.根据权利要求1所述的方法，其中R3是甲氧基并且R3a是H。10.根据权利要求1所述的方法，其中R3是氟并且R3a是H。11.根据权利要求1所述的方法，其中R3是H并且R3...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·斯米茨，T·皮特纳，O·F·胡特，A·埃德蒙兹，A·斯托勒，P·J·M·容，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH