【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学元件，该光学元件漫散射电磁辐射。该光学元件实际上可以 用在所有的投影应用（例如正面投影和背面投影）、显示应用、（电影）屏幕等等。所描述 的结构而且可以用于均匀化和定向光源。这还开拓了在一般照明中的应用领域，其中亮度 的分布能够被漫射器控制。这些光学元件而且还可以用于静态投影的领域中的应用和用于 结构照明，例如以生成图案、符号、字母或标识。
技术介绍
漫射器和漫射板用在很多微显示和投影应用中。在此，图像出现在散射屏上，其可 以被观看者直接观看到或在光学系统的中间像平面上被观看到。在该方面，该漫射器的目 的是将来自像平面的光尽可能均匀地散射到例如观看者可以位于其中的空间区域中。在大 多数应用中，可以在很大程度上限制该空间区域（所谓的眼框）。在理想的情况下，在该方 面，全部的光应该被该漫射器散射到眼框中。由于在眼框中亮度的均匀分布和同时在眼框 外部的最小强度，投影仪的效率是最佳的，并且在横向于投影屏幕的观看者的位置改变或 观看角度改变的情况下，不会出现亮度波动。 对于这些漫射器的更重要的需求是它们的宽带方面，这是因为总可视光谱范围内 ...
【技术保护点】
一种漫散射电磁辐射的光学元件，表面轮廓存在于所述光学元件的表面上，所述表面轮廓形成不重复规律的表面结构，并且在这个方面形成了升高部分，所述升高部分具有能够达到峰值偏差的高度，并且所述峰值偏差比使用的最大波长的2.5倍大，并且所述升高部分在所有轴向方向上具有在每一平面内的横向延展，所述横向延展比使用的最大波长的5倍大，以及单个所述升高部分在三个空间轴方向上连续地形成，并且在这方面，在所述升高部分上不形成边缘、台阶部、或跃变。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯克里斯托弗·埃克斯坦，乌维·泽伊特纳，
申请(专利权)人：弗劳恩霍弗应用技术研究院，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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