一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。本发明专利技术中的机壳是一个包含多个观察窗口的长方体，机壳的正侧面可整体向上开启，观察盖设于其正侧面；内框结构位于整体机壳内；内框结构中的内框支撑座位于整个内框结构的底部，内框支架的四面布置了网状钢架，网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管，内框前盖与观察盖的位置对应；滑动模块中的导轨座上架设有滑轨，移动滑块与滑轨配合，移动滑块在滑轨上移动时，带动滑动涡流管支架移动，仪器放置架位于移动滑块的路径上，用于放置待清洗的仪器设备。本发明专利技术不仅可以快速、高效地对深海仪器、设备等进行清洗，也能满足仪器清洁度的要求，并且不会造成二次污染。

【技术实现步骤摘要】
一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
本专利技术可以运用于仪器、仪表等湖泊或者海洋测量设备的清洗领域，具体涉及一种可产生涡流的水射流清洗装置。
技术介绍
在海洋、湖泊等相关领域的探测和科考实验中，众多工况都需将实验仪器长时间放置在某特定环境下。使用结束收回后，仪器或设备表面都会残留大量的污染物或者腐蚀物。这些污物包括海水中的有机物、藻类等水生物和泥土、砂石等。这些物质长期残留在仪器设备表面，会造成仪器精度下降甚至设备损害。所以，每次实验检测完成后，都必须及时清洗这些检测设备与仪器。传统的清洗方式主要是检测人员的人工清洗方式，清洗过程中，工作人员直接用海水或者湖水冲洗设备表面或者内部。所以，清洁度并不能完全保证，而且清洗过程相对开放，容易造成工作环境的污染。甚至可能污染部分检测设备或仪器的关键部件。因此，亟需专利技术一种封闭环境下，半自动清洗深海检测设备或者元件的设备。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术的不足，提供了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。本专利技术包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面，其中机壳是一个包含多个观察窗口的长方体，机壳的正侧面可整体向上开启，观察盖设本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置，包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面，其特征在于：其中机壳是一个包含多个观察窗口的长方体，机壳的正侧面可整体向上开启，观察盖设于其正侧面；内框结构位于整体机壳内；所述内框结构包含内框支撑座，内框前盖，涡流导流管，内框支架和滑动模块；内框支撑座位于整个内框结构的底部，内框支架的四面布置了网状钢架，网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管，内框前盖与观察盖的位置对应；所述滑动模块包含导轨座，仪器放置架，滑动涡流支架，移动滑块和滑轨，导轨座上架设有滑轨，移动滑块与滑轨配合，移动滑块在滑轨上移动时，带动滑动涡流管支架移动，仪器放置架用于放置待清洗的仪...

【技术特征摘要】
1.一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置，包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面，其特征在于：其中整体机壳是一个包含多个观察窗口的长方体，整体机壳的正侧面可整体向上开启，观察盖设于其正侧面；内框结构位于整体机壳内；所述内框结构包含内框支撑座，内框前盖，涡流导流管，内框支架和滑动模块；内框支撑座位于整个内框结构的底部，内框支架的四面布置了网状钢架，网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管，内框前盖与观察盖的位置对应；所述滑动模块包含导轨座，仪器放置架，滑动涡流管支架，移动滑块和滑轨，导轨座上架设有滑轨，移动滑块与滑轨配合，移动滑块在滑轨上移动时，带动滑动涡流管支架移动，仪器放置架用于放置待清洗的仪器设备，其位于移动滑块的路径上；所述的涡流导流管包含涡流预流管、水管接头、转动接头、水流出口和接头固定装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：田晓庆，潘华辰，吴文吉，杨怡君，李国民，
申请(专利权)人：杭州电子科技大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33