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一种缓冲器制造技术

技术编号:12301101 阅读:84 留言:0更新日期:2015-11-11 11:23
本发明专利技术涉及一种缓冲器,包括:呈圆柱形,且用于填充缓冲介质的缸体,在该缸体的开口端设有缸盖,并将开口封闭,所述缸盖的中心轴线处设有轴向延伸的中心通孔;由一活塞杆穿过该中心通孔,且该活塞杆顶端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动;所述活塞体组件的右端面上设有传感器组,该传感器组包括适于检测介质温度的温度传感器,该温度传感器与一处理器模块相连;所述缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块,所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种带有温度检测装置的缓冲器,其特征在于包括:呈圆柱形,且用于填充缓冲介质的缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动;所述活塞体组件的右端面上设有传感器组,该传感器组包括适于检测介质温度的温度传感器,该温度传感器与一处理器模块相连;所述缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块,所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度;在缓冲工作时,所述缸体的右端部作为与滑块相碰撞的接触面,该滑块为磁性滑块;所述缸体的侧壁中绕设有电磁线圈,所述传感器组包括用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与所述处理器模块相连;当所述滑块撞击所述缸体的右端部时,所述处理器模块适于根据介质压力值,控制一直流电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的直流电流,使所述电磁线圈产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至所述处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制所述直流电流驱动模块产生反向输出直流电流,以释放所述滑块;所述活塞体组件与所述缸体的内壁活动密封配合,且该活塞体组件包括:同轴设置的左、右活塞体,该左、右活塞体上对称设有若干个用于介质轴向流动的通孔,左、右活塞体的相邻端面之间的密封配合,以使作活塞运动时,介质仅通过所述左、右活塞体上的各通孔实现往返流动;所述左活塞体内设有用于放置电机的空腔,该电机由所述处理器模块控制,其转子连接于所述右活塞体,用于根据介质压力带动该右活塞体旋转,以控制左、右活塞体上的各通孔的相对位置关系,进而控制介质流量,即控制活塞运动速度;所述电机为步进电机。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:蒋超
类型:发明
国别省市:江苏;32

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