一种纯银U盘制造技术

本实用新型专利技术涉及一种纯银U盘，包含U盘主体；所述U盘主体的下端设置有与外部相通的凹槽；所述凹槽的两侧面分别向内倾斜4-5度；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片；本实用新型专利技术通过在壁的内侧设置有斜度，在冲压时能承受较大的力，防止变形，而且银能与许多的毒素发生化学反应，具有卓越的消毒性能，保护使用者的健康，并且制作方法简单。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及U盘领域，特指一种纯银U盘。
技术介绍
随着现在生活越来越好，对U盘的材料和制作也越来越高，由于银能与许多的毒素发生化学反应，具有卓越的消毒性能，所以现在有很多公司将银作为材料制作U盘；由于银较软且与USB接口连接处的壁要制作的很薄，导致在制作时容易变形，为此，我们研发了一种纯银U盘，通过在壁的内侧设置有斜度，在制作时能防止变形。
技术实现思路
本技术目的是为了克服现有技术的不足而提供一种纯银U盘，通过在壁的内侧设置有斜度，在制作时能防止变形。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是:一种纯银U盘，包含U盘主体；所述U盘主体的下端设置有与外部相通的凹槽；所述凹槽的两侧面分别向内倾斜4-5度；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片。优选的，所述U盘主体下端凹槽处的壁厚为0.5-0.8mm。优选的，所述U盘主体的上端设置有通孔。由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点:本技术所述的纯银U盘通过在壁的内侧设置有斜度，在冲压时能承受较大的力，防止变形，而且银能与许多的毒素发生化学反应，具有卓越的消毒性能，保护使用者的健康。【附图说明】下面结合附图对本技术技术方案作进一步说明:附图1为本技术所述的纯银U盘的主视图；附图2为本技术所述的纯银U盘的后视图；附图3为本技术所述的纯银U盘中U盘主体的仰视图；其中:1、U盘主体；11、通孔；12、凹槽；2、芯片。【具体实施方式】下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步的详细说明。附图1-3为本技术所述的纯银U盘，包含U盘主体I ;所述U盘主体I的上端设置有通孔11，便于悬挂U盘，下端设置有与外部相通的凹槽12 ;所述U盘主体I下端凹槽12处的壁厚为0.5-0.8mm，且凹槽12的左右两侧面分别向内倾斜4_5度，在冲压时能承受较大的力，防止变形；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片2 ;所述U盘主体的正反两面分别设置有印章和图标。由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点:本技术所述的纯银U盘通过在壁的内侧设置有斜度，在冲压时能承受较大的力，防止变形，而且银能与许多的毒素发生化学反应，具有卓越的消毒性能，保护使用者的健康。以上仅是本技术的具体应用范例，对本技术的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本技术权利保护范围之内。【主权项】1.一种纯银U盘，其特征在于:包含U盘主体；所述U盘主体的下端设置有与外部相通的凹槽；所述凹槽的两侧面分别向内倾斜4-5度；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片。2.根据权利要求1所述的纯银U盘，其特征在于:所述U盘主体下端凹槽处的壁厚为0.5-0.8mm。3.根据权利要求1或2所述的纯银U盘，其特征在于:所述U盘主体的上端设置有通孔。【专利摘要】本技术涉及一种纯银U盘，包含U盘主体；所述U盘主体的下端设置有与外部相通的凹槽；所述凹槽的两侧面分别向内倾斜4-5度；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片；本技术通过在壁的内侧设置有斜度，在冲压时能承受较大的力，防止变形，而且银能与许多的毒素发生化学反应，具有卓越的消毒性能，保护使用者的健康，并且制作方法简单。【IPC分类】G11C7/10【公开号】CN204732160【申请号】CN201520393865【专利技术人】宋廷雷 【申请人】苏州银艺文化发展有限公司【公开日】2015年10月28日【申请日】2015年6月9日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纯银U盘，其特征在于：包含U盘主体；所述U盘主体的下端设置有与外部相通的凹槽；所述凹槽的两侧面分别向内倾斜4‑5度；所述凹槽内设置有连接USB接口的芯片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宋廷雷，
申请(专利权)人：苏州银艺文化发展有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32