双重SGLT1/SGLT2抑制剂制造技术

技术编号:12256170 阅读:99 留言:0更新日期:2015-10-28 19:25
本发明专利技术涉及式(I)的化合物,其作为双重SGLT1/SGLT2抑制剂用于糖尿病治疗中,其中A选自(AA)和(BB)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种式(I)的化合物或其光学异构体、对映体、非对映体、顺‑反异构体、外消旋体、前药或药学上可接受的盐,(I)其中R1为羟基、C1‑4烷氧基、杂芳基、或卤素;R2为H、C1‑2烷基、或卤素;R3为C1‑4烷基、卤素、C1‑4烷氧基、羟基、C3‑5环烷基、氰基、或C1‑2烯基;其中所述C1‑4烷基可被卤素取代;R4为H或C1‑4烷基;R5为H或C1‑4烷基;或另选地,R4与R5连接在一起形成环烷基、烯基、或氧代基;A选自:并且R6为H、卤素、或C1‑4烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:M高尔郭纪鸿徐国章赵保平
申请(专利权)人:詹森药业有限公司
类型:发明
国别省市:比利时;BE

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