【技术实现步骤摘要】
本专利技术设及电流镜,尤其设及一种高精度宽电流范围电流镜。
技术介绍
在模拟电路中,经常使用电流镜产生电路偏置电流、负载电流和精确的参考电流。 如图1所示,所用的电流镜常采用饱和管镜像。工作在饱和区,且只考虑一阶效应的MOS管 的源漏电流公式如式(1)所示。相邻的MOS管其y"、C"和VTH都是相同的,由公式(1)知 道,如果VGS相同,则两个MOS管的漏源电流ID只和W/L成比例。如图1所示的电流11和 12与Iref成比例。 但是MOS管都存在二级效应,沟道长度调制效应。就当栅和漏之间的电压差增大 时,实际的反型沟道长度逐渐减小。也就是说,当工作在饱和区的两个MOS管VGS相同,但 是VDS不相同,则实际上两个MOS管的反型沟道长度不相同,源漏电流也不相同,电流镜像 就存在偏差。为保证电流镜的镜像精度,需要让工作于饱和区电流镜像的MOS管漏源电压 相等。于是为提高电流镜像精度,出现了图2所示的电流镜像电路。 但上述都是工作在饱和区的MOS管进行电流镜像。MOS管工作在饱和区的条件如 式(3)所示,为工作于饱和区VGS必需低于VDS+VTH。由式( ...
【技术保护点】
一种高精度宽电流范围电流镜,其特征在于:包括参考电流输入部分、电流档位判断与控制逻辑、镜像电流输出部分;所述参考电流输入部分、镜像电流输出部分分别与所述电流档位判断与控制逻辑连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:李科举,秦鹏举,
申请(专利权)人:深圳市富满电子集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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