用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器和用于使用该机器的方法技术

本发明专利技术提供了一种用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器，该机器包括一个真空室(8)，该真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品的一个内部空间(31)；连接到所述真空室(8)上的一个真空泵(20)；一个喷雾器(40)，该喷雾器被配置成用于进行所述组合物的真空雾化处理以用于将该组合物沉积在所述真空室中的所述光学制品上；以及一个控制单元(2)，该控制单元被配置成用于控制所述真空泵；所述控制单元被配置成用于引起该真空泵从所述真空室中抽吸气体以便使该真空室达到所述真空雾化处理所需的一个预定所需压力，并且所述控制单元和所述喷雾器被配置成使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品的至少一个表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器和用于使用该机器的方法专利
本专利技术涉及用于使用预定涂覆组合物(如防污涂覆组合物)或防雾涂覆组合物或粘合涂覆组合物涂覆光学制品(如眼镜片，并且具体地优选地安装在眼镜架上的眼镜镜片)的机器。本专利技术进一步涉及一种用于使用这种机器的方法。
技术介绍
众所周知，镜片、并且具体地眼镜镜片包括一个具有适应于佩戴者的几何特征的眼科基片。该眼科基片需要添加涂层，例如，耐磨损涂层以增加镜片的耐磨性，减反射涂层以降低光的反射，以及涂于减反射涂层之上的防污涂层或防雾涂层。防污涂层提供能够对例如有机杂质污染更具抗性并且比减反射涂层更容易清洁的外涂层，而防雾涂层提供能够在非常潮湿的环境中或在快速温度变化期间防止任何雾形成的外涂层。镜片的佩戴者可能希望替代这种防污顶涂层或防雾顶涂层，因为所述对应顶涂层的效果可能随时间推移而降低或者可能对新环境不适合。用于除去第一防污涂层并且以一个第二防污涂层替代它的一种已知方法描述于美国专利申请US2005/0008784中，其中进行一种低压等离子体处理以除去初始涂覆在镜片上的第一防污涂层。接着，例如通过用织造或非织造织物擦拭、喷涂、浇注、辊涂或浸涂镜片来将第二防污涂层(一个新的)涂覆在镜片上。因此，第一防污涂层被除去并且被第二防污涂层替代。这种方法还是从国际专利申请WO2004/111691已知的，其中进行在约大气压下技术物种的活化处理，具体地电晕放电处理或一种等离子体处理，以用于除去涂覆的光学镜片的初始最外涂层。接着，通过真空涂覆、浸渍涂覆、旋涂、喷涂或冲压涂覆将最终涂层、具体地防污涂层沉积在镜片上。因此，镜片的初始最外涂层被除去并且被防污涂层替代。本专利技术因此涉及一种用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器，该机器是易于实现、紧凑且经济的。
技术实现思路
本专利技术因此提供一种用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器，该机器包括：-一个真空室，该真空室具有被配置成接纳所述光学制品的一个内部空间；-连接到所述真空室上的一个真空泵；-一个喷雾器，该喷雾器被配置成进行所述预定涂覆组合物的真空雾化处理以用于将该预定涂覆组合物沉积在所述真空室中的所述光学制品上；以及-一个控制单元，该控制单元被配置成用于控制所述真空泵；所述控制单元被进一步配置成用于引起该真空泵从所述真空室中抽吸气体以便使所述真空室达到所述真空雾化处理所需的一个预定压力；并且所述控制单元和所述喷雾器被进一步配置成用于使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品的至少一个表面。根据本专利技术的机器的真空雾化处理(还被称为真空喷涂处理)确保以一种受控的方式(由于控制单元)并在清洁环境中(因为在真空喷涂处理之前真空泵引起从真空室中抽吸气体)湿法涂覆沉积一个薄涂层，因此无漂浮颗粒可以被液滴截留。归功于根据本专利技术的机器，在沉积过程之前，液体涂覆组合物在于真空室中被雾化之前可以是在大气压下或接近于大气压。真空泵用于获得该室中的真空。在进行真空雾化处理之前，真空泵被连接(引起该泵抽吸的一种流动连接)到真空室上，这样使得真空喷涂处理的质量得到提高。在真空雾化处理期间，真空泵可以是连接的或断开连接的。从申请人的专利申请(该申请当时未公开)PCT/IB2012/053624已经进一步已知一种机器和一种使用这种机器的方法，该方法包括进行等离子体处理以用于除去涂覆的光学镜片的初始最外涂层的步骤和通过真空蒸发将最终涂层沉积在同一室中的步骤。这种解决方法提供将最终涂层沉积在清洁的表面上而无需将镜片从清洁室中取出。用于形成最终涂层的液体组合物必须是可蒸发的。根据本专利技术的机器的真空雾化处理允许能或不能被蒸发的化合物的沉积，这样使得相较于上述的已知蒸发处理可以使用更大范围的液体涂覆组合物。此外，根据本专利技术的机器是紧凑的。因此，根据本专利技术的机器可以被安置在眼镜商的处所处，该眼镜商从而能够容易地使用所述机器。实际上，本专利技术的机器可以由眼镜商操作，而无需除去眼镜镜片和/或将眼镜镜片送到制造商。尤其旨在将防污或防雾顶涂层沉积在已知或未知来源的眼镜镜片上，如通常未由无机减反射涂层涂覆的太阳镜镜片上；或替代现有防污顶涂层，这是由于降低的性能抑或因为拥有者希望另一种顶涂层，如防雾顶涂层，或反之亦然。此外，可以沉积其他种类的顶涂层。应注意，在此的术语“雾化(nebulization)”对应于液体转化成细喷雾或雾化(atomization)。接下来，表达“气雾剂微滴的薄雾”在此意指喷雾器被配置成用于将液体涂覆组合物转化(雾化)成在薄雾的形状下悬浮排列的多个液滴。根据优选的特征，所述控制单元被配置成控制所述喷雾器以用于使用所述预定涂覆组合物涂覆所述光学制品。根据优选的特征，该机器进一步包括一个等离子体发生器，该等离子体发生器被配置成用于进行所述真空室中的所述光学制品的真空等离子体处理，所述控制单元被配置成用于控制所述等离子体发生器以用于除去所述光学制品的一个初始最外涂层或用于活化该光学制品的一个表面，并且在真空等离子体处理期间引起所述真空泵从所述真空室中抽吸气体。换言之，根据本专利技术的机器被配置成用于首先通过向初始基底涂层施加等离子体处理并且接着通过在光学制品上雾化一个预定涂层来涂覆或重新涂覆所述光学制品。有利地在机器的同一真空室中实施两个不同的处理，这样使得该机器是简单且经济的。真空泵因此在连续进行的两个处理之间连接至真空室。应注意的是，等离子体处理是方便的，因为它既不会劣化通常在初始最外涂层(如防污或防雾涂层)之下的减反射涂层，也不会劣化可以代替减反射堆叠存在于最外涂层之下的任何表面聚合物薄膜，这可以是下文所述的例如在本专利技术的先前使用期间沉积的一种通用粘合涂层的情况。根据优选为非常简单、方便和经济的用于实现根据本专利技术的机器的特征：-所述预定液体涂覆组合物在所述真空雾化处理之后在所述光学制品上形成一个顶涂层，该顶涂层被配置成用于给所述光学制品带来一种预定功能，如防污或防雾；-所述预定液体涂覆组合物包含单体，这些单体可以在所述真空雾化处理之后在所述光学制品上聚合成一个聚合物涂层，如被配置成接纳一个预定顶涂层的通用粘合涂层；-在所述真空雾化处理以便形成所述聚合物涂层之后，所述控制单元和所述喷雾器被进一步配置成用于通过将为液体的另一种预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾来在所述真空室中进行另一个真空雾化处理，所述微滴被引导朝向所述光学制品的至少所述表面以便形成被配置成用于给所述光学制品带来一种预定功能，如防污或防雾的顶涂层，并且所述控制单元被进一步配置成用于在所述两个真空雾化处理之间引起所述真空泵从所述真空室中抽吸气体，以便使所述真空室达到所述另一个真空雾化处理所需的另一个预定压力；和/或-该机器进一步包括一个蒸发装置，该蒸发装置被配置成用于进行一种防污或防雾涂覆组合物的一种真空蒸发处理，以用于将该组合物沉积在通过雾化在所述真空室中的所述光学制品上而沉积的所述聚合物涂层上，所述控制单元被配置成用于控制所述蒸发装置以用于使用所述防污或防雾涂覆组合物重新涂覆所述光学制品并且被配置成用于在真空蒸发处理期间引起所述真空泵不从所述真空室中抽吸气体。根据优选的特征，所述喷雾器包括一个喷嘴系统并且所述机器进一步包括一个容器，该容器包含确本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品(28)的机器，该机器包括：‑一个真空室(8)，该真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品(28)的一个内部空间(31)；‑连接到所述真空室(8)上的一个真空泵(20)；‑一个喷雾器(40)，该喷雾器被配置成用于进行所述预定涂覆组合物的真空雾化处理以便将该预定涂覆组合物沉积在所述真空室(8)中的所述光学制品(28)上；以及‑一个控制单元(2)，该控制单元被配置成用于控制所述真空泵(20)；所述控制单元(2)被进一步配置成用于引起该真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体以便使所述真空室(8)达到所述真空雾化处理所需的预定压力；并且所述控制单元(2)和所述喷雾器(40)被进一步配置成用于使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品(28)的至少一个表面(35，36)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品(28)的机器，该机器包括：-一个真空室(8)，该真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品(28)的一个内部空间(31)；-连接到所述真空室(8)上的一个真空泵(20)；-一个喷雾器(40)，该喷雾器被配置成用于进行所述预定涂覆组合物的真空雾化处理以便将该预定涂覆组合物沉积在所述真空室(8)中的所述光学制品(28)上；-一个等离子体发生器(11)，该等离子体发生器被配置成用于进行对所述真空室(8)中的所述光学制品(28)的真空等离子体处理，-一个控制单元(2)，该控制单元被配置成用于控制所述真空泵(20)；所述光学制品(28)是眼镜片；所述控制单元(2)被配置成用于控制所述等离子体发生器(11)以用于除去所述光学制品(28)的一个初始最外涂层或用于活化该光学制品的一个表面，并且在真空等离子体处理期间引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体；所述控制单元(2)被进一步配置成用于引起该真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体以便使所述真空室(8)达到所述真空雾化处理所需的预定压力；并且所述控制单元(2)和所述喷雾器(40)被进一步配置成用于使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品(28)的至少一个表面(35，36)。2.根据权利要求1所述的机器，其中所述控制单元(2)被配置成用于控制所述喷雾器(40)以用于使用所述预定涂覆组合物涂覆所述光学制品(28)。3.根据权利要求1至2中任一项所述的机器，其中所述预定液体涂覆组合物在所述真空雾化处理之后在所述光学制品(28)上形成一个顶涂层，该顶涂层被配置成用于给所述光学制品(28)带来一种预定功能。4.根据权利要求1至2中任一项所述的机器，其中所述预定液体涂覆组合物包含单体，这些单体可以在所述真空雾化处理之后在所述光学制品(28)上聚合成一个聚合物涂层。5.根据权利要求4所述的机器，其中在所述真空雾化处理以便形成所述聚合物涂层之后，所述控制单元(2)和所述喷雾器(40)被进一步配置成用于通过将为液体的另一种预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾来在所述真空室(8)中进行另一个真空雾化处理，所述微滴被引导朝向所述光学制品(28)的至少所述表面(35，36)以便形成被配置成用于给所述光学制品(28)带来一种预定功能的顶涂层，并且所述控制单元(2)被进一步配置成用于在所述两个真空雾化处理之间引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体，以便使所述真空室(8)达到所述另一个真空雾化处理所需的另一个预定压力。6.根据权利要求4所述的机器，进一步包括一个蒸发装置(10)，该蒸发装置被配置成用于进行一种防污或防雾涂覆组合物的真空蒸发处理，以用于将该组合物沉积在通过雾化在所述真空室(8)中的所述光学制品(28)上而沉积的所述聚合物涂层上，所述控制单元(2)被配置成用于控制所述蒸发装置(10)以用于使用所述防污或防雾涂覆组合物重新涂覆所述光学制品(28)并且被配置成用于在真空蒸发处理期间引起所述真空泵(20)不从所述真空室(8)中抽吸气体。7.根据权利要求1至2中任一项所述的机器，其中所述喷雾器(40)包括一个喷嘴系统(43)，并且所述机器(1)进一步包括一个容器(50)，该容器包含确定体积的所述预定涂覆组合物和至少一个导管(47)，该至少一个导管被配置成用于将所述容器(50)连接到所述真空室(8)上以便允许所述容器(50)与所述喷雾器(40)之间的流体联通。8.根据权利要求7所述的机器，其中所述喷嘴系统(43)包括布置在所述真空室(8)中的至少一个喷嘴头(44)，并且所述机器(1)进一步包括至少一个入口端口(42)和与所述至少一个入口端口(42)联通的至少一个出口端口(45)，所述至少一个导管(47)与所述至少一个入口端口(42)处于流体联通，并且所述至少一个喷嘴头(44)与至少一个出口端口(45)处于流体联通。9.根据权利要求7所述的机器，其中所述喷嘴系统(43)被配置成用于根据由一个预定立体角限定的一个圆锥形或拟圆锥形投射引导所述微滴朝向所述光学制品(28)的至少一个表面(35，36)。10.根据权利要求7所述的机器，进一步包括一个支撑件(27)，所述光学制品(28)被配置成被接纳在该支撑件上，所述支撑件(27)和所述喷嘴系统(43)被配置成用于将所述光学制品(28)安置在距所述喷嘴系统(43)的一个预定距离处。11.根据权利要求7所述的机器，其中所述容器(50)被配置用于在所述至少一个导管(47)中推进所述确定体积的所述预定涂覆组合物直到所述喷嘴系统(43)，在该喷嘴系统，所述预定涂覆组合物在所述真空室(8)中被雾化成所述气雾剂微滴的薄雾。12.根据权利要求11所述的机器，其中所述容器(50)包括一种气态推进剂，该气态推进剂用于在所述至少一个导管(47)中并且朝向所述喷嘴系统(43)推进所述确定体积的所述预定涂覆组合物。13.根据权利要求7所述的机器，其中所述容器(50)包括含有所述确定体积的所述预定涂覆组合物的一个内部空间(51)，所述内部空间(51)具有等于或接近于大气压的一个内部压力。14.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·富尔南，
申请(专利权)人：埃西勒国际通用光学公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR