膜形成方法及膜形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种膜形成方法及膜形成装置，该膜形成方法中，即使增加膜厚，侧面的倾斜也不易变平缓。沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘，使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化，从而形成外缘部，之后，通过在比外缘部更靠内侧的区域，使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化来形成内侧部，由此形成由外缘部及内侧部构成且上表面凹陷的单元层。在单元层之上进一步堆积分别由外缘部及内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状。

【技术实现步骤摘要】
膜形成方法及膜形成装置本申请主张基于2014年3月11日申请的日本专利申请第2014-047088号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
本专利技术涉及一种在基板涂布液滴化后的膜材料并使该膜材料固化而形成膜的方法、及膜形成装置。
技术介绍
已知有从喷嘴头(喷墨头)吐出液态的薄膜材料，从而在基板的表面形成薄膜的技术(例如，专利文献1)。薄膜材料使用光固化性树脂(例如，紫外线固化性树脂)。通过对附着于基板上的薄膜材料照射固化用的光，从而使薄膜材料固化而形成薄膜。专利文献2中公开的方法中，首先，通过使液滴化后的薄膜材料着落于应形成薄膜的区域的边缘，从而形成边缘图案。在形成边缘图案之后，通过使薄膜材料着落于应形成薄膜的区域的内侧，利用液态的薄膜材料覆盖应形成薄膜的区域。之后，通过对液态的薄膜材料照射固化用的光，从而使薄膜材料固化。边缘图案阻挡液态的薄膜材料的流动。在应形成薄膜的区域的内侧，着落于基板表面的薄膜材料在横向上连续，从而形成表面平坦的液态的被膜。由于表面变得平坦后使薄膜材料固化，因而能够形成表面平坦的薄膜。专利文献1：日本专利第3544543号公报专利文献2：国际公开第2013/011775号大电流用的厚铜基板的铜膜厚度为50μm～2mm左右。为了形成厚铜基板的铜膜，需要使绝缘膜的厚度达到与铜膜厚度相同的程度。若使用以往的喷嘴头的薄膜形成方法形成如此厚的膜，则膜的侧面会倾斜，其斜面会变得平缓。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种即使增加膜厚，侧面的倾斜也不易变平缓的膜形成方法、及膜形成装置。根据本专利技术的一种观点提供一种膜形成方法，该方法具有：沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘，使膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而形成外缘部，之后，通过在比所述外缘部更靠内侧的区域，使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部，由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层的工序；在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状的工序。根据本专利技术的另一种观点提供一种膜形成装置，其具有：载物台，保持基板；喷嘴头，与被所述载物台保持的所述基板对置，并且具有将光固化性膜材料液滴化后向所述基板的表面吐出的多个喷嘴孔；光源，对涂布于所述基板的所述膜材料照射固化用的光；移动机构，使所述基板相对于所述喷嘴头及所述光源相对移动；及控制装置，控制所述喷嘴头及所述移动机构，所述控制装置控制所述喷嘴头及所述移动机构执行如下操作：沿着所述基板的表面的被涂布区域的边缘，使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而形成外缘部，之后，在比所述外缘部更靠内侧的区域，使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部，由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层，在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状。通过在形成外缘部之后形成内侧部，形成内侧部时被涂布的膜材料不会向外缘部的外侧流出。由于单元层的上表面凹陷，因此在单元层之上形成外缘部时，能够减少向外侧流出的膜材料的量。由此，即使增加膜厚，也能够抑制膜的侧面变平缓。附图说明图1是实施例的膜形成装置的示意图。图2A是实施例的膜形成装置的包括喷嘴头的喷嘴单元的立体图，图2B是喷嘴单元的仰视图。图3是实施例的膜形成装置的载物台及喷嘴单元的俯视图。图4A是表示形成膜时应涂布膜材料的区域(被涂布区域)的平面形状的一部分的俯视图，图4B是表示定义被涂布区域的形状的图像数据的一部分的图。图5A是表示形成外缘部时成为膜材料的涂布对象的像素的图，图5B～图5D是形成外缘部的工序的中间阶段，及形成后的基板及外缘部的剖视图。图6A是表示形成内侧部时成为膜材料的涂布对象的像素的图，图6B～图6C是形成内侧部的工序的中间阶段，及形成后的基板、外缘部及内侧部的剖视图。图7A～图7D是形成膜的工序的中间阶段，及形成后的基板及膜的剖视图。图8A～图8F是用于说明实施例的膜形成方法的效果的膜形成的中间阶段的基板及膜的剖视图。图9A及图9B是用于说明制造厚铜基板的方法的制造中间阶段的厚铜基板的剖视图。图中：10-基台，11-移动机构，12-载物台，20-喷嘴头，21-喷嘴单元，22-底板，23-喷嘴孔，24-固化用光源，30-控制装置，50-基板，52-被涂布区域，53-像素，53a-形成外缘部时的涂布对象的像素，53b-形成内侧部时的涂布对象的像素，55-外缘部，55a-外缘部的一部分，56-内侧部，56a-内侧部的一部分，57-单元层，58-平坦化层，60-膜，61-膜材料，63-配置厚铜的区域，64-厚铜。具体实施方式图1中示出实施例的膜形成装置的示意图。在基台10之上经由移动机构11支承有载物台12。定义x轴及y轴朝向水平方向，z轴朝向铅垂方向的xyz正交坐标系。移动机构11通过控制装置30的控制，使载物台12沿x方向及y方向移动。在载物台12的上表面(保持面)上保持有应形成膜的基板50。基板50例如通过真空卡盘固定于载物台12。在载物台12的上方，喷嘴头20支承为能够升降。喷嘴头20具有与基板50对置的多个喷嘴孔。从各喷嘴孔朝向基板50的表面吐出被液滴化的光固化性(例如紫外线固化性)的膜材料。通过控制装置30控制薄膜材料的吐出。图1中示出了使喷嘴头20相对于基台10静止，并使基板50移动的例子，相反，也可以使基板50相对于基台10静止，并使喷嘴头20移动。如此，能够构成为，使基板50及喷嘴头20中的一个相对于另一个相对移动。图2A中示出包括喷嘴头20的喷嘴单元21的立体图。在底板22沿y方向排列安装有多个例如2个喷嘴头20。每个喷嘴头20具有沿x方向排列的多个喷嘴孔23。在y方向上相邻的2个喷嘴头20之间、及比两端的喷嘴头20更靠外侧分别安装有固化用光源24。固化用光源24对涂布于基板50(图1)的膜材料照射固化用的光(例如，紫外线)。图2B中示出喷嘴单元21的仰视图。2个喷嘴头20沿y方向排列配置。在2个喷嘴头20之间、及比最外侧的喷嘴头20更靠外侧分别配置有固化用光源24。各个喷嘴头20的喷嘴孔23沿x方向交错排列。若着眼于1个喷嘴头20，则作为一例，在x方向上以相当于300dpi的间距配置有喷嘴孔23。一个喷嘴头20相对于另一个喷嘴头20配置为沿x方向错开半个喷嘴间距。因此，2个喷嘴头20的喷嘴孔23作为整体在x方向上以相当于600dpi的间距配置。图3中示出载物台12、基板50及喷嘴单元21的俯视图。载物台12的保持面上保持有基板50。基板50的上方支承有喷嘴单元21。在喷嘴单元21的底板22安装有喷嘴头20及固化用光源24。移动机构11通过控制装置30的控制，使载物台12沿x方向及y方向移动。控制装置30中存储有定义应形成膜的平面形状的图像数据。图像数据例如包括二维排列的多个像素。控制装置30根据该图像数据来控制从喷嘴头20吐出膜材料的时刻。通过使基板50沿y方向移动并且从喷嘴孔23(图2B)使膜材料液滴化后吐出，能够在x方向上以600dpi的分辨率将膜材料涂布于基板50。涂布于基板5本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜形成方法，该方法具有：沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘，使膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而形成外缘部，之后，在比所述外缘部更靠内侧的区域，使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部，由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层的工序；在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状的工序。

【技术特征摘要】
2014.03.11 JP 2014-0470881.一种膜形成方法，该方法具有：沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘，使膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而形成外缘部，之后，在比所述外缘部更靠内侧的区域，使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部，由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层的工序；在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状的工序。2.根据权利要求1所述的膜形成方法，其中，在1个所述单元层的所述外缘部的形成工序中，沿着所述被涂布区域的边缘使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而形成所述外缘部的一部分，且在所述外缘部的一部分之上进一步使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化，从而使所述外缘部的一部分变高，由此形成所述外缘部。3.根据权利要求2所述的膜形成方法，其中，所述被涂布区域的形状由多个像素构成的图像数据定义，使所述外缘部的一部分变高时，对与形成下侧的所述外缘部的一部分时涂布了所述膜材料的所述像素相同的像素，进一步涂布所述膜材料。4.一种膜形成装置，其具有：载物台，保持基板；喷嘴头，与被所述载物台保持的所述基板对置，并且具有将光固化性膜材料液滴化后向所述基板的表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本裕司，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP