【技术实现步骤摘要】
一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置
本专利技术属于短波光学领域,具体涉及一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置。
技术介绍
在半导体芯片EUV光刻、同步辐射软X射线等短波光学系统中,工作环境下残存的碳氢化合物在光的辐照下会产生游离碳,在光学元件表面形成碳沉积污染,导致光学反射率降低,工作效率受到影响。为延长光学元件的使用寿命,应及时清理光学元件表面的碳沉积污染,恢复光学元件的光学反射率。美国Sandia国家实验室对目前现有的各种清洗方法做了深入研究(StudiesofEUVContaminationMitigation),研究结果表明各种方法都有其性能上的缺点,如造成光学元件表面的氧化,损伤光学元件表面,清洗速率较低等。
技术实现思路
本专利技术为了解决现有技术的清洗方法造成光学元件表面的氧化,损伤光学元件表面,清洗速率较低的问题,提出了一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置。本专利技术的技术方案为:一种光学元件表面碳污染清洗装置,其包括:氢原子发射器1、工作距离调整滑台2、第一反射率计3、石英天平4、清洗腔5、入射角度调整转台7、分子泵8第二反射率计9、射频等离子体电镜清洗仪10和样品台6;氢原子发射器1、第一反射率计3、分子泵8、第二反射率计9、射频等离子体电镜清洗仪10接口安装在清洗腔5外部与其端口密封、紧固,工作距离调整滑台2通过支撑架与氢原子发射器1联接,样品台6设置在清洗腔5内侧底部中心处,石英天平4和样品设置在样品台6上,入射角度调整转台7从清洗腔5底部与样品台联接。所述氢原子发射器1粒子源为氢气加热裂解氢原子。所述射频等离子体电镜清洗仪10粒子源 ...
【技术保护点】
一种光学元件表面碳污染清洗装置,其包括:氢原子发射器(1)、工作距离调整滑台(2)、第一反射率计(3)、石英天平(4)、清洗腔(5)、入射角度调整转台(7)、分子泵(8)第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)和样品台(6),其特征是,氢原子发射器(1)、第一反射率计(3)、分子泵(8)、第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)接口安装在清洗腔(5)外部与其端口密封、紧固,工作距离调整滑台(2)通过支撑架与氢原子发射器(1)联接,样品台(6)设置在清洗腔(2)内侧底部中心处,石英天平(4)和样品设置在样品台(6)上,入射角度调整转台(7)从清洗腔(5)底部与样品台(6)联接。
【技术特征摘要】
1.一种光学元件表面碳污染清洗装置,其包括:氢原子发射器(1)、工作距离调整滑台(2)、第一反射率计(3)、石英天平(4)、清洗腔(5)、入射角度调整转台(7)、分子泵(8)第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)和样品台(6),其特征是,氢原子发射器(1)、第一反射率计(3)、分子泵(8)、第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)接口安装在清洗腔(5)外部与其端口密封、紧固,工作距离调整滑台(2)通过支撑架与氢原子发射器(1)联接,样品台(6)设置在清洗腔(5)内侧底部中心处,石英天平(4)和样品设置在样品台(6)上,入射角度调整转台(7)从清洗腔(5)底部与样品台(6)联接。2.根据权利要求1所述的一种光学元件表面碳污染清洗装置,其特征在于,所述氢原子发射器(1)粒子源为氢气加热裂解氢原子。3.根据权利要求1或2所述的一种光学元件表面碳污染清洗装置,其特征在于,所述射频等离子体电镜清洗仪(10)粒子源为射频氢等离子体。4.一种光学元件表面碳污染清洗方法,其特征是,包括以下步骤,步骤1,将氢原子发射器(1)、第一反射率计(3)、分子泵(8)、第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)接口安装在清洗腔(5)外部...
【专利技术属性】
技术研发人员:卢启鹏,王依,彭忠琦,龚学鹏,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:吉林;22
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