二氢吡唑GPR40调节剂制造技术

本发明专利技术提供式(I)化合物、或其立体异构体或药学上可接受的盐，其中所有变量如本文中所定义。这些化合物是可用作药物的GPR40 G蛋白偶联受体调节剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式(I)的化合物，或其立体异构体、互变异构体或药学上可接受的盐，其中：X独立地选自O、S、CH2和CH(C1‑4烷基)；环A独立地为、或；R1为或；Y独立地选自键、C1‑4亚烷基、C2‑4亚烯基和C2‑4亚炔基；Z独立地选自键、W、C1‑4亚烷基、W‑C1‑4亚烷基和C1‑4亚烷基‑W；W独立地选自O、S和NH；环B和环D独立地为苯基、萘基或含有碳原子和1‑4个选自N、NR11、O和S的杂原子的5‑6元杂芳基；其中所述苯基、萘基和杂芳基各自被0‑3个R2取代；环C独立地为苯基、萘基或含有碳原子和1‑4个选自N、NR11、O和S的杂原子的5‑10元杂芳基；其中所述苯基、萘基和杂芳基各自被0‑3个R6取代；R2在每次出现时独立地选自被0‑2个Ra取代的C1‑6烷基、被0‑2个Ra取代的C2‑6烯基、被0‑2个Ra取代的C1‑6烷氧基、被0‑2个Ra取代的C1‑6烷硫基、卤素、CHF2、CF3、OCF3、OCHF2、SCF3、CN、NO2、NH2、NH(C1‑4烷基)、N(C1‑4烷基)2和被0‑3个Rb取代的C3‑10碳环；R3独立地选自H、卤素、CN、OH、CO2H、C1‑4烷基、C1‑4烯基、C1‑4炔基、C1‑4卤代烷基、OR9、SR9、C(O)OR9、CO2R9、S(O)R9、SO2R9、CONHR9、CON(C1‑4烷基)2、‑(O)n‑(CH2)m‑苯基、‑(CH2)m‑(含有碳原子和1‑4个选自N、NR11、O和S的杂原子的5‑10元杂芳基)；其中所述苯基和杂芳基被0‑2个R10取代；R4独立地选自H、被0‑1个Rc取代的C1‑4烷基和被0‑2个Rc取代的‑(CH2)m‑C3‑6碳环；R4a独立地选自H、卤素、C1‑4烷基和‑(CH2)m‑C3‑6碳环；R5在每次出现时独立地选自卤素和C1‑4烷基；R6在每次出现时独立地选自卤素、OH、C1‑4烷硫基、CN、SO2(C1‑2烷基)、N(C1‑4烷基)2、C1‑4卤代烷基、C1‑4卤代烷氧基、被0‑1个R7取代的C1‑6烷基、被0‑1个R7取代的C1‑4烷氧基、‑(O)n‑(CH2)m‑(被0‑2个R7取代的C3‑10碳环)和‑(CH2)m‑(含有碳原子和1‑4个选自N、NR11、O和S的杂原子的5‑10元杂芳基)；其中所述杂芳基被0‑2个R7取代；R7在每次出现时独立地选自卤素、OH、C1‑4烷基、C2‑4烯基、C1‑4烷氧基、C1‑4烷硫基、C1‑4卤代烷基、C1‑4卤代烷氧基、SCF3、CN、NO2、NH2、NH(C1‑4烷基)、N(C1‑4烷基)2、SO2(C1‑2烷基)和苯基；R8独立地选自H和C1‑4烷基；R9在每次出现时独立地选自C1‑4烷基、C1‑4卤代烷基和‑(CH2)m‑苯基；R10在每次出现时独立地选自卤素、CN、C1‑4卤代烷基、C1‑4卤代烷氧基、SCF3、NO2和CO2(C1‑4烷基)；R11在每次出现时独立地选自H、C1‑4烷基和苄基；Ra在每次出现时独立地选自OH、C1‑4烷氧基、C1‑4烷硫基、卤素、C1‑4卤代烷基、C1‑4卤代烷氧基、SCF3、CN、NO2、NH2、NH(C1‑4烷基)、N(C1‑4烷基)2、SO2(C1‑2烷基)和苯基；Rb在每次出现时独立地选自OH、C1‑4烷基、C2‑4烯基、C1‑4烷氧基、C1‑4烷硫基、卤素、C1‑4卤代烷基、C1‑4卤代烷氧基、SCF3、CN、NO2、NH2、NH(C1‑4烷基)、N(C1‑4烷基)2和SO2(C1‑2烷基)；Rc在每次出现时独立地选自OH、C1‑4烷氧基、卤素、CF3、OCF3和CN；m在每次出现时独立地为0、1或2；且n在每次出现时独立地为0或1。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：AS埃尔南德斯，BA埃尔斯沃尔思，WR尤因，B陈，
申请(专利权)人：百时美施贵宝公司，
类型：发明
国别省市：美国;US