【技术实现步骤摘要】
一种基于金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的制备方法
本专利技术属于半导体纳米材料与器件领域,具体涉及一种基于金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的制备方法。
技术介绍
随着科技的发展和社会的进步,人们对于信息存储、传递及其处理的依赖程度日益增加。而半导体器件和工艺技术作为信息的存储、传递及其处理的主要载体和物质基础,现已成为众多科学家争相研究的热点。薄膜晶体管,作为一种非常重要的半导体器件,在信息存储、传递和处理等领域起着至关重要的作用。然而,截至目前为止,现有大规模使用薄膜晶体管,是一种基于微电子硅工艺的半导体器件。这种传统的基于硅微电子工艺薄膜场效应晶体管存在对设备要求高,制备工艺复杂,成本较高和器件整体性能有限,灵敏度、开关频率和速度有限等问题。并且,随着人们对于高性能薄膜晶体管要求的逐步提升,基于微电子硅工艺的薄膜场效应晶体管已难以满足当今信息社会对高灵敏度、高开关频率和开关速度的薄膜场效应晶体管的需求。近年来,纳晶材料或量子点材料因其具有独特的电学、光学量子尺寸效应,为控制材料性能提供了除控制其化学组成之外的另一有效手段。尤其是当半导体量子点胶体通过自组装紧密堆积实现量子限域电子或空穴波函数的有效交叠和重合,将会形成一种新型的“人造固体”,这种人造固体不仅保留了量子点材料性能独特的可调性,同时,这种人造固体半导体材料也具有较高的载流子迁移率和电传导能力。这将为基于低成本、大面积溶液制备技术,实现量子点胶体有效组装,从而制备出新型基于量子点导电沟道光控薄膜晶体管提供了可能。此外,由于贵重金属材料表面和界面 ...
【技术保护点】
一种基于金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的制备方法,其特征在于包括以下步骤: 步骤S1:选取一硅/二氧化硅衬底,所述的硅/二氧化硅衬底包括衬底硅以及设置于衬底硅表面的二氧化硅膜; 步骤S2:制备CdSe量子点溶液与金属/有机壳核量子点溶液,将得到的金属量子点核作为等离子激元增强中心,将金属量子点外包有机高分子壳作为隔离层;并在所述硅/二氧化硅衬底上制备一金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合膜层,用以作为导电沟道; 步骤S3:在覆盖有所述金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合膜层的硅/二氧化硅衬底上制备金属电极,得到金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的源极和漏极;步骤S4:采用有机物封装,制备出基于光控金属/有机壳核量子点‑半导体量子点复合导电沟道的薄膜晶体管,采用光照手段控制导电沟道载流子浓度。
【技术特征摘要】
1.一种基于金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤S1:选取一硅/二氧化硅衬底,所述的硅/二氧化硅衬底包括衬底硅以及设置于衬底硅表面的二氧化硅膜;步骤S2:制备CdSe量子点溶液与金属/有机壳核量子点溶液,将得到的金属量子点核作为等离子激元增强中心,将金属量子点外包有机高分子壳作为隔离层;并在所述硅/二氧化硅衬底上制备一金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层,用以作为导电沟道;步骤S3:在覆盖有所述金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层的硅/二氧化硅衬底上制备金属电极,得到金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的源极和漏极;步骤S4:采用有机物封装,制备出基于光控金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合导电沟道的薄膜晶体管,采用光照手段控制导电沟道载流子浓度;所述步骤S2的具体方法包括以下步骤:步骤S21:制备CdSe量子点溶液的具体方法为:将氧化镉粉末、1-十四基磷酸以及三正丁基氧化膦排空加热条件下混合后制备成镉前驱体溶液;在惰性气体保护下将硒粉末溶于三丁基膦中,制备得到硒前驱体溶液;将硒前驱体溶液注入至镉前驱体溶液中生产混合溶液,将混合溶液降温至一第一温度后并保温一定时间;保温一定时间后移除热源并将混合溶液冷却降温至一第二温度,向所述混合溶液中注入甲醇溶液,得到相应的纳米晶沉淀,并经过离心、清洗得到CdSe量子点的氯仿或者甲苯溶液;步骤S22:制备金属量子点溶液:将包括硝酸银与HAuCl4的含金属离子化合物、亚油酸钠、无水乙醇以及亚油酸混合搅拌后依次通过水热反应、反复采用去离子水或无水乙醇高速离心清洗处理得到反应产物,最后将所述反应产物分散到环己烷中即可得到相应的金属量子点溶液;步骤S23:制备金属/有机壳核量子点溶液:将聚酰胺酸溶液与金属量子点溶液按照比例混合浸泡一定时间后高速离心,并将表面吸附一定量聚酰胺酸分子的金属量子点并采用阶梯热处理温度实现聚酰胺酸的聚酰亚胺化,通过浸泡、高速离心分离和热处理聚酰亚胺化工艺多次循环控制金属量子点表面的聚酰亚胺壳层厚度,形成金属/有机壳核量子点,并将金属/有机壳核量子点分散到环己烷中即可得到金属/有机壳核量子点溶液;步骤S24:制备金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层:将硅/二氧化硅衬底采用硫酸/双氧水溶液高温清洗,再用去离子水清洗2-3次,并采用旋涂工艺将所述步骤S23中制备出的金属/有机壳核量子点溶液与所述步骤S21中制备出的CdSe量子点溶液按照比例混合后旋涂成膜,在二氧化硅膜表面形成一层金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层,制得覆盖有金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层的硅/二氧化硅衬底。2.根据权利要求1所述的一种基于金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合结构光控薄膜晶体管的制备方法,其特征在于:所述步骤S3的具体方法为:在覆盖有金属/有机壳核量子点-半导体量子点复合膜层的硅/二氧化硅衬底上采用图形化掩膜覆盖蒸镀工艺形成Cr/Au复合金属...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨尊先,郭太良,胡海龙,周雄图,吕军,杨洋,
申请(专利权)人:福州大学,
类型:发明
国别省市:福建;35
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