一种EUV反射镜清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）；该清洗装置相比现有的清洗装置，增设了用于H0原子浓度调节的球阀（3）和用于H0原子导向的导向喷射池（4），具有结构简单，设计合理，使用方便，H0原子喷射浓度可调，光学元件清洗效果好，清洗效率高等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种EUV反射镜清洗装置
本专利技术涉及EUV多层膜光学元件的寿命研究领域，特别提供了一种EUV反射镜清洗装置。
技术介绍
目前，研究发现在EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，H0原子吸附在光学元件多层膜表面的浓度大小决定其清洗速率及清洗效果。因此，实现H0原子浓度可控并保证其均匀、快速吸附在光学元件多层膜表面是提高清洗速率及清洗效果必要条件。以往实现EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，没有对氢原子方向进行导向、浓度调节，实现增多/减少H0原子被光学元件吸收的装置。因此，研发一种能够实现上述功能的清洗装置，成为人们亟待解决的问题。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种EUV反射镜清洗装置，以至少解决以往清洗装置无法实现对H0原子进行导向以及调节H0原子浓度等问题。本专利技术提供的技术方案，具体为，一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置1和真空腔室2，其特征在于：在所述H0原子发生装置1和所述真空腔室2之间依次设置有相互连通的球阀3和导向喷射池4。优选，所述导向喷射池4包括：导向管路41，其包括连接端411和自由端412，所述连接端411与所述球阀3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），其特征在于：在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）。

【技术特征摘要】
1.一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），其特征在于：在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）；所述导向喷射池（4）包括：导向管路（41），其包括连接端（411）和自由端（412），所述连接端（411）与所述球阀（3）连接，所述自由端（412）插设于所述真空腔室（2）内部；连接套（42），其套装于所述导向管路（41）外部，且所述连接套（42）一端与所述导向管路（41）的连接端（411）固定连接，另一端与所述真空腔室（2）密封连接；所述导向管路（41）的自由端（412）设置有沿其径向方向延伸的反射板（4121）；所述导向管路（41）、所述反射板（4121）以及所述球阀（3）均由石英制成。2.按照权利要求1所述EUV反射镜清洗装置，其特征在于：所述导向管路（41）由所述连接端（411）向所述自由端（412）口径逐渐递减。...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭忠琦，卢启鹏，龚学鹏，王依，宋源，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林;22