一种EUV反射镜清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）；该清洗装置相比现有的清洗装置，增设了用于H0原子浓度调节的球阀（3）和用于H0原子导向的导向喷射池（4），具有结构简单，设计合理，使用方便，H0原子喷射浓度可调，光学元件清洗效果好，清洗效率高等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种EUV反射镜清洗装置
本专利技术涉及EUV多层膜光学元件的寿命研究领域，特别提供了一种EUV反射镜清洗装置。
技术介绍
目前，研究发现在EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，H0原子吸附在光学元件多层膜表面的浓度大小决定其清洗速率及清洗效果。因此，实现H0原子浓度可控并保证其均匀、快速吸附在光学元件多层膜表面是提高清洗速率及清洗效果必要条件。以往实现EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，没有对氢原子方向进行导向、浓度调节，实现增多/减少H0原子被光学元件吸收的装置。因此，研发一种能够实现上述功能的清洗装置，成为人们亟待解决的问题。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种EUV反射镜清洗装置，以至少解决以往清洗装置无法实现对H0原子进行导向以及调节H0原子浓度等问题。本专利技术提供的技术方案，具体为，一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置1和真空腔室2，其特征在于：在所述H0原子发生装置1和所述真空腔室2之间依次设置有相互连通的球阀3和导向喷射池4。优选，所述导向喷射池4包括：导向管路41，其包括连接端411和自由端412，所述连接端411与所述球阀3连接，所述自由端412插设于所述真空腔室2内部；连接套42，其套装于所述导向管路41外部，且所述连接套42一端与所述导向管路41的连接端411固定连接，另一端与所述真空腔室2密封连接。进一步优选，所述导向管路41的自由端412设置有沿其径向方向延伸的反射板4121。进一步优选，所述导向管路41由所述连接端411向所述自由端412口径逐渐递减。进一步优选，所述导向管路41和所述反射板4121均由石英制成。进一步优选，所述球阀3包括：阀体31；球体32，其转动设置于所述阀体31内部，且所述球体32上设置有贯通两侧的孔道321；阀杆33，其与所述球体32的上端连接，所述阀杆33可驱动所述球体32相对所述阀体31进行转动，使所述球体32上的孔道321与所述阀体31的两侧管路连通/封堵。进一步优选，所述球阀3由石英制成。进一步优选，所述球阀3通过石英连接管5与所述H0原子发生装置1连接，所述石英连接管5套装于所述H0原子发生装置1的发射管路上，且所述石英连接管5一端与所述球阀3的阀体31连接，另一端与所述H0原子发生装置1的壳体密封连接。进一步优选，所述H0原子发生装置1、球阀3、导向喷射池4和真空腔室2均同轴设置。本专利技术提供的EUV反射镜清洗装置，在H0原子发生装置和真空腔室之间增设有球阀和导向喷射池，其中，通过球阀孔径大小的改变，调控H0原子的喷射浓度，同时再由导向喷射池进行导向，确保H0原子能够均匀、快速吸附在真空腔室内被清洗的光学元件多层膜表面，从而提高光学元件的清洗效果和清洗效率。本专利技术提供的EUV反射镜清洗装置，具有结构简单，设计合理，使用方便，H0原子喷射浓度可调，光学元件清洗效果好，清洗效率高等优点。附图说明图1为EUV反射镜清洗装置的结构示意图。具体实施方式下面以具体的实施方案对本专利技术进行进一步解释，但是并不用于限制本专利技术的保护范围。为了解决以往EUV反射镜清洗装置无法实现对喷射的H0原子进行浓度调节和方向导向，导致光学元件的清洗效果差，清洗效率慢等问题，本实施方案提供了一种EUV反射镜清洗装置，其相比现有的清洗装置，增设了H0原子浓度调节装置和H0原子导向装置，其具体为，参见图1，包括依次连接并连通的H0原子发生装置1、球阀3、导向喷射池4和真空腔室2，其中，所述H0原子发生装置1用于提供H0原子，H0原子由球阀3进行流量浓度调节后，再由导向喷射池4进行导向，喷射到防止于真空腔室2内的被清洗光学元件的多层膜表面，实现光学元件的清洗。由于在整套清洗装置中可以通过球阀实现对H0原子喷射浓度的调节，通过导向喷射池的导向实现H0原子与光学元件的喷射角度调节，最终达到H0原子能够均匀、快速吸附在光学元件多层膜表面的目的，提高光学元件的清洗效果和清洗速率。其中，参见图1，导向喷射池4包括导向管路41，该导向管路41包括连接端411和自由端412，且连接端411与球阀3连接，自由端412插设于所述真空腔室2内部，在导向管路41的外部套装有连接套42，该连接套42一端与导向管路41的连接端411固定连接，另一端与真空腔室2密封连接，H0原子经过导向管路进行导向进入真空腔室内。为了提高该清洗装置的清洗效果，作为技术方案的改进，参见图1，在导向管路41的自由端412设置有沿其径向方向延伸的反射板4121，通过该反射板的设置可以实现将喷射于光学元件表面后反射出来的H0原子再次反射在光学元件的表面，提高H0原子的均匀程度，实现H0原子能够快速吸附到光学元件表面，提高清洗的速率。作为技术方案的进一步改进，参见图1，将导向管路41设计为由所述连接端411向所述自由端412口径逐渐递减，提高H0原子喷射进入真空腔室内的集中程度，从而进一步加快H0原子吸附到光学元件表面的速度。为了防止导向喷射池在导向的过程中，发生吸收H0原子的现象，导致H0原子的损失，作为技术方案的进一步改进，利用石英材料对于H0原子吸收小的特性，将所述导向管路41和所述反射板4121均设计为由石英制成，以降低H0原子在导向过程被吸收的概率。其中，球阀3的具体结构，参见图1，包括阀体31，在阀体31内部转动设置有球体32，且球体32上设置有贯通两侧的孔道321，在球体32的上端连接有阀杆33，所述阀杆33可驱动所述球体32相对所述阀体31进行转动，使所述球体32上的孔道321与所述阀体31的两侧管路连通/封堵；通过该球阀3的结构设计，可以通过驱动阀杆，进行球体转动，改变球体中孔道与阀体相同的孔径大小，进而实现H0原子浓度调节的目的。为了减少H0原子被球阀表面材料吸收概率，保证H0原子的浓度传递，利用石英材料对于H0原子的吸收小特性，将球阀3设计为由石英制成。为了方便球阀3与H0原子发生装置1之间的连接，作为技术方案的改进，参见图1，将球阀3通过石英连接管5与H0原子发生装置1连接，所述石英连接管5套装于H0原子发生装置1的发射管路上，且石英连接管5一端与球阀3的阀体31连接，另一端与H0原子发生装置1的壳体密封连接，实现球阀3与H0原子发生装置1连接的目的。为了提高H0原子在整套清洗装置中的传递通畅，作为技术方案，将所述H0原子发生装置1、球阀3、导向喷射池4和真空腔室2均同轴设置。上述技术方案的介绍都是按照递进的方式进行撰写的，着重强调各个实施方案的不同之处，其相似部分可以相互参见，不影响技术问题的解决和技术效果的产生。实施例1下面介绍一个具体的实施案例，该案例为优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，对于本领域的技术人员来说，本专利技术可以有各种更改和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。参见图1，为一种EUV反射镜清洗装置，具体的制作和结构如下：A真空法兰6及B真空法兰7（低膨胀合金材料4J32）、石英连接管5、阀柄33、阀体31、球体32、导向喷射池4、反射板4121均为（石英材料）、光学元件11（K9玻璃）、真空腔室2（不锈钢材料）。A真空密封圈12（无氧铜圈）、B真空密封圈8（无氧铜圈）、H0原子发生器1、A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），其特征在于：在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）。

【技术特征摘要】
1.一种EUV反射镜清洗装置，其包括H0原子发生装置（1）和真空腔室（2），其特征在于：在所述H0原子发生装置（1）和所述真空腔室（2）之间依次设置有相互连通的球阀（3）和导向喷射池（4）；所述导向喷射池（4）包括：导向管路（41），其包括连接端（411）和自由端（412），所述连接端（411）与所述球阀（3）连接，所述自由端（412）插设于所述真空腔室（2）内部；连接套（42），其套装于所述导向管路（41）外部，且所述连接套（42）一端与所述导向管路（41）的连接端（411）固定连接，另一端与所述真空腔室（2）密封连接；所述导向管路（41）的自由端（412）设置有沿其径向方向延伸的反射板（4121）；所述导向管路（41）、所述反射板（4121）以及所述球阀（3）均由石英制成。2.按照权利要求1所述EUV反射镜清洗装置，其特征在于：所述导向管路（41）由所述连接端（411）向所述自由端（412）口径逐渐递减。...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭忠琦，卢启鹏，龚学鹏，王依，宋源，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林;22