一种四穴双纪念碑墓葬制造技术

本实用新型专利技术公开了一种四穴双纪念碑墓葬，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽，这样既有美化效果，也针对民间习俗合葬不分碑的效果，同时在碑中间设置条纹槽，也有利于区分的效果。通过在地下墓室上方设置有整石地坪，所述整石地坪两端下方设置有凹槽，上方设置有凸起。并且在所述墓穴保护箱两端上方设置有凸起，墓碑下方设置有墓室盖板，所述盖板两端设置有凸起。采用这样设计，可以使相互之间通过凸起安放在凹槽中，从而实现稳定性。所述地下墓室设置四个独立墓穴，可以作为家族墓穴使用，满足中国习俗需要。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及墓葬
，具体为一种四穴双纪念碑墓葬。
技术介绍
随着社会发展，死亡总人数逐年增加，骨灰存留的数量越存越多，骨灰安葬所需的墓穴用地逐年增加，公墓数量越来越多，存在着死人与活人争抢宝贵的土地资源的问题。随着经济发展和社会进步，城市墓葬方式已有很大变化，公共墓地建设已成为城市规划建设的一部分，随着城市土地的日益紧张，墓葬的节地、环保已成为墓葬设计和实施的核心，目前，仍然有很多城市对于墓葬缺少统一规划，有的虽然有规划，但是规划设计方案没有体现节地、环保的原则，导致墓地浪费较大，无疑，对于当前寸土寸金的城市土地来说，是一种巨大的浪费，应引起各方的关注。土地紧缺的大形势下，墓葬用地与社会发展用地的矛盾将日益凸显，公墓土地供给紧缺导致了墓地价格年年攀升，墓地的价格已经远远高过房产的价格，一些大中城市的骨灰存放问题已成为亟待解决的一大难题。为此，针对上述城市墓葬用地浪费的问题，本技术提出一种四穴双纪念碑墓葬，实用性强，一定程度上提高墓葬的土地使用效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种四穴双纪念碑墓葬，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案:一种四穴双纪念碑墓葬，包括地下墓室和地上墓碑，所述墓室中包括有墓穴和墓穴保护箱，其中，所述地下墓室包括四个独立墓穴，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽。一种四穴双纪念碑墓葬，其中，所述地下墓室上方设置有整石地坪，所述整石地坪两端下方设置有凹槽，上方设置有凸起。一种四穴双纪念碑墓葬，其中，所述墓穴保护箱两端上方设置有凸起。一种四穴双纪念碑墓葬，其中，所述墓碑下方设置有墓室盖板，所述盖板两端设置有凸起。与现有技术相比，本技术的有益效果是:1、地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽，这样既有美化效果，也针对民间习俗合葬不分碑的效果，同时在碑中间设置条纹槽，也有利于区分的效果；2、通过在地下墓室上方设置有整石地坪，所述整石地坪两端下方设置有凹槽，上方设置有凸起。并且在所述墓穴保护箱两端上方设置有凸起，墓碑下方设置有墓室盖板，所述盖板两端设置有凸起。采用这样设计，可以使相互之间通过凸起安放在凹槽中，从而实现稳定性。3、所述地下墓室设置四个独立墓穴，可以作为家族墓穴使用，满足中国习俗需要。【附图说明】图1本技术墓葬的侧剖视图。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图1所示，一种四穴双纪念碑墓葬，包括地下墓室和地上墓碑，所述墓室中包括有墓穴和墓穴保护箱7，其中，所述地下墓室包括四个独立墓穴，图中显示的独立墓穴8和独立墓穴9，在独立墓穴8和独立墓穴9后方存在两个相同的墓穴，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑2和右墓碑1，所述左墓碑2和右墓碑I之间设置有凿刻成的条纹槽3。如图所示，所述地下墓室上方设置有整石地坪4，所述整石地坪4两端下方设置有凹槽13，上方设置有凸起14。所述墓穴保护箱7两端上方设置有凸起12。所述墓碑下方设置有墓室盖板10，所述盖板两端设置有凸起。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。【主权项】1.一种四穴双纪念碑墓葬，包括地下墓室和地上墓碑，所述墓室中包括有墓穴和墓穴保护箱，其特征在于:所述地下墓室包括四个独立墓穴，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽。2.根据权利要求1所述的一种四穴双纪念碑墓葬，其特征在于，所述地下墓室上方设置有整石地坪，所述整石地坪两端下方设置有凹槽，上方设置有凸起。3.根据权利要求1所述的一种四穴双纪念碑墓葬，其特征在于，所述墓穴保护箱两端上方设置有凸起。4.根据权利要求1所述的一种四穴双纪念碑墓葬，其特征在于，所述墓碑下方设置有墓室盖板，所述盖板两端设置有凸起。【专利摘要】本技术公开了一种四穴双纪念碑墓葬，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽，这样既有美化效果，也针对民间习俗合葬不分碑的效果，同时在碑中间设置条纹槽，也有利于区分的效果。通过在地下墓室上方设置有整石地坪，所述整石地坪两端下方设置有凹槽，上方设置有凸起。并且在所述墓穴保护箱两端上方设置有凸起，墓碑下方设置有墓室盖板，所述盖板两端设置有凸起。采用这样设计，可以使相互之间通过凸起安放在凹槽中，从而实现稳定性。所述地下墓室设置四个独立墓穴，可以作为家族墓穴使用，满足中国习俗需要。【IPC分类】E04H13-00【公开号】CN204609439【申请号】CN201520069949【专利技术人】杨桂荣 【申请人】上海杨艺园林工程有限公司【公开日】2015年9月2日【申请日】2015年1月30日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种四穴双纪念碑墓葬，包括地下墓室和地上墓碑，所述墓室中包括有墓穴和墓穴保护箱，其特征在于：所述地下墓室包括四个独立墓穴，地上墓碑为连体双墓碑，所述连体双墓碑包括左墓碑和右墓碑，所述左墓碑和右墓碑之间设置有凿刻成的条纹槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨桂荣，
申请(专利权)人：上海杨艺园林工程有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31