曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法制造方法及图纸

一种曝光装置包括：基板输送单元，被配置为沿第一方向输送基板，并且包括第一测量部件；以及曝光部件，被布置在基板输送单元上方，并且被配置为以紫外线照射基板。第一测量部件被配置为在基板被照射之前测量紫外线的强度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术构思的示范性实施例涉及。更具体地，本专利技术构思的示范性实施例涉及用于形成液晶显示装置的光定向层的曝光装置。
技术介绍
近来，已经制造重量轻尺寸小的显示装置。阴极射线管(CRT)显示装置由于高性能和有竞争力的价格而被一般使用。然而，CRT显示装置很大且欠缺便携性。因而，诸如等离子显示装置、液晶显示装置、和有机发光显示装置的显示装置由于其小尺寸、轻重量、和低功耗而受到高度重视。显示装置一般包括:具有电路布线的阵列基板；面向阵列基板的对向基板；以及布置在阵列基板与对向基板之间的液晶层。显示装置一般还包括给液晶层的液晶分子一预倾斜角度的定向层。
技术实现思路
可以使用曝光装置通过光定向工艺形成定向层。然而，问题在于，由曝光装置形成的紫外线不够均匀。本专利技术构思的示范性实施例提供能够均匀地向多个基板曝光的曝光装置。本专利技术构思的示范性实施例还提供使用该曝光装置的曝光方法。本专利技术的额外特征将在随后的描述中阐明，并将从该描述中部分地变得明显，或者可以通过实践本专利技术而习得。根据本专利技术构思的示范性实施例，一种曝光装置包括:基板输送单元，用于沿第一方向输送基板，并且包括被配置为测量紫外线的量的传感器；以及曝光部件，被布置在基板输送单元上方以将基板曝光于紫外线。根据本专利技术构思的示范性实施例，一种曝光方法包括:计算并测量(S100)，其中，测量从曝光部件产生的紫外线的特性，并且利用所测量的特性计算曝光的速度和量；曝光基板(S200)，其中，以在SlOO中计算的曝光的速度和量利用紫外线曝光基板；计算并测量(S300)，其中，再次测量从曝光部件产生的紫外线的特性，并且利用新测量的特性计算曝光的速度和量；以及曝光基板(S400)，其中，以在S300中新计算的曝光的速度和量利用紫外线曝光基板。在示范性实施例中，在曝光基板(S200)时，可以依序曝光第一基板和第二基板。测量并计算(S10)可以包括测量紫外线的照度以及计算第二移动速度。在测量紫外线的照度时，可以测量从曝光部件产生的紫外线的强度。紫外线的强度可以意味着在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。在测量第二移动速度时，可以计算作为第二基板的移动速度的第二移动速度。第二移动速度可以满足以下公式。〈公式1>紫外线的强度*每一基板的曝光时间=恒定值〈公式2>每一基板的曝光时间=第二基板的曝光距离/第二基板的移动速度因而，根据本专利技术构思的示范性实施例，一种曝光装置包括用于测量紫外线的强度的传感器和用于输送多个基板的级。于是，该曝光装置可以通过根据紫外线的强度的数学函数连续地调整基板的移动速度来向多个基板提供均匀的曝光。另外，第一到第三级分别包括第一到第三测量部件，以使得可以依据紫外线的强度的变化而实时地应用各级的适当的移动速度。此外，根据本专利技术的示范性实施例，该曝光方法重复测量紫外线的强度和计算曝光速度的步骤。于是，当多个基板被曝光时，虽然紫外线可能由于曝光部件的UV灯的老化而减少，但是可以通过连续地调整曝光的速度来将基板均匀地曝光。将会理解，前述一般性描述及下面的详细描述是示范性和解释性的，并且是用来提供对所主张的本专利技术的进一步解释。【附图说明】被包括以提供对本专利技术的进一步理解并被并入且构成此说明书的一部分的附图图示了本专利技术的实施例，并且与描述一起用来解释本专利技术的原理。通过参照附图详细描述本专利技术构思的示范性实施例，本专利技术构思的上述及其它特征将变得更加清楚。图1是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光装置的透视图；图2是图示图1的第二级的平面图细节；图3是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的第二级的平面图细节；图4是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光装置的透视图细节；图5是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光装置的透视图细节；图6是图示图5的第二输送部件的平面图细节；图7是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的第二输送部件的平面图细节；图8是简要地图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光装置的透视图；图9是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光方法的流程图；图1OA到1D是图示曝光方法的每个步骤的流程图细节；图1lA到IlD是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光方法的每个步骤的流程图细节；图12是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光方法的流程图；以及图13是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光方法的流程图。【具体实施方式】下面将参照其中示出本专利技术的实施例的附图更全面地描述本专利技术。然而，本专利技术可以以许多不同的形式来具体实现，并不应当被解读为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本公开彻底，并向本领域技术人员充分传达专利技术的范围。附图中，为清楚起见，可能夸大了层和区域的尺寸和相对尺寸。附图中相同的附图标记表示相同的元件。将会理解，当一个元件或层被称为在另一元件或层“之上”、“连接到”到另一元件或层时，它可以直接在该另一元件或层之上或者直接连接到该另一元件或层，或者也可以存在居间的元件或层。相反，当一个元件被称为“直接在”另一元件或层“之上”或者“直接连接到”另一元件或层时，不存在居间的元件或层。将会理解，出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z，或者X、Y和Z中两个或者更多个项目的任意组合(例如，XYZ、XYY、TL、ZZ)。图1是图示根据本专利技术构思的示范性实施例的曝光装置的透视图。参照图1，曝光装置100包括框架102、第一级110、第二级120、第三级130、和曝光部件190。框架102沿第一方向Dl延伸，并且沿与第一方向Dl基本垂直的第二方向D2具有一宽度。在框架102上布置多个级。框架102支撑各级。可以沿第一方向Dl在框架上连续传送各级。例如，各级包括第一级110、第二级120、和第三级130。如图中所述，基板10被加载到第三级130上(参见图1中的箭头IN)。接着，可以沿第一方向Dl移动第三级130。因此，第三级130上的基板10可以在穿过曝光部件190下方到图1中第二级120的位置的同时被光曝光。在第三级130移动的同时，第二级120沿第一方向Dl移动到图1中第一级110的位置，基板被从第一级110卸载(参见图1中的箭头OUT)，并且第一级110沿与第一方向Dl相反的方向移动到图1中第三级130的位置。例如，第一级110可以沿与第一方向Dl相反的方向移动通过框架102，以使得第一级110可以被置于加载位置处以加载基板10。例如，第一级110可以与第一方向Dl相反地移动，避开曝光部件190，以被定位在加载位置处以加载基板。因此，第一到第三级110、120和130沿第一方向Dl连续移动，以使得可以沿第一方向Dl传送多个基板10。在基板10被加载到第一级110上(参见图1中的箭头IN)之后，第一级110接着沿第一方向Dl输送基板10。基板10接着穿过曝光部件190下方。随后，基板10被从第一级110卸载(参见图1中的箭头OUT)。第一级110可以通过真空吸附来握持基板10以传送基板10。基板10被加载到第二级120上(参见图1中的箭头IN)。第二级120接着沿第一方向Dl输送基板10。基板10接着穿过曝光部件190下方。随后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，包括：基板输送单元，被配置为沿第一方向输送基板，并且包括第一测量部件；以及曝光部件，被布置在该基板输送单元上方，并且被配置为以紫外线照射所述基板，其中，第一测量部件被配置为在所述基板被照射之前测量紫外线的强度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：许财源，李泓燃，全栢均，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR