本实用新型专利技术公开了一种磁流体密封装置，包括密封本体，所述密封本体上设有气体入口和真空吸引气体出口，所述密封本体的上端转动设有一离子发生器，所述离子发生器的下端设有基板，所述密封本体内的下方设有一固定架，所述固定架的上端面为接收离子的靶，所述离子发生器的上端转动轴与密封本体之间设有磁流体密封。这种密封方式可用于转轴是磁性体和转轴是非磁性体两种场合。前者磁束集中于间隙处并贯穿转轴而构成磁路，而后者磁束比不通过转轴，只是通过密封间隙中的磁流体而构成磁路。其结构简单，设计合理，密封效果好，被广泛用于各种行业。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种密封装置，特别涉及一种磁流体密封装置。
技术介绍
磁流体密封技术是在磁性流体的基础上发展而来的，当磁流体注入磁场的间隙时，它可以充满整个间隙，形成一种“液体的O型密封圈”。磁流体密封装置的功能是把旋转运动传递到密封容器内，常用于真空密封，随着经济的发展，国内外真空设备发展迅猛。在许多回转动密封装置上，磁流体密封得到了广泛的应用，例如在单晶硅炉、真空钎焊炉、真空熔炼炉、化学气相沉积、离子镀膜、液晶再生等真空设备的密封，以及高温高压设备及对环境要求较高的设备的密封。从而提高产品质量，获得很好的经济效益，目前的磁流体密封装置结构复杂，成本较高，不适用于大部分产品。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种能够解决上述问题的磁流体密封装置。本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种磁流体密封装置，包括密封本体，所述密封本体上设有气体入口和真空吸引气体出口，所述密封本体的上端转动设有一离子发生器，所述离子发生器的下端设有基板，所述密封本体内的下方设有一固定架，所述固定架的上端面为接收离子的靶，所述离子发生器的上端转动轴与密封本体之间设有磁流体密封。作为本技术的进一步改进，所述气体入口设于密封本体的一侧上方，所述真空吸引气体出口设于密封本体另一侧的下方。作为本技术的进一步改进，所述磁流体密封呈上端直径小于下端直接的圆柱台阶状。本技术的有益效果是:本技术的磁流体密封装置通过圆环形永久磁铁，极靴和转轴所构成的磁性回路，在磁铁产生的磁场作用下，把放置在轴与极靴顶端缝隙间的磁流体加以集中，使其形成一个所谓的“O”形环，将缝隙通道堵死而达到密封的目的。这种密封方式可用于转轴是磁性体和转轴是非磁性体两种场合。前者磁束集中于间隙处并贯穿转轴而构成磁路，而后者磁束比不通过转轴，只是通过密封间隙中的磁流体而构成磁路。其结构简单，设计合理，密封效果好，被广泛用于各种行业。【附图说明】图1为本技术结构示意图；图中标示:1_密封本体；2-气体入口 ；3_真空吸引气体出口 ；4_离子发生器；5-基板；6-固定架；7-靶；8_转动轴；9_磁流体密封。【具体实施方式】为了加深对本技术的理解，下面将结合实施例和附图对本技术作进一步详述，该实施例仅用于解释本技术，并不构成对本技术保护范围的限定。图1示出了本技术一种磁流体密封装置的一种实施方式，包括密封本体1，所述密封本体I上设有气体入口 2和真空吸引气体出口 3，所述密封本体I的上端转动设有一离子发生器4，所述离子发生器4的下端设有基板5，所述密封本体I内的下方设有一固定架6，所述固定架6的上端面为接收离子的靶7，所述离子发生器4的上端转动轴8与密封本体I之间设有磁流体密封9。所述气体入口 2设于密封本体I的一侧上方，所述真空吸引气体出口 3设于密封本体I另一侧的下方。所述磁流体密封9呈上端直径小于下端直接的圆柱台阶状。【主权项】1.一种磁流体密封装置，包括密封本体(I)，其特征在于:所述密封本体(I)上设有气体入口(2)和真空吸引气体出口(3)，所述密封本体(I)的上端转动设有一离子发生器(4)，所述离子发生器(4)的下端设有基板(5)，所述密封本体(I)内的下方设有一固定架(6)，所述固定架(6)的上端面为接收离子的靶(7)，所述离子发生器(4)的上端转动轴(8)与密封本体(I)之间设有磁流体密封(9)。2.根据权利要求1所述的磁流体密封装置，其特征在于:所述气体入口(2)设于密封本体(I)的一侧上方，所述真空吸引气体出口(3)设于密封本体(I)另一侧的下方。3.根据权利要求1所述的磁流体密封装置，其特征在于:所述磁流体密封(9)呈上端直径小于下端直接的圆柱台阶状。【专利摘要】本技术公开了一种磁流体密封装置，包括密封本体，所述密封本体上设有气体入口和真空吸引气体出口，所述密封本体的上端转动设有一离子发生器，所述离子发生器的下端设有基板，所述密封本体内的下方设有一固定架，所述固定架的上端面为接收离子的靶，所述离子发生器的上端转动轴与密封本体之间设有磁流体密封。这种密封方式可用于转轴是磁性体和转轴是非磁性体两种场合。前者磁束集中于间隙处并贯穿转轴而构成磁路，而后者磁束比不通过转轴，只是通过密封间隙中的磁流体而构成磁路。其结构简单，设计合理，密封效果好，被广泛用于各种行业。【IPC分类】F16J15-43【公开号】CN204493728【申请号】CN201520159797【专利技术人】胡建洋 【申请人】胡建洋【公开日】2015年7月22日【申请日】2015年3月20日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁流体密封装置，包括密封本体(1)，其特征在于：所述密封本体(1)上设有气体入口(2)和真空吸引气体出口(3)，所述密封本体(1)的上端转动设有一离子发生器(4)，所述离子发生器(4)的下端设有基板(5)，所述密封本体(1)内的下方设有一固定架(6)，所述固定架(6)的上端面为接收离子的靶(7)，所述离子发生器(4)的上端转动轴(8)与密封本体(1)之间设有磁流体密封(9)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡建洋，
申请(专利权)人：胡建洋，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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