【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种新型离子源，特别涉及一种带防静电涂层的考夫曼电源。
技术介绍
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支，离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前，离子源的种类很多，Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置，该装置的基本工作原理为：首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来，这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。在实际操作过程中，真空室充满金属离子，尤其是离子源附近。由于屏级和加速电极的静电作用，在两器件之间缝隙沉积金属砰屑。沉积的金属碎屑经常引起电路短路。
技术实现思路
为解决上述实际问题，本技术提供一种带防静电涂层的考夫曼电源。防止屏级和加速电极之间的金属离子静电吸附。一种带防静电涂层的考夫曼电源，包括进气口、阴极、阳极、放电室、磁棒、屏极、加速极、中和灯丝，其特征在于：加速电极靠近屏极的表面涂覆防静电涂...
【技术保护点】
一种带防静电涂层的考夫曼电源，包括进气口(1)、阴极(2)、阳极(3)、放电室(4)、磁棒(5)、屏极(6)、加速极(7)、中和灯丝(8)，其特征在于：加速电极(7)靠近屏极(6)的表面涂覆防静电涂层(9)。
【技术特征摘要】
1.一种带防静电涂层的考夫曼电源，包括进气口(1)、阴极(2)、阳极(3)、放电室(4)、
磁棒(5)、屏极(6)、加速极(7)、中和灯丝(8)，其特征在于：加速电极(7)靠...
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