制造柔性基底的方法和使用该方法制造显示装置的方法制造方法及图纸

公开了一种制造柔性基底的方法和一种使用该方法制造显示装置的方法。在支撑基底上形成牺牲层并在牺牲层上形成柔性基底。然后在柔性基底上形成像素。通过微波能加热牺牲层，并从牺牲层排出气体。利用所述气体将包括形成在其上的像素的柔性基底和包括形成在其上的牺牲层的支撑基底分开。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】本专利申请要求在2013年12月30日提交的第10-2013-0167183号韩国专利申请的优先权和权益，出于各种目的通过引用将该申请包含于此，就如同在这里被充分地阐述一样。
本专利技术的示例性实施例涉及一种制造柔性基底的方法和一种使用该方法制造显示装置的方法。更具体地，本专利技术的示例性实施例涉及一种在支撑基底上制造柔性基底的方法和一种使用该方法制造显示装置的方法。
技术介绍
近年来，已经开发了包括柔性基底的显示装置。响应于用户的需求，具有柔性基底的显示装置是弯曲的，因此，显示装置为用户提供移动或手持显示装置的过程中改进的便利性。塑料基底(例如，具有优异的耐热性和强度的聚酰亚胺基底)和金属基底被广泛地用作柔性基底。当利用柔性基底制造显示装置时，为了确保柔性基底的表面平整性，可以使用诸如玻璃基底的支撑基底来形成柔性基底。例如，在支撑基底上设置柔性基底，在柔性基底上执行薄膜形成工艺以在柔性基底上形成像素。然后，将其上形成有像素的柔性基底与支撑基底分开。然而，在形成像素的同时柔性基底会变得强有力地附着到支撑基底。因此，将柔性基底与支撑基底分开会是困难的。在该
技术介绍
部分公开的上述信息仅为了增强对本专利技术的背景的理解，因此它可以包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例提供了一种制造柔性基底的方法。本专利技术的示例性实施例提供了一种使用所述柔性基底的制造方法制造显示装置的方法。将在下面的描述中部分地阐述另外的方面，另外的方面部分地通过该描述将是清楚的，或可通过本专利技术的实践而了解。本专利技术的示例性实施例公开了一种制造柔性基底的方法，所述方法包括在支撑基底上形成牺牲层，然后在牺牲层上形成柔性基底。然后，利用微波能加热牺牲层以从牺牲层产生气体。然后，利用所述气体将柔性基底与其上形成有牺牲层的支撑基底分开。本专利技术的示例性实施例还公开了一种制造显示装置的方法，所述方法包括在支撑基底上形成牺牲层，然后在牺牲层上形成柔性基底。然后，在柔性基底上形成像素，利用微波能加热牺牲层以从牺牲层产生气体。然后，利用所述气体将包括形成在其上的像素的柔性基底与其上形成有牺牲层的支撑基底分开。支撑基底是玻璃基底，柔性基底是聚酰亚胺基底，并且牺牲层包括与氢结合的碳化娃。将理解的是，前面的总体描述和下面的详细描述二者是示例性的和解释性的，且意在提供对要求保护的本专利技术的进一步的解释。【附图说明】包括附图以提供对本专利技术的进一步的理解，附图被包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本专利技术的示例性实施例，并与描述一起用于解释本专利技术的原理。图1是示出根据本专利技术的示例性实施例的显示装置的制造方法的流程图。图2A、图2B、图2C、图2D、图2E、图2F和图2G是示出根据本专利技术的示例性实施例的显示装置的制造方法的视图。图3是示出根据本专利技术的示例性实施例的柔性基底的制造方法的流程图。【具体实施方式】现在将在下文中参照附图更充分地描述本专利技术，在附图中示出本专利技术的说明性的实施例。然而，本专利技术可以以许多不同的形式来实施且不应被解释为限于这里所阐述的实施例。而是，提供这些示例性实施例使得本公开是彻底的，并将本专利技术的范围充分地传达给本领域技术人员。在附图中，同样的附图标记指示同样的元件，并且为了清晰可以夸大层和区域的尺寸和厚度。将被理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上，直接连接到或直接结合到另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。相反，当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。将被理解的是，为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一者(个)”可以被解释为只有X、只有Y、只有Z或者X、Y和Z中的两项或更多项的任意组合(例如，XYZ、XYY、TL、ZZ)。如这里使用的，术语“和/或”包括相关列出的项的一项或更多项的任意和全部组合。将被理解的是，虽然在这里可以使用术语第一、第二等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅是用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分相区分开。因此，在不脱离本专利技术的教导的情况下，下面所述的第一元件、组件、区域、层或部分可以称为第二元件、组件、区域、层或部分。为了便于描述，这里可以使用诸如“在..?之下”、“在..?下方”、“下面的”、“在..?上方”和“上面的”等的空间相对术语来描述如附图中示出的一个元件或特征相对于其它元件或特征的关系。将被理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描绘的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“之下”或“下方”的元件或特征随后将被定位为“在”其它元件或特征的“上方”。因此，示例性的术语“在..?下方”可以包含上方和下方两个方位。所述装置可以被另外定位(旋转90度或在其它方位)并相应地解释这里所使用的空间相对描述语。 这里所使用的术语仅为了描述具体实施例的目的，而不意图限制本专利技术。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式的“一种”、“一个”、“所述”和“该”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。除非另外定义，否则这里所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本专利技术所属的
的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非这里明确这样定义，否则术语(诸如在通用的词典中定义的术语)应该被解释为具有与它们在相关领域的环境中的含义相一致的含义，且将不以理想化的或过于形式化的含义来解释。以下，将参照附图详细解释本专利技术。参照图1，在支撑基底上形成包含结合有氢的碳化硅(SiC)(氢化碳化硅)的牺牲层(SlO)。例如，支撑基底可以是玻璃基底。另外，可以利用包含硅烷(SiH4)和甲烷(CH4)的源气通过化学气相沉积方法来形成牺牲层。然后，在牺牲层上形成柔性基底(S20)。例如，柔性基底可以为聚酰亚胺基底。通过在牺牲层上提供聚酰胺酸(PAA)作为聚酰亚胺的前驱物，然后固化聚酰胺酸来形成聚酰亚胺基底。随后，在形成在支撑基底上的柔性基底上形成包括像素的像素部(S30)。当显示装置是有机电致发光显示装置时，每个像素包括阳极、阴极以及置于阳极和阴极之间的有机发光层。另一方面，当显示装置是液晶显示装置时，每个像素包括像素电极、相对电极以及置于像素电极和相对电极之间的液晶层。之后，利用微波加热牺牲层来使牺牲层中的氢气化(S40)。微波通常具有大约8GHz到大约16GHz的频率，通过控制微波能辐射到牺牲层上的时间来在大约400°C至大约500 °C的温度下加热牺牲层。当在大约400°C至大约500°C的温度下加热牺牲层时，包含在牺牲层中的氢气化，并从牺牲层排出气体。更具体地，当加热牺牲层时，在牺牲层中发生脱氢，氢从牺牲层中包含的碳化硅脱离并作为气相释放。因此，从牺牲层排出气体。然后，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造显示装置的方法，其特征在于所述方法包括：在支撑基底上形成牺牲层；在牺牲层上形成柔性基底；在柔性基底上形成像素；利用微波能加热牺牲层以从牺牲层产生气体，从而削弱柔性基底和牺牲层之间的结合；以及利用所述气体将柔性基底和支撑基底分开。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：哈伊克·哈洽图安，具贤祐，金善浩，金泰雄，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR