一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器及其制作方法，属于矫治器技术领域。本发明专利技术的矫治器，在上颌模板和下颌模板中留有空隙，在该空隙中填充高分子树脂，模板范围得以扩大，能够增加固位作用，可同时进行排齐牙齿和促进颌骨生长的治疗。本发明专利技术的矫治器嵌入了磁力块，通过磁力来加强促进颌骨生长的作用，可有效提升功能矫形作用。本发明专利技术公开的矫治器的制作方法，应用数字化模型、计算机快速成型技术制作，可简化制作工序，避免苯污染、粉尘污染，可将患者的数据储存，需要重复制作时，更加便捷，从而有效提高了制作、矫治效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于矫治器
，涉及一种矫治器及其制作方法，具体涉及一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器及其制作方法。
技术介绍
在牙颌畸形的矫治领域，常用的矫治器大体分为两种，一种是精细调整牙齿位置的矫治器，以由托槽和带环组成的固定矫治器为代表，近年来也出现了无托槽的隐形矫治器(如invisalign等)，该类矫治器的治疗目标是移动牙齿的位置把牙齿排列整齐。另一种是促进颌骨生长的矫治器，即功能矫治器，该类矫治器的治疗目标是协调上下颌骨的相对关系，如上颌骨发育不足时，会形成俗称“地包天”的脸型，就需要用促进上颌骨发育的功能矫治器促进上颌骨的生长，使得上、下颌骨协调，面型美观；而对于下颌骨发育不足导致的小下颌脸型，需要用促进下颌骨发育的功能矫治器促进下颌骨的生长。由于矫治技术和制作工艺的限制，以上两种类型的治疗无法同时进行，对于既有牙齿排列不整齐，又合并有颌骨发育不足的患者，只能采取分阶段治疗的方法，即先进行功能矫治器治疗，疗程平均为1年左右，再进行精细的排列牙齿的治疗，疗程一般为2年左右，而且在第二阶段治疗时很难可靠的维持第一阶段的治疗效果，容易出现颌骨位置不调复发的问题。对功能矫治器而言，目前现有的制作方法都是基于石膏牙颌模型进行手工制作。即先通过取得患者牙颌结构的阴模，翻制成石膏阳模，再用牙科用蜡取得患者上下颌骨之间的相对位置关系，然后将石膏模型固定到专用的合架上，保证颌骨之间的位置关系，在此石膏模型的基础上进行手工制作矫治器。该制作方法存在明显的缺点和局限性：首先，灌制、修整石膏模型以及将模型按照咬合关系固定在合架上，这个过程费时、费力，需要经过特殊培训的技师操作完成，人工和时间成本较高。其次，在石膏模型上制作矫治器要手工完成，无论是通过手工弯制钢丝做支架，用自凝塑胶做基板，还是通过真空压膜来成型基板，都需要技师手工制作，在制作过程中可能存在苯污染，粉尘污染等问题，对操作者造成危害。第三，传统的方法中，矫治器制作完成时，石膏模型将被毁坏，不能重复利用。一旦患者将矫治器丢失或者损坏，需要重新制作矫治器时，就必须再次取模型，重复以上的制作过程，增加患者的不适，就诊次数，也要耗费医师及技师较多的时间，效率较低。
技术实现思路
为了克服上述现有技术存在的缺陷，本专利技术的目的在于提供一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器及其制作方法，该矫治器设计合理，结构简单，使用便捷，能够缩短治疗疗程；该方法能够有效提高矫治器的制作效率。本专利技术是通过以下技术方案来实现：一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，包括上颌模板和下颌模板，上颌模板和下颌模板间留有空隙，空隙中填充有高分子树脂，填充的高分子树脂将上颌模板和下颌模板间的空隙分为上、下两个部分，上、下两部分高分子树脂的分界面为一个反“Z”型间隙，该反“Z”型间隙的斜边位于上颌第二前磨牙上方且与水平方向呈45°角；在距离该反“Z”型间隙的斜边左、右两2mm处各设有一个磁体块，且两侧的磁体块相对的面为同性。上颌模板由上颌外侧颊侧模板和上颌内侧腭侧模板组成，上颌外侧颊侧模板延伸至牙颈缘下2mm处，上颌内侧腭侧模板延伸至牙颈缘下8mm处；下颌模板由下颌外侧颊侧模板和下颌内侧腭侧模板组成，下颌外侧颊侧模板紧贴于上颌牙冠且延伸至牙颈缘下2mm处，下颌内侧腭侧模板延伸至口底黏膜转折处。上颌内侧腭侧模板和下颌内侧腭侧模板的厚度为2～3mm，上颌外侧颊侧模板和下颌外侧颊侧模板的厚度为1mm。填充的高分子树脂长5～8mm，宽2～4mm。所述磁体块由钕铁硼永磁体制成。上颌模板和下颌模板中包裹牙冠的部分选用弹性树脂材料制作。本专利技术公开的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器的制作方法，包括以下步骤：1)采集患者口腔结构的三维数据；2)获取包含患者上颌骨与下颌骨位置关系的蜡合，并扫描采集蜡合的三维数据；3)应用计算机软件将步骤1)和步骤2)中获得的三维数据进行整合，得到含有相对位置关系的上下颌牙列和牙槽骨的位置关系的一体化的数字模型；4)将步骤1)采集的口腔数据输入正畸治疗排牙软件中，根据牙齿排列的矫治目标进行设计，得到阶段性牙列排齐矫治的牙列部分的模型；5)在步骤3)得到的一体化的数字模型上设计功能矫治器部分，并设计磁体块的位置和数量；6)将步骤4)得到的阶段性牙列排齐矫治的牙列部分的模型与步骤5)设计的带有磁体块的功能矫治器部分进行整合，得到分阶段的完整的兼具排列牙齿与功能矫形效应的三维模型；7)采用计算机辅助快速成型法，利用高分子树脂材料制作得到兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器。步骤1)通过口内扫描仪直接扫描，或者取得口腔结构的阴模后，扫描阴模获取数据；或者通过口腔阴模灌注石膏模型后用激光扫描仪扫描石膏模型来采集患者口腔结构的三维数据。步骤2)是根据矫治目标设计，将加热后的牙科用蜡放入患者的上下牙列之间，获取适合的包含患者上颌骨与下颌骨之间的位置关系的蜡合。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益的技术效果：本专利技术的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，一方面，在上颌模板和下颌模板中留有空隙，在该空隙中填充高分子树脂，与现有的矫治器相比，模板的范围得以扩大，从而能够增加固位作用，可同时进行排齐牙齿和促进颌骨生长的治疗。另一方面，本专利技术的矫治器嵌入了磁体块，传统的功能矫治器都是通过调整颌骨的位置，改变口腔周围肌肉力量的分布来达到矫治目的，而本专利技术嵌入了磁体块，通过磁力来加强促进颌骨生长的作用，能够有效提升功能矫形作用。进一步地，本专利技术的矫治器上颌外侧颊侧模板的延伸至牙颈缘下2mm处，上颌内侧腭侧模板延伸至牙颈缘下8mm处；下颌外侧颊侧模板紧贴于上颌牙冠且延伸至牙颈缘下2mm处，下颌内侧腭侧模板延伸至口底黏膜转折处。通过比较可知，本专利技术将仅用于排列牙齿的无托槽矫治器的模板范围进行了调整，使其具有更强的固位力，而且增加了咬合面的特殊设计，使其包含有上颌、下颌的位置关系。本专利技术公开的矫治器的制作方法，应用数字化模型、计算机快速成型技术制作，可简化制作工序，避免苯污染、粉尘污染，可将患者的数据储存，需要重复制作时，更加便捷，从而有效提高了制作、矫治效率。附图说明图1为本专利技术矫治器的结构示意图；图2为本专利技术矫治器在牙列就位后的侧面观；图3为本专利技术矫治器在牙列就位后的剖面观；图4为应用本专利技术矫治器上颌部分在牙列就位后的咬合面观；图5为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，其特征在于，包括上颌模板和下颌模板，上颌模板和下颌模板间留有空隙，空隙中填充有高分子树脂，填充的高分子树脂将上颌模板和下颌模板间的空隙分为上、下两个部分，上、下两部分高分子树脂的分界面为一个反“Z”型间隙(6)，该反“Z”型间隙(6)的斜边位于上颌第二前磨牙上方且与水平方向呈45°角；在距离该反“Z”型间隙(6)的斜边左、右两2mm处各设有一个磁体块(5)，且两侧的磁体块(5)相对的面为同性。

【技术特征摘要】
1.一种兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，其特征在于，包括
上颌模板和下颌模板，上颌模板和下颌模板间留有空隙，空隙中填充有高分子
树脂，填充的高分子树脂将上颌模板和下颌模板间的空隙分为上、下两个部分，
上、下两部分高分子树脂的分界面为一个反“Z”型间隙(6)，该反“Z”型间
隙(6)的斜边位于上颌第二前磨牙上方且与水平方向呈45°角；在距离该反
“Z”型间隙(6)的斜边左、右两2mm处各设有一个磁体块(5)，且两侧的
磁体块(5)相对的面为同性。
2.根据权利要求1所述的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，
其特征在于，上颌模板由上颌外侧颊侧模板(1)和上颌内侧腭侧模板(2)组
成，上颌外侧颊侧模板(1)延伸至牙颈缘下2mm处，上颌内侧腭侧模板(2)
延伸至牙颈缘下8mm处；下颌模板由下颌外侧颊侧模板(3)和下颌内侧腭侧
模板(4)组成，下颌外侧颊侧模板(3)紧贴于上颌牙冠且延伸至牙颈缘下2mm
处，下颌内侧腭侧模板(4)延伸至口底黏膜转折处。
3.根据权利要求2所述的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，
其特征在于，上颌内侧腭侧模板(2)和下颌内侧腭侧模板(4)的厚度为2～3mm，
上颌外侧颊侧模板(1)和下颌外侧颊侧模板(3)的厚度为1mm。
4.根据权利要求1所述的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，
其特征在于，填充的高分子树脂长5～8mm，宽2～4mm。
5.根据权利要求1所述的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，
其特征在于，所述磁体块(5)由钕铁硼永磁体制成。
6.根据权利要求1所述的兼具排齐牙齿与促进颌骨生长作用的矫治器，
其特征在于，上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王爽，丰培勋，鲍庆红，王菲，管丽敏，
申请(专利权)人：西安交通大学口腔医院，
类型：发明
国别省市：陕西;61