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眼镜镜片制造技术

技术编号:11592642 阅读:67 留言:0更新日期:2015-06-11 00:56
本发明专利技术的一个实施方式提供一种眼镜镜片,其具有镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,该金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的平面图像中观察到的晶粒的平均尺寸为3.5nm以上,且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界所占的比例小于15%。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】眼镜镜片相关申请的相互参照本申请主张2012年9月28日提出申请的日本特愿2012-217200号及日本特愿2012-217204号的优先权,其记载的全部内容在此作为公开特别引用。
本专利技术涉及眼镜镜片,详细而言,涉及具有可以显示良好的耐热性(耐裂性)及耐擦伤性的蒸镀膜的眼镜镜片。
技术介绍
一般而言,眼镜镜片利用镜片基材实现所希望的折射率,同时通过在镜片基材上形成各种功能膜而赋予各种性能。作为这样的功能膜,广泛使用对镜片表面赋予防反射性能的防反射膜,其中,锆(Zr)氧化物的蒸镀膜在构成多层防反射膜的高折射率层中最廉价,因此,在成本方面是有利的(例如参照特开2009-193022号公报,其中记载的全部内容在此作为公开内容特别引用)。另外,与锆氧化物的蒸镀膜同样,钽(Ta)氧化物的蒸镀膜也可以作为高折射率层发挥作用。对于眼镜镜片而言,要求其具有即使放置在各种环境下也不会劣化的优异的耐久性。例如,眼镜镜片有时在洗浴时佩戴、或在夏季放置于汽车内,或在户外进行长时间活动的使用者所佩戴,因此,期望在放置于这样的高温下的情况下不会引起裂纹而保持良好的品质,但对于具有锆氧化物及钽氧化物的蒸镀膜的眼镜镜片而言,在高温下该蒸镀膜上产生裂纹,由此,有时产生光学特性降低或构成多层防反射膜的层间密合性降低的现象。此外,对于眼镜镜片还要求即使施加外力也具有不会产生伤痕或裂纹的优异的耐擦伤性。眼镜镜片在除去指纹或灰尘等附着在镜片面上的污渍时等要施加各种外力。这是因为,在这样的外力作用下产生的伤痕或裂纹成为产生眼镜镜片的光学特性降低或构成多层防反射膜的层间密合性降低的现象的原因。专利
技术实现思路
本专利技术的一个实施方式提供一种眼镜镜片,其具有显示良好的耐热性(耐裂性)及耐擦伤性的锆氧化物或钽氧化物的蒸镀膜。本专利技术人等为了得到所述眼镜镜片而反复进行深入研究时发现了目前未知的以下的新见解。(1)上述金属氧化物的蒸镀膜的平面TEM图像的均匀性越高,耐热性越良好,且在高温下的裂纹产生越少。(2)上述金属氧化物的蒸镀膜的平面TEM图像的均匀性越高,压缩应力越大,施加外力时也产生排斥该力的力,因此,耐擦伤性良好,且外力引起的伤痕或裂纹产生少。(3)对于平面TEM图像中确认到的晶粒,由于存在大量微小的晶粒会使均匀性降低,因此,其尺寸(晶粒尺寸)越大,越形成均匀性高的膜。上述平面TEM图像的均匀性高、晶粒尺寸大是表示上述蒸镀膜在平面方向上的各向异性低且均匀性高的指标。即,本专利技术人等新发现了以下结果:通过降低平面方向上的各向异性以提高均匀性,可以提高上述蒸镀膜的耐热性及耐擦伤性。基于以上的新见解,本专利技术人等采用平面TEM图像的均匀性及晶粒尺寸这样的新的指标,并反复进行了上述金属氧化物的蒸镀膜的制造条件的变更等反复试验,结果得到了以下的新的发现:选自锆及钽的金属的氧化膜具有即使放置在高温下也不产生裂纹的(或产生的裂纹极少)的高耐热性,且具有优异的耐擦伤性,所述金属的氧化膜在其平面TEM图像中,晶粒的平均尺寸为3.5nm以上、且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界(GrainBoundary)所占的比例小于15%,并完成本专利技术。本专利技术的一个实施方式提供一种眼镜镜片,其具有:镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,该金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的平面图像中观察到的晶粒的平均尺寸为3.5nm以上,且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界所占的比例小于15%。作为其中的一个方式,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的截面图像中,观察到为条状、柱状或块状的区域所占的比例小于55%。作为其中的一个方式,所述蒸镀膜为锆氧化物膜。作为其中的一个方式,所述眼镜镜片具有所述蒸镀膜作为多层蒸镀膜的至少一层。另外,本专利技术的另一实施方式提供一种眼镜镜片的制造条件确定方法,所述眼镜镜片具有蒸镀膜,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽,该方法包括:确定在实际制造中用于所述蒸镀膜的蒸镀的候补蒸镀条件;在所确定的候补蒸镀条件下进行蒸镀,制作测试蒸镀膜;获取所制作的测试蒸镀膜的选自平面TEM图像及截面TEM图像中的至少一种TEM图像,并根据下述判定基准来确定实际制造中的蒸镀膜的蒸镀条件,所述判定基准如下:该TEM图像的均匀性越高,判定所述候补条件为能够形成表现出良好的耐热性或良好的耐擦伤性、或者表现出良好的耐热性及良好的耐擦伤性的蒸镀膜的蒸镀条件。作为其中的一个方式,根据选自下述基准1~4中的至少1种判定基准来判定所述均匀性,基准1:在截面TEM图像中观察到为条状、柱状或块状的区域所占的比例越低、或所述区域越小,判定为均匀性越高。基准2:对作为明场像获取的截面TEM图像进行二值化处理而求得的暗部面积越大、或者对作为暗场像获取的截面TEM图像进行二值化而求得的亮部面积越大,判定为均匀性越高。基准3:平面TEM图像中,晶粒间界所占的比例越低,判定为均匀性越高。基准4:在平面TEM图像中观察到的晶粒尺寸越大,判定为均匀性越高。本专利技术的再一个实施方式提供一种眼镜镜片的制造方法,该方法包括:通过上述方法来确定制造条件;根据所确定的制造条件进行蒸镀,形成蒸镀膜,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽。作为其中的一个方式,所述蒸镀膜作为构成多层防反射膜的层而形成。根据本专利技术的一个方式,可以提供抑制了蒸镀膜在高温下产生裂纹、及因外力的作用而产生伤痕或裂纹、且具有优异的耐久性的眼镜镜片,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽。附图说明图1是膜应力测定方法的说明图。图2是膜应力测定方法的说明图。图3是对实施例1获取的截面TEM图像。图4是对实施例1获取的平面TEM图像。图5是对实施例2获取的截面TEM图像。图6是对实施例2获取的平面TEM图像。图7是对实施例3获取的截面TEM图像。图8是对实施例3获取的平面TEM图像。图9是对实施例4获取的平面TEM图像。图10是对比较例1获取的截面TEM图像。图11是对比较例1获取的平面TEM图像。图12中将图11所示的平面TEM图像放大并以框线表示部分晶粒。具体实施方式本专利技术的一个实施方式涉及一种眼镜镜片,其具有:镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的平面图像(平面TEM图像)中观察到的晶粒的平均尺寸(以下,也称为“平均晶粒尺寸”)为3.5nm以上、且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界所占的比例(以下,也称为“晶粒间界占有率”)小于15%。需要说明的是,未观察到晶粒、也就是上述晶粒间界所占的比例为0%的眼镜镜片(该眼镜镜片是选自锆及钽的金属的氧化膜)也包含在本专利技术一个实施方式的眼镜镜片中。以下,对本专利技术的一个实施方式的眼镜镜片进行更详细说明。上述眼镜镜片在镜片基材上直接或间接地具有蒸镀膜,该蒸镀膜是金属的氧化膜,所述金属选自锆及钽。以下,将锆氧化物膜记载为Zr氧化物膜,将钽氧化物膜记载为Ta氧化物膜。作为镜片基材,没有特别限定,可以使用眼镜镜片的镜片基材通常使用的材料,例如由聚氨酯、聚硫氨酯、聚碳酸酯、二甘醇双烯丙基碳酸酯等塑料、无机玻璃等制成的材料。关于镜本文档来自技高网
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眼镜镜片

【技术保护点】
一种眼镜镜片,其具有镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,该金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的平面图像中观察到的晶粒的平均尺寸为3.5nm以上,且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界所占的比例小于15%。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.28 JP 2012-217204;2012.09.28 JP 2012-217201.一种眼镜镜片,其具有镜片基材、和直接或间接地形成于该镜片基材上的蒸镀膜,其中,所述蒸镀膜是金属的氧化膜,该金属选自锆及钽,在通过透射电子显微镜获取的所述蒸镀膜的平面图像中观察到的晶粒的平均尺寸为3.5nm~20nm,且作为划分晶粒和晶粒外的区域的边界的晶粒间界所占的比例小于15%。2.根据权利要求1所述的眼镜镜片,其中,所述晶粒是包含非晶质的结构体。3.根据权利要求1所述的眼镜镜片,其中,所述晶粒的平均尺寸为5.8nm~20nm,且所述晶粒间界所占的比例为5%以下。4.根据权利要求2所述的眼镜镜片,其中,所述晶粒的平均尺寸为5.8nm~20nm,且所述晶粒间界所占的比例为5%以下。5.根据权利要求1所述的眼镜镜片,其中,所述晶粒的平均尺寸为8.2nm~20nm,且所述晶粒间界所占的比例为3%以下。6.根据权利要求2所述的眼镜镜片,其中,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:田所信幸小川直美足立诚小峰裕子原田高志
申请(专利权)人:HOYA株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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