本实用新型专利技术提供一种接地弹片，其设置于反应室中，将承载基板的基座和接地端子电性连接，所述基座可在所述反应室中升降运动，其特征在于所述接地弹片包括：与所述基座电性连接的第一端；与所述接地端子电性连接的第二端；螺旋部，该螺旋部电性连接第一端和第二端，所述螺旋部随所述基座的运动而伸缩。本实用新型专利技术的技术方案采用一个螺旋状的接地弹片代替经过一道弯折的接地金属片，这样改进的益处在于螺旋状的接地弹片在基座运动时每一个部分的弯折角度都大大小于现有技术中经过一道弯折的接地金属弹片，这样本实用新型专利技术的接地弹片可以经过更多次的弯折而不断裂。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种接地装置，尤指一种用于等离子体增强化学气相沉积室的接地弹片。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposit1n，PECVD)是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种化学气相沉积称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。在PECVD沉积过程中，需要将承载基板的基座接地，如图1所示，在现有技术中大多通过接地金属片10连接基座和接地端子，多数情况下该接地金属片经过一道弯折。由于在PECVD沉积过程中基座需要进行上下运动，导致接地金属片绕其连接处和弯折处扭转，所以现有技术中的接地端子存在易折断的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的局限，而提供一种接地弹片，其能够不易折断，便于加工，使等离子体增强化学气相沉积设备能够长时间稳定运行。为了达到上述目的，本技术的主要技术手段在于:提供一种接地弹片，适用于等离子体增强化学气相沉积反应室中承载基板接地连接，其包括:第一端，所述第一端与所述承载基板的基座电性连接；第二端，所述第二端与所述等离子体增强化学气相沉积反应室的接地端子电性连接；以及螺旋部，所述螺旋部电性连接所述第一端和所述第二端，所述螺旋部随所述基座的升降而伸缩。本技术的技术方案采用一个螺旋状的接地弹片代替经过一道弯折的接地金属片，这样改进的益处在于螺旋状的接地弹片在基座运动时每一个部分的弯折角度都远小于现有技术中经过一道弯折的接地金属弹片，这样本技术的接地弹片可以经过更多次的弯折而不断裂。本技术的进一步改进在于:螺旋部为呈螺旋状的金属片。本技术的进一步改进在于:第一端和所述第二端均设有连接部。本技术的进一步改进在于:第一端中的所述连接部为安装孔。本技术的进一步改进在于:第二端中的所述连接部为安装卡槽。【附图说明】图1为现有的用于PECVD的接地金属片；图2为本技术接地弹片的一侧视图；图3为本技术接地弹片安装完成后的示意图。【具体实施方式】本技术的专利技术人发现:在现有技术中，现有技术中采用的接地金属片大多经过一道弯折。由于在PECVD沉积过程中基座需要进行上下运动，导致接地金属片绕其连接处和弯折处扭转，易于折断。因此，本技术的专利技术人对现有技术进行了改进，提供一种为螺旋状的接地弹片，以解决现有技术中所存在各个问题。以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。需要说明的是，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。如图2和图3所示，本技术的接地弹片20包括:与用于承载基板的基座30电性连接的第一端21 ;与等离子体增强化学气相沉积反应室的接地端子40电性连接的第二端22 ;螺旋部23，电性连接第一端21和第二端22。螺旋部23可随基板30的升降而伸缩。在本实施例中，为增强接地弹片20的弹性，该螺旋部23为呈螺旋状的金属片，进一步地，接地弹片20的材质优选为铝或者不锈钢。第一端21上设有供与基座30连接的连接部211，第二和第二端22上设有供与接地端子40连接的连接部221，在本实施例中，第一端21的连接部211可以是安装孔211，第二端22的连接部221可以是安装卡槽221，在安装时，通过提供的螺接元件(例如螺钉、螺栓等)与连接部211配合而将第一端21与基座30连接，以及通过提供的螺接元件(例如螺钉、螺栓等)与连接部221配合而将第二端22与接地端子40连接。如图3所示，本技术的接地弹片20设置于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)室中，将承载基板的基座30和接地端子40电性连接，基座30可在等离子体增强化学气相沉积室中升降运动。当基座30运动时由于第一端21和第二端22分别与基座30和接地端子40连接，所以螺旋部23随基座30的运动而伸缩。本技术的技术方案采用一个螺旋状的接地弹片20代替现有技术中经过一道弯折的接地金属片，这样改进的益处在于螺旋状的接地弹片20在基座30运动时每一个部分的弯折角度都远小于现有技术中经过一道弯折的接地金属弹片，这样本技术的接地弹片20可以经过更多次的弯折而不断MO以上所述仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术做任何形式上的限制，虽然本技术已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本技术技术方案的范围内，当可利用上述揭示的
技术实现思路
作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本技术技术方案的内容，依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。【主权项】1.一种接地弹片，适用于等离子体增强化学气相沉积反应室中承载基板接地连接，其特征在于，所述接地弹片包括: 第一端，所述第一端与所述承载基板的基座电性连接； 第二端，所述第二端与所述等离子体增强化学气相沉积反应室的接地端子电性连接；以及 螺旋部，所述螺旋部电性连接所述第一端和所述第二端，所述螺旋部随所述基座的升降而伸缩。2.如权利要求1所述的接地弹片，其特征在于:所述螺旋部为呈螺旋状的金属片。3.如权利要求1所述的接地弹片，其特征在于:所述第一端和所述第二端均设有连接部。4.如权利要求3所述的接地弹片，其特征在于:所述第一端中的所述连接部为安装孔。5.如权利要求3所述的接地弹片，其特征在于:所述第二端中的所述连接部为安装卡槽。【专利摘要】本技术提供一种接地弹片，其设置于反应室中，将承载基板的基座和接地端子电性连接，所述基座可在所述反应室中升降运动，其特征在于所述接地弹片包括：与所述基座电性连接的第一端；与所述接地端子电性连接的第二端；螺旋部，该螺旋部电性连接第一端和第二端，所述螺旋部随所述基座的运动而伸缩。本技术的技术方案采用一个螺旋状的接地弹片代替经过一道弯折的接地金属片，这样改进的益处在于螺旋状的接地弹片在基座运动时每一个部分的弯折角度都大大小于现有技术中经过一道弯折的接地金属弹片，这样本技术的接地弹片可以经过更多次的弯折而不断裂。【IPC分类】C23C16-458【公开号】CN204356401【申请号】本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种接地弹片，适用于等离子体增强化学气相沉积反应室中承载基板接地连接，其特征在于，所述接地弹片包括：第一端，所述第一端与所述承载基板的基座电性连接；第二端，所述第二端与所述等离子体增强化学气相沉积反应室的接地端子电性连接；以及螺旋部，所述螺旋部电性连接所述第一端和所述第二端，所述螺旋部随所述基座的升降而伸缩。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：龚庆，吕世伟，钟承业，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。