基于模型的对齐及临界尺寸计量制造技术

本发明专利技术揭示一种用于执行基于模型的对齐及临界尺寸测量的方法及系统。所述方法包含：利用成像装置来获得针对光掩模指定的测量部位的至少一个光学图像；检索光掩模的设计并利用所述成像装置的计算机模型来产生所述测量部位的至少一个所模拟图像；调整所述计算机模型的至少一个参数以使所模拟图像与所述光学图像之间的相异性最小化，其中所述参数包含至少图案对齐参数或临界尺寸参数；及在所述所模拟图像与所述光学图像之间的相异性被最小化时，报告所述计算机模型的所述图案对齐参数或所述临界尺寸参数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种基于模型的测量方法，其包括：利用成像装置来获得针对光掩模指定的测量部位的至少一个光学图像；从掩模设计数据库检索光掩模的设计；选择所述设计的对应于所述所指定测量部位的一部分；利用所述成像装置的计算装置实施模型来产生所述设计的所述选定部分的至少一个所模拟图像；调整所述计算装置实施模型的至少一个参数以使所述至少一个所模拟图像与所述至少一个光学图像之间的相异性最小化，其中所述至少一个参数包含以下各项中的至少一者：图案对齐参数或临界尺寸参数；以及在所述至少一个所模拟图像与所述至少一个光学图像之间的所述相异性被最小化时，报告所述计算装置实施模型的所述图案对齐参数或所述临界尺寸参数中的所述至少一者。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·M·丹尼斯帕纳，A·塞兹希内尔，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US