阵列式微结构纳米压印方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列式微结构纳米压印方法及装置，其中，阵列式微结构纳米压印方法包括如下步骤：1)基材运行至加工工位；2)模具的压印面与基材接触；3)激光对模具压印面照射并加热；4)压印；5)脱模；6)基材运行至下一加工工位；7)重复步骤2～5。本发明专利技术的阵列式微结构纳米压印方法及装置通过激光辐射传递功率实现局部微小区域的快速加热升温与冷却；通过调节光学准直聚焦系统参数实现不同大小区域的加热效果；通过调节激光功率实现基底材料加工温度的精确控制；通过激光照射时间的调节实现基底材料的完善填充，具有加热速度快、微小加热区域精确控制、温度场梯度构建准确等优点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种阵列式微结构纳米压印方法，其特征在于，所述纳米压印方法包括如下步骤：1)固定待纳米压印的基材，控制该基材运行至加工工位，准备对基材的待加工区域进行加工；2)控制微结构模具的压印面与所述待加工区域相接触；3)激光对微结构模具的压印面上与所述待加工区域相对应的区域进行照射并加热，所述激光的照射区域的范围为50‑1000um；4)在激光加热条件下，当微结构模具的压印面上相应区域的表面温度达到所述基材的加工温度后，控制微结构模具的压印面对所述基材的待加工区域施加压力；5)完成基材的待加工区域的压印后，停止激光照射，待基材的温度下降至脱模温度后，脱模；6)控制基材运行至下一加工工位，准备对基材的下一待加工区域进行加工；7)重复步骤2‑5至完成基材的纳米压印。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘楠，刘曰涛，刘吉柱，陈涛，孙立宁，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32