基板液处理装置和基板液处理方法制造方法及图纸

技术编号:11474801 阅读:112 留言:0更新日期:2015-05-20 04:33
本发明专利技术提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备:罐(102);循环管线(104);处理部(16),其经由分支管线(112)连接于循环管线,用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理;处理液生成机构(206A、206B、208),其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液;浓度测量装置(212(或212’)),其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度;以及控制装置(4),其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。

【技术实现步骤摘要】
基板液处理装置和基板液处理方法
本专利技术涉及一种使用将多个原料液以预定的比例混合而成的处理液来对基板实施预定的液处理的基板液处理装置中的处理液的浓度调节技术。
技术介绍
在半导体装置的制造工序中,也包括通过向基板供给处理液而执行的清洗、蚀刻等液处理。为了进行这样的液处理,可以使用例如专利文献1所记载那样的、具备多个液处理单元的液处理系统。专利文献1所记载的液处理系统具有用于积存处理液的罐、连接于罐的循环管线、以及用于使积存在罐内的处理液在循环管线中循环的泵。在循环管线上经由分支管线分别连接有多个液处理单元,液处理单元使用在循环管线内循环的处理液对基板实施预定的液处理。液处理所采用的处理液分别从独立的原料液供给管线向罐中各供给预定量的多种原料液,通过将这些原料液在罐内混合来进行调整。在这样通过罐内混合来调整处理液时,原料液在罐内相互间充分地混合之前从罐流出,有时会将不当浓度的处理液供给到液处理单元。此外,在各原料液供给管线上分别设有液体流量控制器(LFC),根据各个LFC的设定流量和供给时间向罐中供给原料液。在必须以低浓度且在较小的容许范围内控制处理液的浓度的情况下,根据各个LFC的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板液处理装置,其特征在于,该基板液处理装置具备:罐,其用于积存将至少两种原料液混合而成的处理液;循环管线,其供处理液以从所述罐流出并返回到所述罐的方式流动;液处理部,其被配置为使用循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理;处理液生成机构,其用于将从所述至少两种原料液各自的供给源供给的原料液混合而生成处理液;处理液供给管线,其用于向所述罐供给由所述处理液生成机构生成的处理液;浓度测量装置,其用于测量在所述循环管线中流动的处理液的浓度和在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度;以及控制装置,其用于基于由所述浓度测量装置测量出的处理液的浓度控制所述处理液生成机构,以使得该处理液的浓度成为预先决...

【技术特征摘要】
2013.11.13 JP 2013-235304;2014.10.03 JP 2014-205111.一种基板液处理装置,其特征在于,该基板液处理装置具备:罐,其用于积存将至少两种原料液混合而成的处理液;循环管线,其供处理液以从所述罐流出并返回到所述罐的方式流动;液处理部,其被配置为使用循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理;处理液生成机构,其用于将从所述至少两种原料液各自的供给源供给的原料液混合而生成处理液;处理液供给管线,其用于向所述罐供给由所述处理液生成机构生成的处理液;浓度测量装置,其用于测量在所述循环管线中流动的处理液的浓度和在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度;以及控制装置,其用于基于由所述浓度测量装置测量出的处理液的浓度控制所述处理液生成机构,以使得在所述循环管线中流动的处理液的浓度和在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度成为预先决定好的范围内的浓度,该基板液处理装置还具备浓度测量用的取出管线,该取出管线用于取出在所述循环管线中流动的处理液并将处理液输送到所述处理液供给管线,所述浓度测量装置设于所述处理液供给管线,能够测量利用所述处理液生成机构生成的处理液的浓度和从所述循环管线经由所述取出管线被输送到所述处理液供给管线的处理液的浓度这两者。2.根据权利要求1所述的基板液处理装置,其特征在于,所述控制装置基于由所述浓度测量装置测量出的在所述循环管线中流动的处理液的浓度控制所述处理液生成机构,使得经由所述处理液供给管线向所述罐供给为了使在所述循环管线中流动的处理液的浓度成为预先决定好的范围内的浓度所需要的浓度和所需要的量的处理液。3.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置,其特征在于,所述控制装置基于由所述浓度测量装置测量出的在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度控制所述处理液生成机构,使得经由所述处理液供给管线向所述罐供给为了使在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度成为预先决定好的范围内的浓度所需要的浓度和所需要的量的处理液。4.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置,其特征在于,在从所述处理液生成机构经由所述处理液供给管线向所述罐供给处理液时,所述控制装置基于由所述浓度测量装置测量出的在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度控制所述处理液生成机构中的原料液的混合比,使得在所述处理液供给管线中流动的处理液的浓度成为所述预先决定好的范围内的浓度。5.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置,其特征在于,所述浓度测量装置测量在所述处理液供给管线中流动的处理液的瞬时浓度,在利用所述处理液生成机构开始生成处理液之后,所述控制装置算出由所述浓度测量装置测量出的瞬时浓度的累计平均值,并且监视该累计平均值,进而控制所述处理液生成机构,以使得所述累计平均值落入预先决定好的容许范围内。6.根据权利要求5所述的基板液处理装置,其特征在于,该基板液处理装置还具备:排液管线,其自所述处理液供给管线分支,用于从所述处理液供给管线排出处理液;以及切换机构,其在使得由所述处理液生成机构生成的处理液流入所述排液管线的第1状态和使得由所述处理液生成机构生成的处理液被供给到所述罐的第2状态之间进行切换,所述控制装置进行控制,以使得在所述累计平均值在预先决定好的容许范围内时将所述切换机构设为所述第2状态,在所述累计平均值偏离了预先决定好的容许范围时将所述切换机构设为所述第1状态。7.一种基板液处理方法,其采用如下基板液处理装置,该基板液处理装置具备:罐,其用于积存将至少两种原料液混合而成的处理液;循环管线,其供处理液以从所述罐流出并返回到所述罐的方式流动;以及处理部,其用于使用在所述循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理,其特征在于,该基板液处理方法包括以下过程:测量在所述循环管线中流动的处理液的浓度;基于所测量出的处理液的所述浓度求出为了使存在于所述循环管线和所述罐内的处理液的浓度成为目标范围内的浓度而应向所述罐中追加的处理液的浓度和量;以及向罐中供给所求出的所述浓度和所述量的处理液,向罐中供给所述浓度和所述量的处理液的过程具有以下过程:利用处理液生成机构将从所述至少两种原料液各自的供给源供给的原料液混合,将经混合而生成的处理液经由处理液供给管线输送到所述罐;利用设于所述处理液供给管线的浓...

【专利技术属性】
技术研发人员:高木康弘小宫洋司信国力佐竹圭吾穴本笃史
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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