氧化物薄膜晶体管及其制作方法技术

技术编号:11450545 阅读:56 留言:0更新日期:2015-05-13 23:08
本发明专利技术公开了一种氧化物薄膜晶体管及其制作方法,所述制作方法包括在第一基板上依次形成栅极、栅极绝缘层以及氧化物半导体膜层;在所述氧化物半导体膜层上依次形成第一金属层以及第二金属层,并在所述第二金属层上形成一漏极以及一源极,其中,所述源极和漏极被一沟道分隔开,且所述沟道暴露出部分所述第一金属层;对暴露的所述部分第一金属层进行氧化;形成绝缘钝化层并设置接触电极。通过上述方式,本发明专利技术能够在保护氧化物薄膜晶体管背沟道的同时简化制造工艺,节省成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种氧化物薄膜晶体管的制作方法,其特征在于,包括:在第一基板上依次形成栅极、栅极绝缘层以及氧化物半导体膜层;在所述氧化物半导体膜层上依次形成第一金属层以及第二金属层,并在所述第二金属层上形成一漏极以及一源极,其中,所述源极和漏极被一沟道分隔开,且所述沟道暴露出部分所述第一金属层;对暴露的所述部分第一金属层进行氧化;形成绝缘钝化层并设置接触电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:迟世鹏
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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