基板处理系统及处理基板的方法技术方案

提供了一种基板处理系统。基板处理系统包括前端模块、载入模块、及处理模块。这些模块是配置用于沿着传输方向于这些模块之间进行基板传输。前端模块、载入模块及处理模块的至少一者包括传输装置，提供至少两个单独的轨道，用于支撑基板或基板载具。传输装置的至少两个轨道的两者或多者可在垂直于传输方向的转换方向中相对于彼此可移动。至少第一载入模块、第二载入模块及处理模块可各包括双轨传输装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理系统及处理基板的方法
本专利技术的实施例是有关于包括用于基板传送的基板处理系统，以及于基板处理系统中处理基板的方法。一些实施例是有关于用于处理实质上垂直定向的基板的基板处理系统。特别是，一些实施例有关于双轨基板处理系统。
技术介绍
在例如是薄膜晶体管(TFT)金属化处理的数种技术应用中，不同材料的数层在基板上方沉积于彼此上。一般来说，这是通过一连串的涂布或沉积步骤来完成，例如是溅镀步骤，其中其他像是蚀刻或成型(structuring)的处理步骤可能也在各种沉积步骤之前、之间或之后提供。举例来说，可沉积具有“材料一”-“材料二”-“材料一”的顺序的多层堆迭。由于在不同处理步骤中有不同涂布率，且由于这些层的厚度不同，在用于沉积不同层的处理腔室内的处理时间可能变化相当大。为了沉积多层堆迭，可提供数个处理模块的配置。举例来说，可使用串联式(in-line)配置和群集式(cluster)配置的沉积模块。典型的群集式配置包括中央处理模块及所连接的数个处理或沉积模块。涂布模块可装配以执行相同或不同的处理。典型的串联式系统包括数个接续的处理模块，其中处理步骤是在一个接着一个的腔室内进行，使得本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理系统，包括：前端模块；载入模块；以及处理模块；其中该前端模块、该载入模块及该处理模块被配置来用于沿着传输方向于该些模块之间进行基板传输，以及其中该前端模块、该载入模块及该处理模块的至少一者包括传输装置，该传输装置提供至少二个单独的轨道，用于支撑基板或基板载具，其中该至少二个轨道的其中二者或更多者是在转换方向中相对于彼此可移动，该转换方向垂直于该传输方向。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板处理系统(1000)，包括：前端模块(1100)；载入模块(1200，1300)；以及处理模块(1400)，所述处理模块包括沉积源(1450)；其中所述前端模块(1100)、所述载入模块(1200,1300)及所述处理模块(1400)被配置来用于沿着传输方向(T)于这些模块之间进行基板传输，以及其中所述处理模块(1400)包括传输装置(100)，所述传输装置提供至少两个单独的轨道(1412、1422)，用于支撑实质上垂直定向的基板或基板载具(12、22、32、42)，其中所述至少两个单独的轨道(1412、1422)的其中二者或更多者是在转换方向(S)中相对于彼此可移动，所述转换方向(S)垂直于所述传输方向。2.如权利要求1所述的基板处理系统(1000)，其中所述前端模块(1100)为双轨摆动模块，包括双轨传输装置(100)，提供两个轨道(1112,1122)用于支撑基板或基板载具(12,22)，其中所述两个轨道(1112,1122)是在所述转换方向(S)中相对于彼此可移动。3.如权利要求1所述的基板处理系统(1000)，其中所述处理模块(1400)是在一列的数个模块中的最后一个模块，所述列的这些模块起始于所述前端模块(1100)，且其中所述处理模块(1400)包括双轨传输装置(100)，提供两个轨道(1412,1422)用于支撑基板或基板载具(42)，其中所述两个轨道(1412,1422)是在所述转换方向(S)中相对于彼此可移动。4.如权利要求2所述的基板处理系统(1000)，其中所述处理模块(1400)是在一列的数个模块中的最后一个模块，所述列的这些模块起始于所述前端模块(1100)，且其中所述处理模块(1400)包括双轨传输装置(100)，提供两个轨道(1412,1422)用于支撑基板或基板载具(42)，其中所述两个轨道(1412,1422)是在所述转换方向(S)中相对于彼此可移动。5.如权利要求1所述的基板处理系统(1000)，其中所述处理模块(1400)的所述传输装置(100)的所述至少两个单独的轨道(1412、1422)是可移动，以在所述转换方向(S)中经过彼此。6.如权利要求2所述的基板处理系统(1000)，其中所述前端模块(1100)的所述双轨传输装置(100)的所述两个轨道(1112,1122)与所述处理模块(1400)的所述传输装置(100)的所述至少两个单独的轨道(1412,1422)中的至少一者是可移动，以在所述转换方向(S)中经过彼此。7.如权利要求3所述的基板处理系统(1000)，其中所述处理模块(1400)的所述传输装置(100)的所述两个轨道(1412,1422)是可移动，以在所述转换方向(S)中经过彼此。8.如权利要求4所述的基板处理系统(1000)，其中所述前端模块(1100)与所述处理模块(1400)的至少一者的所述双轨传输装置(100)的所述两个轨道(1112,1122,1412,1422)是可移动，以在所述转换方向(S)中经过彼此。9.如权利要求1-8中的任一项所述的基板处理系统(1000)，包括下述的至少一者：(a)第二处理模块(1500)，包括双轨传输装置(100)；以及(b)第三处理模块(1600)，包括双轨传输装置(100)。10.如权利要求9所述的基板处理系统(1000)，其中所述第二处理模块(1500)的所述双轨传输装置(100)提供两个轨道(1512,1522)，所述两个轨道(1512,1522)在所述转换方向(S)中相对于彼此可移动。11.如权利要求1-8中的任一项所述的基板处理系统(1000)，其中所述载入模块为第一载入模块(1200)且所述基板处理系统(1000)包括第二载入模块(1300)，其中所述第一载入模块(1200)是连接于所述前端模块(1100)且所述第二载入模块(1300)是连接于所述第一载入模块(1200)，用以于这些模块之间进行基板传输；其中所述第一载入模块(1200)是连接于第一泵系统，适用于对所述第一载入模块(1200)进行抽气而成为中真空，且所述第二载入模块(1300)是连接于第二泵系统，适用于对所述第二载入模块(1300)进行抽气而成为高真空，且其中所述第一载入模块(1200)包括第一固定双轨传输装置(100)，提供两个静止轨道(1215、1225)来用于支撑基板或基板载具，且所述第二载入模块(1300)包括第二固定双轨传输装置(100)，提供两个静止轨道(1315、1325)来用于支撑基板或基板载具。12.一种基板处理系统(1000)，包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：O·格劳，E·科帕拉，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US