一种局部加厚地膜制造技术

本发明专利技术公开了一种局部加厚地膜，包括厚度为0.008±0.003mm的地膜，所述地膜两侧边加厚至0.012mm，加厚部分宽幅为80mm－120mm。本发明专利技术在常规地膜覆盖方式的基础上，创造性的将地膜周边加厚，这样可增加使用时被土埋压处地膜的拉伸强度，便于地膜整体完整回收，降低地膜破碎残留在土壤中的概率，减小残留地膜对土壤的污染，解决残留地膜造成作物减产的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种局部加厚地膜，包括厚度为0.008±0.003mm的地膜，其特征在于：所述地膜两侧边加厚至0.012mm，加厚部分宽幅为80mm－120mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨林，
申请(专利权)人：杨林，
类型：发明
国别省市：贵州;52