用于盘形基片的传送和移交机构、真空处理设备以及用于制造被处理基片的方法技术

一种用于盘形基片的传送和移交机构，其包括：承载器(3)和接管机构(15)。二者相对于彼此可移动。通过接管机构(15)处的永磁体(17)的远距离控制，可磁化材料制成的相对较重的基片承载器(7)由接管机构(15)进行接管或者从其返回到承载器(3)。借助于气动活塞/汽缸机构(19)来实现移交机构(15)中的永磁体(17)的受控驱动器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于盘形基片的传送和移交机构、真空处理设备以及用于制造被处理基片的方法
本专利技术涉及用于盘形基片的传送和移交机构。
技术介绍
从EP0931175中得知一种传送和移交机构，其中可磁化材料的锚定部件可释放地固定到基片。带有锚定部件的基片借助于附装到锚定部件的永磁体而靠磁力保持在设备的第一部件上，该第一部件能够被命名为承载器。带有所附装的锚定部件的基片将被移交给设备的第二部件，该第二部件能够被命名为接管机构，该接管机构和承载器被移动到接管位置。在那里，安装在接管机构内的永磁体朝向承载器机构从收起位置移动出来。从而，接管机构内的永磁体的磁力足以克服来自承载器上的锚定件的磁力。锚定部件与基片一起被移交给接管机构。这个过程的缺点在于锚定部件必须被附装到基片，这在基片处理的过程中可能会显著地干扰此处理。本事实的结果是无论如何上述锚定部件也必须从基片移除。此外，在上述过程中，磁体必须设置在承载器侧以及接管机构侧，它们在承载器/接管机构距离的作用范围内针对彼此分别加以调节。进一步应该注意到，根据公知技术承载锚定部件的是基片。薄且尺寸不稳定的基片无法以公知方式来进行操纵，这尤其还依赖于包括中央孔的基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于盘形基片的传送和移交机构，包括：‑带有承载器表面的承载器；‑因其重量而保持在所述承载器表面上的托盘形基片承载器，每个基片承载器均具有至少一个用于基片的平面容置座并且具有由可磁化材料构成的至少一个部件；‑带有与所述承载器表面对置且从其间隔开的接管表面的接管机构，其中，所述承载器和所述接管机构彼此相对且彼此平行地以可控方式进行移动，并且因而至少一个所述基片承载器能够相应地循序达到与所述接管表面相对齐；其中，进一步地：‑至少一个永磁体被设置在所述接管机构上；‑所述至少一个永磁体和所述至少一个部件之间的距离可控地变化成两个预定距离位置，以致作用在所述基片承载器上的磁力在第一位置处大于所述基片承...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.14 CH 00832/12;2012.06.14 US 61/6595451.一种用于盘形基片的传送和移交机构，包括：带有水平放置的承载器表面的承载器；因其重量而保持在所述承载器表面上的托盘形基片承载器，每个基片承载器均具有至少一个用于基片的平面容置座并且具有由可磁化材料构成的至少一个部件，所述基片承载器包括围绕所述容置座的周边突出边缘，其中所述容置座是凹入所述基片承载器的表面内的凹处，且所述周边突出边缘从所述基片承载器的表面突出；带有与所述承载器表面对置且从其间隔开的接管表面的接管机构，其中，所述承载器和所述接管机构彼此相对且彼此平行地以可控方式进行移动，并且因而至少一个所述基片承载器能够相继地循序达到与所述接管表面相对齐；其中，进一步地：至少一个永磁体被设置在所述接管机构上；所述至少一个永磁体和所述至少一个部件之间的距离可控地变化成两个预定距离位置，以致作用在所述基片承载器上的磁力在第一位置处大于所述基片承载器的重量，而在第二位置处则小于所述基片承载器的重量。2.根据权利要求1所述的传送和移交机构，其特征在于，所述接管机构包括至少一个活塞，该活塞可在气动缸内朝向和背离所述承载器表面进行移动，并且与至少一个永磁体联接。3.根据权利要求2所述的传送和移交机构，其特征在于，所述永磁体与所述活塞一起被封装在所述气动缸内。4.根据权利要求1至3中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，所述接管机构借助于驱动器可控地朝向和背离所述承载器表面进行移动。5.根据权利要求1至3中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，所述至少一个永磁体被朝向所述承载器表面的材料层所覆盖。6.根据权利要求1至3中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，弹性阻尼器构件被设置在所述接管表面和所述基片承载器之间和/或在所述基片承载器和所述承载器表面之间，其缓冲所述基片承载器在所述接管表面或所述承载器表面上的冲击。7.根据权利要求6所述的传送和移交机构，其特征在于，所述阻尼器构件包括弹性环，该弹性环被布置在所述接管表面内和/或所述承载器表面内和/或所述基片承载器的表面内，并且在...

【专利技术属性】
技术研发人员：S沃塞，B加伊奇特，P马蒂西，
申请(专利权)人：欧瑞康先进科技股份公司，
类型：发明
国别省市：列支敦士登;LI