【技术实现步骤摘要】
COA型WOLED结构及制作方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种COA型WOLED结构及制作方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)是一种极具发展前景的平板显示技术,它具有十分优异的显示性能,具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性,被誉为“梦幻显示器”。再加上其生产设备投资远小于TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,薄膜晶体管液晶显示器),得到了各大显示器厂家的青睐,已成为显示
中第三代显示器件的主力军。目前OLED已处于大规模量产的前夜,随着研究的进一步深入,新技术的不断涌现,OLED显示器件必将有一个突破性的发展。为实现OLED显示器的全彩化,一种方式是通过白色有机发光二极管(WOLED,WhiteOrganicLightEmittingDiode)和彩色滤光层(CF,ColorFilter)叠加来实现。其中,WOLED和CF层叠加过程不需要精准的掩膜工艺,就可以实现OLED显示器的高分辨率。COA型WOLED是COA(CFonArray,彩色滤光片贴附于阵列基板)技术和WOLED技术的结合。利用COA技术,将CF层(红/绿/蓝光阻)做到阵列基板上,然后OLED白光材料所发射的白光通过红/绿/蓝光阻,得到红/绿/蓝三原色的光。与传统底发光OLED结构相比,这种技术不受有机蒸镀光罩在大尺寸面板制作的限制,因此,在大尺寸OLED方面有着广泛的应用。图1所示为一种现有COA型WOLED结构 ...
【技术保护点】
一种COA型WOLED结构,其特征在于,包括红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域;所述红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域分别包括基板(1)、设于所述基板(1)上的栅极(2)、设于所述栅极(2)上的栅极绝缘层(3)、设于所述栅极绝缘层(3)上的岛状氧化物半导体层(4)、设于所述氧化物半导体层(4)上的岛状蚀刻阻挡层(5)、设于所述蚀刻阻挡层(5)上的源/漏极(6)、设于所述源/漏极(6)上的钝化保护层(7)、设于所述钝化保护层(7)上的红/绿/蓝色光阻层(71/72/73)、设于所述钝化保护层(7)上覆盖所述红/绿/蓝色光阻层(71/72/73)的平坦层(8)、设于所述平坦层(8)上并经由过孔(81)与所述源/漏极(6)相接触的半反射层(9)、设于所述半反射层(9)上的阳极层(10)、设于所述阳极层(10)上的像素定义层(11)、设于所述像素定义层(11)上的光阻间隔物(12)、设于所述阳极层(10)与像素定义层(11)上的白光发光层(13)、设于所述白光发光层(13)上的阴极层(14)、及设于所述阴极层(14)上的封装盖板(15);所述红色子像素区域和绿色子像 ...
【技术特征摘要】
1.一种COA型WOLED结构,其特征在于,包括红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域;所述红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域分别包括基板(1)、设于所述基板(1)上的栅极(2)、设于所述栅极(2)上的栅极绝缘层(3)、设于所述栅极绝缘层(3)上的岛状氧化物半导体层(4)、设于所述氧化物半导体层(4)上的岛状蚀刻阻挡层(5)、设于所述蚀刻阻挡层(5)上的源/漏极(6)、设于所述源/漏极(6)上的钝化保护层(7)、设于所述钝化保护层(7)上的红/绿/蓝色光阻层(71/72/73)、设于所述钝化保护层(7)上覆盖所述红/绿/蓝色光阻层(71/72/73)的平坦层(8)、设于所述平坦层(8)上并经由过孔(81)与所述源/漏极(6)相接触的半反射层(9)、设于所述半反射层(9)上的阳极层(10)、设于所述阳极层(10)上的像素定义层(11)、设于所述像素定义层(11)上的光阻间隔物(12)、设于所述阳极层(10)与像素定义层(11)上的白光发光层(13)、设于所述白光发光层(13)上的阴极层(14)、及设于所述阴极层(14)上的封装盖板(15);所述红色子像素区域和绿色子像素区域的半反射层(9)与阳极层(10)之间分别设有透明光阻层(91),并且所述红色子像素区域的透明光阻层(91)的厚度大于所述绿色子像素区域的透明光阻层(91)的厚度。2.如权利要求1所述的COA型WOLED结构,其特征在于,所述半反射层(9)的材料为银或铜或二者的合金,所述阴极层(14)的材料为铝。3.如权利要求1所述的COA型WOLED结构,其特征在于,所述半反射层(9)的厚度为1~100nm。4.如权利要求1所述的COA型WOLED结构,其特征在于,所述红色子像素区域的透明光阻层(91)的厚度为20~300nm,所述绿色子像素区域的透明光阻层(91)的厚度为20~250nm。5.如权利要求1所述的COA型WOLED结构,其特征在于,所述氧化物半导体层(4)的材料为氧化铟镓锌,所述阳极层(10)的材料为氧化铟锡。6.如权利要求1所述的COA型WOLED结构,其特征在于,所述透明光阻层(91)的材料为SiO2或Si3N4。7.一种COA型WOLED的制作方法,其特征在于,包...
【专利技术属性】
技术研发人员:石龙强,邹清华,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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