作为有机电子材料和染料的结构单元的方便制备的萘和苝衍生物制造技术

本发明专利技术提供了式(3)和(1)的化合物，其中n为0或1，R11和R12相同且选自CN、OR300、Si(R301)3、NHR302、NR303R304、SR305和R306，或者R11和R12一起选自(a)、(b)和(c)的基团，且X为Cl、Br或I；以及一种制备式(3)化合物的方法，包括式(1)化合物作为关键中间体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为有机电子材料和染料的结构单元的方便制备的萘和苝衍生物本专利技术涉及萘和苝衍生物。许多萘和苝衍生物是重要的着色剂。除该传统应用之外，萘，和尤其是苝衍生物在其他应用如有机场效应晶体管、有机发光器件、光伏器件如染料敏化太阳能电池(DSC)和静电干印复制法中受到了越来越多的关注。调整适于特种应用的萘和苝衍生物的设计和制备是一个活跃的研究领域。在全部4个迫位均被取代，尤其是被诸如氰基、烷氧基、芳氧基、甲硅烷基、取代的氨基、烷硫基、芳硫基、烷基和芳基的取代基取代的萘和苝衍生物可适于许多应用场合。DE340091描述了由3,4,9-三氰基-10-溴苝制备3,4,9,10-四氰基苝。3,4,9-三氰基-10-溴苝由在硝基苯中溴化苝获得的3,4,9,10-四溴苝制备。JP2002-012861描述了在1或2位带有取代或未取代氨基的苝衍生物。特别地，JP2002-012861描述了分别由1,7-二溴-3,4,9,10-四苯基苝、1,7-二溴苝-3,4,9,10-四甲腈制备3,4,9,10-四苯基苝和3,4,9,10-四氰基苝，二者均在1和7位被取代的氨基取代。Zinke，A.；Pongratz，A.；Funke，K.Chem.Ber.1925，58，330-332和DE498039描述了一种卤化苝的方法，其中卤化在诸如硝基苯的溶剂中进行，且卤素以初始状态使用。根据实施例，通过使过氧化氢的乙酸溶液通入苝的硝基苯溶液，同时添加浓盐酸的乙酸溶液而制备3,9-二氯苝、四氯苝(熔点：350℃)和六氯苝(熔点356℃)。据称四氯苝可能为3,4,9,10-四氯苝。没有描述X的进一步取代。在全部4个迫位均被氯化或溴化的许多萘衍生物是已知的(DE66611，Whitehurst，J.S.J.Chem.Soc.1951，221-226，Bassilios，H.F.；Salem，A.Y.；Shawky，M.Rec.Trav.ChimPays-Bas1962，81，209-214，DE1958595，Mesh，L.A.；Grudtsyn，Y.V.J.Org.Chem.USSR1977，13，2384-2389，Brady，J.H.；Redhouse，A.D.；Wakefield，B.J.J.Chem.Res.Miniprint1982，6，1541-1554，Otsubo，T.；Sukenobe，N.；Aso，Y.；Ogura，F.Chem.Lett.1987，315-316，Garcia，R.；Riera，J.；Carilla，J.；Julia，L.；Molins，E.，MiravitllesC.J.Org.Chem.1992，57，5712，Kodama，T.；Kodani，M.；Takimiya，K.；Aso，Y.；Otsubo，T.Heteroatom.Chem.2001，12，287-292)。DE1154799描述了下述方法：DE1154799强调无法获得四卤化萘。没有描述X的进一步取代。本专利技术的目的是提供在全部4个迫位均被取代的萘和苝衍生物。所述目的由权利要求1的方法、权利要求8的化合物和权利要求12的化合物实现。本专利技术的制备下式化合物的方法：其中：n为0或1，R11和R12相同且选自CN、OR300、Si(R301)3、NHR302、NR303R304、SR305和R306，其中：R300、R301、R302、R303、R304、R305和R306为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基和C2-20炔基可被一个或多个选自苯基、NR3000R3001、O-R3002和S-R3003的取代基取代，且C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3004R3005、O-R3006和S-R3007的取代基取代，其中R3000、R3001、R3002、R3003、R3004、R3005、R3006和R3007相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R11和R12一起选自如下基团：其中：L1和L2为C1-6亚烷基、C6-14亚芳基或C1-6亚烷基-C6-14亚芳基-C1-6亚烷基，R25为H、C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3010R3011、O-R3012和S-R3013的取代基取代，且C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3014R3015、O-R3016和S-R3017的取代基取代，其中R3010、R3011、R3012、R3013、R3014、R3015、R3016和R3017相同或不同且为C1-10烷基或苯基，L3为直接键、C1-6亚烷基、C6-14亚芳基或C1-6亚烷基-C6-14亚芳基-C1-6亚烷基，且R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21和R22相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R310、OR311、SR312、OC(O)R313和C(O)OR314，其中R310、R311、R312、R313和R314为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3020R3021、O-R3022、S-R3023、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3024R3025、O-R3026、S-R3027、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R3020、R3021、R3022、R3023、R3024、R3025、R3026和R3027相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R17和R19一起，分别地，R18和R20一起为：包括用：a)MOH，其中M为碱金属、N(R400R401R402R403)、P(R400R401R402R403)或六(C1-10烷基)胍离子(guanidinium)，其中R400、R401、R402和R403相同或不同且选自H、C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基和C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被苯基取代，C6-14芳基可被C1-10烷基取代，和b)X-给体，其中X为Cl、Br或I，处理下式化合物的步骤：其中：n具有对式(3)所述的含义，R9和R10相同或不同且为COOH或COOR200，其中R200为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2000R2001、O-R2002和S-R2003的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR2004R2005、O-R2006和S-R2007的取代基取代，其中R2000、R2001、R2002和R2003、R2004、R2005、R2006和R2007相同或不同且为C1-10烷基或苯基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备下式化合物的方法：其中：n为0或1，R11和R12相同且选自CN、OR300、Si(R301)3、NHR302、NR303R304、SR305和R306，其中：R300、R301、R302、R303、R304、R305和R306为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基或C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基和C2‑20炔基可被一个或多个选自苯基、NR3000R3001、O‑R3002和S‑R3003的取代基取代，且C6‑14芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3004R3005、O‑R3006和S‑R3007的取代基取代，其中R3000、R3001、R3002、R3003、R3004、R3005、R3006和R3007相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R11和R12一起选自如下基团：其中：L1和L2为C1‑6亚烷基、C6‑14亚芳基或C1‑6亚烷基‑C6‑14亚芳基‑C1‑6亚烷基，R25为H、C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基或C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3010R3011、O‑R3012和S‑R3013的取代基取代，且C6‑14芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3014R3015、O‑R3016和S‑R3017的取代基取代，其中R3010、R3011、R3012、R3013、R3014、R3015、R3016和R3017相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，L3为直接键、C1‑6亚烷基、C6‑14亚芳基或C1‑6亚烷基‑C6‑14亚芳基‑C1‑6亚烷基，且R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21和R22相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R310、OR311、SR312、OC(O)R313和C(O)OR314，其中R310、R311、R312、R313和R314为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基或C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3020R3021、O‑R3022、S‑R3023、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6‑14芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3024R3025、O‑R3026、S‑R3027、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R3020、R3021、R3022、R3023、R3024、R3025、R3026和R3027相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R17和R19一起，分别地，R18和R20一起为：所述方法包括用：a)MOH，其中M为碱金属、N(R400R401R402R403)、P(R400R401R402R403)或六(C1‑10烷基)胍离子，其中R400、R401、R402和R403相同或不同且选自H、C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基和C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被苯基取代，C6‑14芳基可被C1‑10烷基取代，和b)X‑给体，其中X为Cl、Br或I，处理下式化合物的步骤：其中：n具有对式(3)所述的含义，R9和R10相同或不同且为COOH或COOR200，其中R200为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基或C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2000R2001、O‑R2002和S‑R2003的取代基取代，C6‑14芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR2004R2005、O‑R2006和S‑R2007的取代基取代，其中R2000、R2001、R2002和R2003、R2004、R2005、R2006和R2007相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R9和R10一起为：且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R200、OR201、SR202、OC(O)R203和C(O)OR204，其中R200、R201、R202、R203和R204为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基或C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2010R2011、O‑R2012、S‑R2013、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6‑14芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR2014R2015、O‑R2016、S‑R2017、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R2...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.08.30 EP 12182331.4;2012.08.30 US 61/694,7831.一种制备下式化合物的方法：其中：n为0或1，R11和R12相同且选自CN、OR300、Si(R301)3、NHR302、NR303R304、SR305和R306，其中：R300、R301、R302、R303、R304、R305和R306为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基和C2-20炔基可被一个或多个选自苯基、NR3000R3001、O-R3002和S-R3003的取代基取代，且C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3004R3005、O-R3006和S-R3007的取代基取代，其中R3000、R3001、R3002、R3003、R3004、R3005、R3006和R3007相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R11和R12一起选自如下基团：其中：L1和L2为C1-6亚烷基、C6-14亚芳基或C1-6亚烷基-C6-14亚芳基-C1-6亚烷基，R25为H、C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3010R3011、O-R3012和S-R3013的取代基取代，且C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3014R3015、O-R3016和S-R3017的取代基取代，其中R3010、R3011、R3012、R3013、R3014、R3015、R3016和R3017相同或不同且为C1-10烷基或苯基，L3为直接键、C1-6亚烷基、C6-14亚芳基或C1-6亚烷基-C6-14亚芳基-C1-6亚烷基，且R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21和R22相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R310、OR311、SR312、OC(O)R313和C(O)OR314，其中R310、R311、R312、R313和R314为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3020R3021、O-R3022、S-R3023、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3024R3025、O-R3026、S-R3027、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R3020、R3021、R3022、R3023、R3024、R3025、R3026和R3027相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R17和R19一起，分别地，R18和R20一起为：所述方法包括用：a)MOH，其中M为碱金属、N(R400R401R402R403)、P(R400R401R402R403)或六(C1-10烷基)胍离子，其中R400、R401、R402和R403相同或不同且选自H、C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基和C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被苯基取代，C6-14芳基可被C1-10烷基取代，和b)X-给体，其中X为Cl、Br或I，处理下式化合物的步骤：其中：n具有对式(3)所述的含义，R9和R10一起为：且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R200、OR201、SR202、OC(O)R203和C(O)OR204，其中R200、R201、R202、R203和R204为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2010R2011、O-R2012、S-R2013、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR2014R2015、O-R2016、S-R2017、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R2010、R2011、R2012、R2013、R2014、R2015、R2016和R2017相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R3和R5一起，分别地，R4和R6一起为：从而获得下式化合物：其中：X具有对X-给体所述的含义，n具有对式(3)所述的含义，且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8具有对式(2)所述的含义。2.根据权利要求1的方法，其中n为1。3.根据权利要求1的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8相同或不同且选自H、Cl、Br、I、CN和OR201，其中R201为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2010R2011、O-R2012、S-R2013、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR2014R2015、O-R2016、S-R2017、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R2010、R2011、R2012、R2013、R2014、R2015、R2016和R2017相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R3和R5一起，分别地，R4和R6一起为：4.根据权利要求2的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8相同或不同且选自H、Cl、Br、I、CN和OR201，其中R201为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2010R2011、O-R2012、S-R2013、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR2014R2015、O-R2016、S-R2017、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R2010、R2011、R2012、R2013、R2014、R2015、R2016和R2017相同或不同且为C1-10烷基或苯基，或者R3和R5一起，分别地，R4和R6一起为：5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21和R22相同或不同且选自H、Cl、Br、I、CN和OR311，其中R311为C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C5-8环烷基或C6-14芳基，其中：C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基和C5-8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3020R3021、O-R3022、S-R3023、NO2、CN和卤素的取代基取代，C6-14芳基可被一个或多个选自C1-10烷基、NR3024R3025、O-R3026、S-R3027、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R3020、R3021...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·格斯纳，H·赖歇尔特，Y·扎格兰亚斯基，L·陈，C·李，K·米伦，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，马克思—普朗克科学促进协会公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE