本发明专利技术提供了一种清洗装置，用于清洗基板，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。本发明专利技术的清洗装置通过设置喷淋装置对基板进行清洗，并设置止挡件防止水流喷溅，并进一步设置风刀去除凝结所述止挡件内侧的水滴，防止水滴滴落至所述基板之上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶
，尤其涉及一种清洗装置。
技术介绍
在液晶显示面板制造行业，TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板上的金属图案通常采用湿法蚀刻形成。采用湿法蚀刻之后，需要喷嘴喷淋水，从而将所述TFT基板之上残留的刻蚀液洗净。但是在喷嘴喷淋过程中会溅起大量的水汽并凝结滴落至TFT基板上，从而导致TFT基板表面有残留水滴，进而导致清洗效果差以及TFT基板良品率低。
技术实现思路
本专利技术提供一种具有良好清洗效果且可避免水滴滴落至基板的清洗装置。一种清洗装置，用于清洗基板，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。进一步的，所述风刀包括呈长方体的中空室及设置于所述中空室下方的喷嘴，所述喷嘴呈三角柱状，其上设有用于喷出气体的线性端部。进一步的，所述止挡件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板与第二挡板的侧边分别固定连接于所述风刀两侧并朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置的开口。进一步的，所述风刀与止挡件采用金属材料制成。进一步的，所述止挡件焊接于所述风刀。进一步的，所述清洗装置还设有感测装置及连接于所述感测装置的控制阀，所述感测装置用于感测所述基板位置并控制所述控制阀的开启和关闭。进一步的，所述感测装置包括第一传感器及第二传感器，所述第一传感器与第二传感器沿所述传送装置的传送方向依次设置，当所述基板经过所述第一传感器时，所述第一传感器控制所述控制所述控制阀关闭，从而控制所述风刀停止喷气；当所述基板经过并离开所述第二传感器时，所述第二传感器控制所述控制阀开启，从而开启风刀以去除形成于所述止挡件的水滴。进一步的，所述止挡件于所述传送装置所在平面的竖直投影位于所述第一传感器与第二传感器之间。本专利技术的清洗装置通过设置喷淋装置对基板进行清洗，并设置止挡件防止水流喷溅，并进一步设置风刀去除凝结所述止挡件内侧的水滴，防止水滴滴落至所述基板之上。另，本专利技术的清洗装置设置感测装置，控制所述喷淋装置及风刀的开启或关闭，提升去除凝结所述止挡件内侧的水滴的工作效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术提供的一种清洗装置的结构示意图；图2是本专利技术提供的清洗装置的风刀的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1及图2，本专利技术较佳实施方式提供一种清洗装置10，可设置于湿制程腔室内，对基板20进行清洗。所述清洗装置10包括传送装置11、喷淋装置13及止挡装置15。在本实施例中，所述基板20指TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板或其他类型的需进行清洗的各类基板。所述传送装置11用于传送基板20。在本实施例中，所述传送装置11包括多个传动轮111，所述传动轮111可在驱动装置(图未示)驱动下同向转动以驱动基板20移动。可以理解的是，所述传送装置11可采用任意的适用现有技术，如可采用传送带等可传输基板20的各类装置，在此不再赘述。所述喷淋装置13设置于所述传送装置11上方。所述喷淋装置13采用水刀，其设置于所述传送装置11上方，用于向所述传送装置11所传送的基板20喷水以清洗所述基板20。所述止挡装置15包括止挡件151、风刀153及连接于所述风刀153的进气管155。所述止挡件151设置于所述基板20上方，从而防止所述喷淋装置13喷水时形成的水滴与水气喷溅。可以理解的是，喷淋装置13的设置位置、所述喷淋装置13相对于所述止挡件151的设置位置可按需自行调整。所述风刀153设置于所述止挡件151朝向所述传送装置11一侧，所述进气管155连接于外部气源50以向所述风刀153供气。所述风刀153用于喷射气体以去除形成于所述止挡件151内侧的水滴。进一步的，如图2所示，在本实施例中，所述风刀153包括呈长方体的中空室1531及设置于所述中空室1531下方的喷嘴1533，所述喷嘴1533呈三角柱状，其上设有用于喷出气体的线性端部1535。进一步的，在本实施例中，所述止挡件151包括第一挡板1511及第二挡板1512，所述第一挡板1511与第二挡板1512的侧边分别固定连接于所述风刀153两侧并朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置11的开口。所述风刀153的喷嘴1533的线性端部1535平行于所述传送装置11的传送方向及设置于所述传送装置11之上的基板20。使用时，所述喷淋装置13产生水气并可进一步形成凝结于所述止挡件151内侧的水滴。所述清洗装置10可通过风刀153产生气流，从而去除形成于所述止挡件151内侧的水滴，防止在后续制程中，当基板20传送至所述止挡件151下方时，水滴滴落至所述基板20。进一步的，在本实施例中，所述风刀153与止挡件151采用金属材料制成，并通过焊接的方式相互固定连接。可以理解的是，所述风刀153的气流喷射方向可根据止挡件151形状、尺寸自行设置，只需保证其可去除或部分去除形成于止挡件151内侧的水滴即可。所述风刀153与所述止挡件151也可采用其他材料，如塑料制成，并通过其他方式，如胶水粘结的方式相互连接。进一步的，所述清洗装置10还设有感测装置及连接于所述感测装置的控制阀30，所述感测装置用于感测所述基板20位置，从而控制所述控制阀30的开启和关闭。所述控制阀30设置于所述进气管155以控制所述进气管155开启或关闭，进而控制所述风刀153喷气或关闭。进一步的，所述感测装置用于感测所述基板20在所述传送装置11的传送下完成喷淋并进入所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种清洗装置，用于清洗基板，其特征在于，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，用于清洗基板，其特征在于，所述清洗装置包括传送装
置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设
置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、
风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀
设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所
述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。
2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述风刀包括呈长方体的
中空室及设置于所述中空室下方的喷嘴，所述喷嘴呈三角柱状，其上设有用于
喷出气体的线性端部。
3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述止挡件包括第一挡板
及第二挡板，所述第一挡板与第二挡板的侧边分别固定连接于所述风刀两侧并
朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置的开口。
4.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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