下述通式[1D]表示的化合物作为用于制造硫代核苷的中间体是有用的，本发明专利技术的制造方法作为硫代核苷的制造方法是有用的；通式[1D]中，R1A、R1B、R2A、R2B、R3A和R3B表示氢原子、可被取代的C1-6烷基等。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及对于作为药物有用的硫代核巧的制造等有用的化合物及其制造方法。 此外，本专利技术还设及对于作为抗肿瘤剂有用的1-(2-脱氧-2-氣-4-硫 代-0 -D-阿拉伯快喃糖基）胞喀晚（l-(2-deox}f-2-fluo;r〇-4-thi〇-|3 -D-arabinofurano S^)c^osine)的制造等有用的化合物及其制造方法。
技术介绍
已知氧原子被替换成硫原子的硫代核巧显示抗病毒活性和/或抗肿瘤活性。 例如已知，1-(2-脱氧-2-氣-4-硫代-0 -D-阿拉伯快喃糖基）胞喀晚（W下有 时称为"化合物A")具有优异的抗肿瘤活性，作为肿瘤治疗剂是有用的（专利文献1)。作 为化合物A的制造方法，已知例如使用1，2:5, 6-二-0-亚异丙基-a-D-阿洛糖的方法（专 利文献1)。另外，还已知使用5-0-节基-2, 3-0-亚异丙基-k来苏糖酸-1，4-内醋的方法 (专利文献2)。 另外，作为含硫5元环化合物的制造方法，已知使丫-面代醋与硫代己酸钟反应的 方法（非专利文献1)、使丫-面代酬与硫氨化钢反应的方法（非专利文献2)等。 现有技术文献 专利文献[000引专利文献1 ;国际公开第1997/038001号小册子 专利文献2 ;国际公开第2011/074484号小册子 非专利文献 非专利文献1 ;。卡一十瓜?才：7'' ? ^尹^シ十瓜?个S乂hy-（Journalof MedicinalChemistry)、2003 年、第 46 卷、第 389-398 页[001引 非专利文献2 ;3- 口lfアシ?。卡一十瓜?才六?才一方二ッ夕?个S乂hy一巧uropeanJournalofOrganicQiemistry)、2012 年、第 203-210 页
技术实现思路
[001引专利技术欲解决的课题 但是，非专利文献1中记载的制造方法存在在极低温下（一78°C)下反应、使用操 作上需要注意的试剂、立体选择性低等问题。非专利文献2中记载的制造方法存在硫代核 巧的结构受到限定、反应性低的问题。 另外，专利文献1和专利文献2中记载的制造方法存在工序数多、需要柱色谱法、 收率低、使用有害的试剂等问题。 因此，强烈要求有为短时间、高反应率、高立体选择性且不使用工业制造上不优选 的反应条件、试剂的硫代核巧和化合物A的工业制造方法。 本专利技术的课题在于提供一种对于硫代核巧的制造等有用的新型化合物及其制造 方法。 另外，本专利技术的课题还在于提供一种对于作为抗肿瘤剂有用的化合物A的制造等 有用的新型化合物及其制造方法。 用于解决课题的手段 本专利技术者们为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现，通过使通式表示 的化合物与硫化合物反应，能够W短时间、高反应率、高立体选择性获得通式表示的 化合物。进而发现了，从通式表示的化合物经过通式表示的化合物能够工业 制造硫代核巧。 另外，本专利技术者们还发现了通式表示的化合物是用于制造化合物A的有用的 中间体。进而本专利技术者们还发现了，从通式表示的化合物经过通式表示的化合物， 能够W短时间、高反应率、高立体选择性且不使用工业制造上不优选的反应条件、试剂地工 业制造化合物A，从而完成了本专利技术。 目P，根据本专利技术，提供通式表示的化合物的制造方法，【主权项】1. 通式表示的化合物的制造方法，其特征在于，使通式表示的化合物与硫化 合物反应；通式中，1?'俨、1^、俨、1^和1^具有与下述基团相同的含义；通式中，RIprib相同或不同地表示氢原子、可被保护的羧基、可被取代的Cp6烷 基、可被取代的c2_6链烯基、可被取代的c 2_6炔基、可被取代的芳基或可被取代的杂环式基 团；r24p r2B相同或不同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠氮基、可被保护的氨基、可被 保护的羧基、通式表示的基团、可被取代的CV 6烷基、可被取代的C2_6链烯基、可被取 代的C2_ 6块基、可被取代的C i_6烧氧基、可被取代的C i_6烧基硫基、可被取代的芳基、可被取 代的芳氧基、可被取代的芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被 取代的杂环式硫基；或者R 2SPR2b可以一起形成可被取代的Cp6次烷基；R3Spr 3b相同或不 同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠氮基、可被保护的氨基、可被保护的羧基、通式 表示的基团、可被取代的Cp 6烷基、可被取代的c 2_6链烯基、可被取代的c 2_6炔基、可被取代 的Cp6烧氧基、可被取代的C i_6烧基硫基、可被取代的芳基、可被取代的芳氧基、可被取代的 芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被取代的杂环式硫基；或者 R3i^PR3B可以一起形成可被取代的Cp6次烷基；或者R2Spr 3a可以一起形成通式表示 的基团或原子键；或者R2A、R2B、R 34p R3b可以与它们所键合的碳原子一起形成可被取代的芳 香环；X表示离去基团； -OR2a 通式中，R2a表示羟基保护基； -OR3a 通式中，R3a表示羟基保护基； -O-Y1-O- 通式中，Y1表示可被取代的C η亚烷基或可被取代的硅氧烷基；左侧的原子键与 R2Am键合的碳原子键合。2. 通式表示的化合物的制造方法，其特征在于，使通式表示的化合物与硫 化合物反应；通式中，1?'俨、1^、俨、1^和1^具有与下述基团相同的含义；通式中，RlPRD相同或不同地表示氢原子、可被保护的羧基、可被取代的C η 烷基、可被取代的C2_6链烯基、可被取代的C 2_6炔基、可被取代的芳基或可被取代的杂环式 基团；R2i^P R 2B相同或不同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠 氮基、可被保护的氨基、可 被保护的羧基、通式表示的基团、可被取代的CV6烷基、可被取代的C 2_6链烯基、可被取 代的C2_6块基、可被取代的C i_6烧氧基、可被取代的C i_6烧基硫基、可被取代的芳基、可被取 代的芳氧基、可被取代的芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被 取代的杂环式硫基；或者R 2SPR2b可以一起形成可被取代的Cp6次烷基；R3Spr 3b相同或不 同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠 氮基、可被保护的氨基、可被保护的羧基、通式 表示的基团、可被取代的Cp6烷基、可被取代的c 2_6链烯基、可被取代的c 2_6炔基、可被取代 的Cp6烧氧基、可被取代的C i_6烧基硫基、可被取代的芳基、可被取代的芳氧基、可被取代的 芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被取代的杂环式硫基；或者 R3i^PR3B可以一起形成可被取代的Cp6次烷基；或者R2Spr 3a可以形成通式表示的基 团或原子键；或者R2A、R2B、R 34p R3b与它们所键合的碳原子一起可以形成可被取代的芳香 环；X表示离去基团； -OR2a 通式中，R2a表示羟基保护基； -OR3a 通式中，R3a表示羟基保护基； -O-Y1-O- 通式中，Y1表示可被取代的C η亚烷基或可被取代的硅氧烷基；左侧的原子键与 R2Am键合的碳原子键合。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，R 14和R 1B相同或不同地为氢原子、可被 保护的羧基、可被取代的CV6烷基本文档来自技高网...
【技术保护点】
通式[1E]表示的化合物的制造方法，其特征在于，使通式[1D]表示的化合物与硫化合物反应；通式[1E]中，R1A、R1B、R2A、R2B、R3A和R3B具有与下述基团相同的含义；通式[1D]中，R1A和R1B相同或不同地表示氢原子、可被保护的羧基、可被取代的C1‑6烷基、可被取代的C2‑6链烯基、可被取代的C2‑6炔基、可被取代的芳基或可被取代的杂环式基团；R2A和R2B相同或不同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠氮基、可被保护的氨基、可被保护的羧基、通式[15]表示的基团、可被取代的C1‑6烷基、可被取代的C2‑6链烯基、可被取代的C2‑6炔基、可被取代的C1‑6烷氧基、可被取代的C1‑6烷基硫基、可被取代的芳基、可被取代的芳氧基、可被取代的芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被取代的杂环式硫基；或者R2A和R2B可以一起形成可被取代的C1‑6次烷基；R3A和R3B相同或不同地表示氢原子、羟基、卤原子、氰基、叠氮基、可被保护的氨基、可被保护的羧基、通式[16]表示的基团、可被取代的C1‑6烷基、可被取代的C2‑6链烯基、可被取代的C2‑6炔基、可被取代的C1‑6烷氧基、可被取代的C1‑6烷基硫基、可被取代的芳基、可被取代的芳氧基、可被取代的芳基硫基、可被取代的杂环式基团、可被取代的杂环式氧基或可被取代的杂环式硫基；或者R3A和R3B可以一起形成可被取代的C1‑6次烷基；或者R2A和R3A可以一起形成通式[17]表示的基团或原子键；或者R2A、R2B、R3A和R3B可以与它们所键合的碳原子一起形成可被取代的芳香环；X表示离去基团；‑OR2a [15]通式[15]中，R2a表示羟基保护基；‑OR3a [16]通式[16]中，R3a表示羟基保护基；‑O‑Y1‑O‑ [17]通式[17]中，Y1表示可被取代的C1‑6亚烷基或可被取代的硅氧烷基；左侧的原子键与R2A所键合的碳原子键合。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：中村刚希，岛村贤，井本润一，高桥基将，渡边克之，和田健二，藤野雄太，松本拓也，高桥真，冈田英希，山根健浩，伊藤孝之，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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