光学器件及其制造方法和母板的制造方法技术

本发明专利技术提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中，具有防反射功能的光学器件，包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65％。

【技术实现步骤摘要】
光学器件及其制造方法和母板的制造方法本申请是如下专利申请的分案申请：专利技术名称：光学器件及其制造方法和母板的制造方法；申请日：2010年8月26日；申请号：201010265401.1。相关申请的参考本专利技术包含于2009年9月2日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP2009-203179的主题，将其全部内容结合于此，作为参考。
本专利技术涉及光学器件及其制造方法、以及在光学器件中使用的母板的制造方法，具体而言，涉及具有在其上以等于或小于可见光波长的微小节距配置通过凸部或凹部所形成的多个结构体的表面的光学器件。
技术介绍
通常，在使用由玻璃、塑料等构成的透明基板的一些光学器件中，执行表面处理，从而抑制光线的表面反射。作为这种类型的表面处理，存在在光学器件的表面上形成微小致密的凹凸(蛾眼)的处理(例如，见“OpticalandElectro-OpticalEngineeringContact”，Vol.43，No.11(2005)，p630-637)。通常，在周期性凹凸形状被配置在光学器件的表面上的情况下，当光透射通过凹凸形状时，发生衍射。因此，透射光的直线传播组分大量减少。但本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学器件，具有防反射功能，所述光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在所述基底的表面上，各所述结构体被配置为在所述基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于65％。

【技术特征摘要】
2009.09.02 JP 2009-2031791.一种具有防反射功能的光学器件的制造方法，所述方法包括以下步骤：在圆柱状或圆筒状的母板的圆周面上形成抗蚀层；一边旋转其上形成了所述抗蚀层的所述母板并且平行于所述圆柱状或圆筒状的母板的中心轴相对移动激光束的光点，一边间歇性地将激光束照射在所述抗蚀层上，以比可见光波长更小的节距形成潜像；显影所述抗蚀层，在所述母板的表面上形成抗蚀图案；通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，在所述母板的表面上形成凹状或凸状的结构体；以及使用其上形成了所述结构体的所述母板，制备转印有所述结构体的光学器件，在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置为在所述母板的表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，所述结构体的转印步骤包括：在基底上形成包含硅氧烷树脂的树脂层；以及将所述母板压在所述树脂层上来转印所述母板的结构体，所述结构体对所述母板的表面的填充率等于或高于65％。2.一种光学器件，是利用如权利要求1所述的光学器件的制造方法制造的光学器件，具有防反射功能，所述光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在所述基底的表面上，各所述结构体被配置为在所述基底的表面上形成多列轨迹，并且形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于65％。3.根据权利要求2所述的光学器件，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于73％。4.根据权利要求3所述的光学器件，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于86％。5.根据权利要求2所述的光学器件，各所述结构体被配置为形成具有直线形状的多列轨迹，并形成准六方点阵图案，在所述轨迹的延伸方向上的所述结构体的高度或深度小于在所述轨迹的列方向上的所述结构体的高度或深度。6.根据权利要求2所述的光学器件，各所述结构体被配置为形成具有直线形状的多列轨迹，并形成四方点阵图案或准四方点阵图案，在相对于所述轨迹延伸方向倾斜的配置方向上的所述结构体的高度或深度小于在所述轨迹的延伸方向上的所述结构体的高度或深度。7.根据权利要求2所述的光学器件，在同一轨迹内的所述结构体的配置节距P1大于相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距P2。8.根据权利要求2所述的光学器件，各所述结构体在所述基底的表面上形成六方点阵图案或准六方点阵图案，当同一轨迹内的所述结构体的配置节距为P1、相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距为P2时，比率P1/P2满足关系1.00≤P1/P2≤1.1或1.00＜P1/P2≤1.1。9.根据权利要求2所述的光学器件，所述结构体在所述基底的表面上形成四方点阵图案或准四方点阵图案，当同一轨迹内的所述结构体的配置节距为P1、相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距为P2时，比率P1/P2满足关系1.4＜P1/P2≤1.5。10.一种具有防反射功能的光学器件的制备用母板的制造方法，所述方法包括以下步骤：在圆柱状或圆筒状的母板的圆周面上形成抗蚀层；一边旋转其上形成了所述抗蚀层的所述母板并且平行于所述圆柱状或圆筒状的母板的中心轴相对移动激光束的光点，一边间歇性地将激光束照射在所述抗蚀层上，以比可见光波长更小的节距形成潜像；显影所述抗蚀层，在所述母板的表面上形成抗蚀图案；以及通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，在所述母板的表面上形成凹状或凸状的结构体，在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置为在所述母板的表面上形成多列轨迹，并形成准六方...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤惣铭，林部和弥，
申请(专利权)人：迪睿合电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP