有机电致发光器件及其制备方法技术

一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极，所述阴极层由有机电子传输材料层，掺杂层和薄膜层组成，有机电子传输材料层材料HOMO能级在-6.5eV～-7.5eV，所述掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，所述钠盐选自碳酸钠、氯化钠、氟化钠和溴化钠中至少一种，VB族金属氧化物选自五氧化二钽、五氧化二钒和五氧化二铌中至少一种，钝化材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化镍和氧化铜中至少一种，所述薄膜层材料选自铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材和铟锌氧化物靶材中至少一种。上述有机电致发光器件的发光效率较高。本发明专利技术还提供一种有机电致发光器件的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极，所述阴极层由有机电子传输材料层，掺杂层和薄膜层组成，有机电子传输材料层材料HOMO能级在-6.5eV～-7.5eV，所述掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，所述钠盐选自碳酸钠、氯化钠、氟化钠和溴化钠中至少一种，VB族金属氧化物选自五氧化二钽、五氧化二钒和五氧化二铌中至少一种，钝化材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化镍和氧化铜中至少一种，所述薄膜层材料选自铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材和铟锌氧化物靶材中至少一种。上述有机电致发光器件的发光效率较高。本专利技术还提供一种有机电致发光器件的制备方法。【专利说明】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
有机电致发光器件的发光原理是基于在外加电场的作用下，电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道(LUMO)，而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道(HOMO)。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子，激子在电场作用下迁移，将能量传递给发光材料，并激发电子从基态跃迁到激发态，激发态能量通过辐射失活，产生光子，释放光能。 传统的有机电致发光器件的阴极一般为银(Ag)、金(Au)等金属，制备后阴极极易渗透到有机层，对有机层造成破坏，电子在阴极附近容易淬灭，从而发光效率较低。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种发光效率较高的。 —种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极，所述阴极层由有机电子传输材料层，掺杂层和薄膜层组成，所述有机电子传输材料层材料HOMO能级在-6.5eV?-7.5eV,所述掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，所述钠盐选自碳酸钠、氯化钠、氟化钠和溴化钠中至少一种，所述VB族金属氧化物选自五氧化二钽、五氧化二钒和五氧化二铌中至少一种，所述钝化材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化镍和氧化铜中至少一种，所述薄膜层材料选自铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材和铟锌氧化物靶材中至少一种。 所述掺杂层材料中所述钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料的质量比为(2?5):(5 ?8):1。 所述有机电子传输材料选自1，2，4-三唑衍生物、2，2’ -(1，3_苯基)二 、2，9- 二甲基-4，7-联苯-1，10-邻二氮杂菲和2，8- 二(二苯膦氧基)二苯并噻吩中至少一种。 所述有机电子传输材料层厚度为10nm?300nm,所述掺杂层厚度为50nm?200nm,所述薄膜层厚度为10nm?400nm。 一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤: 在阳极表面依次形成空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层;及 在电子注入层表面通过热阻蒸镀的方法制备有机电子传输材料层，所述有机电子传输材料层材料HOMO能级在-6.5eV?-7.5eV,玻璃化转变温度在50°C?100°C接着在所述有机电子传输材料层表面通过电子束蒸镀方式制备掺杂层，所述掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，所述钠盐选自碳酸钠、氯化钠、氟化钠和溴化钠中至少一种，所述VB族金属氧化物选自五氧化二钽、五氧化二钒和五氧化二铌中至少一种，所述钝化材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化镍和氧化铜中至少一种，通过磁控溅射的方式在所述掺杂层表面蒸镀制备所述薄膜层，所述薄膜层材料选自铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材和铟锌氧化物靶材中至少一种。 所述掺杂层材料中所述钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料的质量比为(2?5):(5 ?8):1。 所述有机电子传输材料选自1，2，4-三唑衍生物、2，2’ -(1，3_苯基)二 、2，9- 二甲基-4，7-联苯-1，10-邻二氮杂菲和2，8- 二(二苯膦氧基)二苯并噻吩中至少一种。 所述有机电子传输材料层厚度为10nm?300nm,所述掺杂层厚度为50nm?200nm,所述薄膜层厚度为10nm?400nm。 所述热阻蒸镀方式的具体工艺条件为:工作压强为2X KT3Pa?5X 10_5Pa，工作电流为IA?3A,有机材料的蒸镀速率为0.lnm/s?lnm/s,金属及金属化合物的蒸镀速率为lnm/s ?10nm/so 所述电子束蒸镀方式的具体工艺条件为:工作压强为2X10—3?5X10_5Pa，电子束蒸镀的能量密度为lOW/cm2?lOOW/cm2，有机材料的蒸镀速率为0.lnm/s?lnm/s，金属及金属化合物的蒸镀速率为lnm/s?10nm/s,所述磁控派射方式的具体工艺条件为:工作压强为2 X 10_3?5 X 10_5Pa，磁控溅射的加速电压:300V?800V，磁场约:50G?200G，功率密度:lW/cm2?40W/cm2,有机材料的蒸镀速率为0.lnm/s?lnm/s,金属及金属化合物的蒸镀速率为lnm/s?10nm/s。 上述，通过制备多层结构的阴极结构，该阴极结构层由有机电子传输材料层，掺杂层和薄膜层组成，有机电子传输材料层为结晶性材料使膜层表面形成波纹状结构，使垂直发射的光散射，从而不会与金属层的自由电子发生耦合(平行的自由电子会与垂直的光子耦合而损耗掉)，提高光子利用率，同时，材料具有电子传输性能，可提高电子的传输速率，掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，钠盐的功函数接近于有机材料的LUMO能级，可有效降低电子注入势垒，提高电子的注入效率，VB族金属氧化物可提高光的透过率，形成散射使光线散射回到中间，钝化材料可有效提高有机电致发光器件的稳定性，隔绝氧气和水汽，薄膜层提高有机电致发光器件的导电性，增强光的反射加强出光效率从而提高发光效率。 【专利附图】【附图说明】 图1为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图； 图2为一实施方式的有机电致发光器件的阴极结构示意图； 图3为实施例1制备的有机电致发光器件的电流密度与流明效率关系图。 【具体实施方式】 下面结合附图和具体实施例对进一步阐明。 请参阅图1，一实施方式的有机电致发光器件100包括依次层叠的阳极10、空穴注入层20、空穴传输层30、发光层40、电子传输层50、电子注入层60及阴极70。 阳极10为铟锡氧化物玻璃(ΙΤ0)、掺氟的氧化锡玻璃(FT0)，掺铝的氧化锌玻璃(AZO)或掺铟的氧化锌玻璃(ΙΖ0)，优选为ΙΤ0。 空穴注入层20形成于阳极10表面。空穴注入层20的材料选自三氧化钥(Mo03)、三氧化钨(WO3)及五氧化二钒(V2O5)中的至少一种，优选为Mo03。空穴注入层20的厚度为20nm ?80nm,优选为 30nm。 空穴传输层30形成于空穴注入层20的表面。空穴传输层30的材料选自1，1_ 二苯基]环己烷(TAPC)、4，4’，4’’_三(咔唑_9_基)三苯胺(TCTA)及N，N’ - (1-萘基)-N，N’ - 二苯基-4，4’ -联苯二胺(NPB)中的至少一种，优选为NPB。空穴传输层30的厚度为20nm?60nm，优选为50nm。 发光层40形成于空穴传输层30的表面。发光层40的材料选自4- (二腈甲基)-2-丁基-6-( 1，1，7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB)、9，10-二 - β -亚萘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光器件，其特征在于，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极，所述阴极层由有机电子传输材料层，掺杂层和薄膜层组成，所述有机电子传输材料层材料HOMO能级在‑6.5eV～‑7.5eV，所述掺杂层包括钠盐，VB族金属氧化物和钝化材料，所述钠盐选自碳酸钠、氯化钠、氟化钠和溴化钠中至少一种，所述VB族金属氧化物选自五氧化二钽、五氧化二钒和五氧化二铌中至少一种，所述钝化材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化镍和氧化铜中至少一种，所述薄膜层材料选自铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材和铟锌氧化物靶材中至少一种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，黄辉，张娟娟，王平，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44