一种室温P-N-P异质结型氢气传感器及其制备方法技术

技术编号:11281658 阅读:138 留言:0更新日期:2015-04-09 15:25
本发明专利技术涉及微电子机械系统气体传感器、半导体材料和有机/无机复合纳米材料领域,公开了一种室温P-N-P异质结型氢气传感器及其制备方法。首先采用碱法或干法刻蚀工艺制备P型微结构硅衬底,或者采用酸法或电化学法刻蚀工艺制备P型多孔硅衬底,然后在硅衬底表面制备金属纳米颗粒(作为N型材料),再在金属纳米颗粒层上方制备P型有机半导体薄膜,最后在敏感薄膜上制备叉指电极,得到电阻型P-N-P异质结型氢气传感器。本发明专利技术从材料和结构两方面提高了传感器的性能,使其可在室温下工作,具有良好的应用开发前景。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及微电子机械系统气体传感器、半导体材料和有机/无机复合纳米材料领域,公开了一种室温P-N-P异质结型氢气传感器及其制备方法。首先采用碱法或干法刻蚀工艺制备P型微结构硅衬底,或者采用酸法或电化学法刻蚀工艺制备P型多孔硅衬底,然后在硅衬底表面制备金属纳米颗粒(作为N型材料),再在金属纳米颗粒层上方制备P型有机半导体薄膜,最后在敏感薄膜上制备叉指电极,得到电阻型P-N-P异质结型氢气传感器。本专利技术从材料和结构两方面提高了传感器的性能,使其可在室温下工作,具有良好的应用开发前景。【专利说明】—种室温P-N-P异质结型氢气传感器及其制备方法
本专利技术涉及微电子机械系统气体传感器、半导体材料和有机/无机复合纳米材料领域,具体涉及一种室温P-N-P异质结型氢气传感器及其制备方法。
技术介绍
氢气作为一种清洁无污染的高效燃料,具有良好的发展前景,已受到世界各国的高度重视。它作为一种基本原料,在石油化工、冶金工业以及航天工业中得到广泛的应用。但是氢气分子很小,在生产、传输和使用过程中极易发生泄漏,而且氢气无色无味,爆炸极限范围宽(4%-75%),遇本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种室温P‑N‑P异质结型氢气传感器,其特征在于:包括衬底,所述衬底为P型微结构硅或P型多孔硅,所述P型微结构硅或P型多孔硅的表面设置有金属纳米颗粒层,所述金属纳米颗粒层的表面设置有P型有机半导体薄膜,所述P型有机半导体薄膜的表面设置有叉指电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:太惠玲刘春华叶宗标蒋亚东
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:四川;51

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