本发明专利技术的课题是提供图案固化被膜的密合性印刷图案的转印性优异的适合于墨液用的聚硅氧烷组合物、由该墨液组合物形成的固化被膜以及电子器件或光学器件。一种适合于墨液的硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(A)通过使包含选自通式(1)～(3)中的1种以上硅烷化合物的硅烷化合物水解和缩合而得的聚硅氧烷，和(b)溶剂。R02-nR1nSi(OR9)2(1)(R0表示氢、烷基、链烯基、苯基或它们的取代体。R1表示多环式芳香族基或其取代体。R9表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。n为1或2。在n为2的情况下，多个R1可以相同也可以不同。)R2Si(OR10)3(2)(R2表示多环式芳香族基或其取代体。R10表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。)(R11O)mR43-mSi-R3-Si(OR12)lR53-l(3)(R3表示2价的多环式芳香族基或其取代体。R4和R5表示氢、烷基、链烯基、芳基或它们的取代体，分别可以相同也可以不同。R11和R12表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也可以不同。m和l各自独立地为1～3的整数。)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术的课题是提供图案固化被膜的密合性印刷图案的转印性优异的适合于墨液用的聚硅氧烷组合物、由该墨液组合物形成的固化被膜以及电子器件或光学器件。一种适合于墨液的硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(A)通过使包含选自通式(1)～(3)中的1种以上硅烷化合物的硅烷化合物水解和缩合而得的聚硅氧烷，和(b)溶剂。R02-nR1nSi(OR9)2(1)(R0表示氢、烷基、链烯基、苯基或它们的取代体。R1表示多环式芳香族基或其取代体。R9表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。n为1或2。在n为2的情况下，多个R1可以相同也可以不同。)R2Si(OR10)3(2)(R2表示多环式芳香族基或其取代体。R10表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。)(R11O)mR43-mSi-R3-Si(OR12)lR53-l(3)(R3表示2价的多环式芳香族基或其取代体。R4和R5表示氢、烷基、链烯基、芳基或它们的取代体，分别可以相同也可以不同。R11和R12表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也可以不同。m和l各自独立地为1～3的整数。)。【专利说明】聚硅氧烷组合物、电子器件及光学器件
本专利技术涉及对于电气器件和光学器件的图案形成用墨液有用的聚硅氧烷组合物 和由该组合物形成的固化被膜、以及电子器件和光学器件。
技术介绍
近年来，作为更低成本并且简便地制造电子器件、光学器件的技术，将涂布液的图 案形成通过印刷来进行的可印刷电子技术受到关注。在印刷法中，可以直接形成图案被膜， 因此有材料的使用效率高的优点。此外，与作为一般的图案形成法的光刻法相比，曝光、显 影等工序少，并且，不需要显影液、显影废液的管理等，带来低成本化。此外，由于不产生显 影废液，因此对环境的负荷也被抑制。对于塑料基板的图案形成被膜的制作容易这点也是 印刷法的优点，对于电子器件的柔性化而言，印刷法是有用的方法。 可印刷电子用的印刷法中，与以往的印刷法相比，需要高精细、高精度、高表面平 滑性等。作为这样的印刷法，提出了凹版印刷、喷墨印刷、网版印刷、平版印刷、反转平版印 刷法（例如参照专利文献1)、剥离平版印刷法（例如参照专利文献2)、和微接触印刷法（例 如参照专利文献3、非专利文献1)等。 作为电子器件或光学器件的用途，可举出例如，薄膜晶体管（TFT)的栅极绝缘膜、 TFT用平坦化膜、滤色器的外覆层、光阻间隙物（photo spacer)、触摸传感器的保护膜、绝缘 膜、防反射膜、防反射板、光学过滤器和半导体元件的层间绝缘膜等。作为它们的制造法，期 望为可以直接形成高精细并且表面平滑的图案的高精细的印刷法，例如，报告了利用凸版 反转平版印刷法的绝缘膜形成用墨液组合物（例如参照专利文献4)。此外，报告了利用聚 硅氧烷的墨液组合物。（例如参照专利文献5)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平11-58921号公报 专利文献2 :日本特开2004-249696号公报 专利文献3 :日本特开2010-147408号公报 专利文献4 :日本特开2010-265423号公报 专利文献5 :日本特开2011-219544号公报 非专利文献 非专利文献l:Langmuir(美国），1994年，第10卷，第5号，1498-1511页
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 对于可印刷电子用的墨液组合物而言，与以往的墨液用组合物相比，印刷图案的 转印性、与基板的密合性不足，需要改善。本专利技术的目的在于提供图案固化被膜的密合性和 印刷图案的转印性优异的聚硅氧烷组合物。而且，进一步的课题在于提供由聚硅氧烷组合 物形成的固化被膜、以及电子器件或光学器件。 用于解决课题的方法 本专利技术为一种硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(Al)聚硅氧烷，该聚硅氧烷是通 过使至少包含选自通式（1)?（3)中的1种以上硅烷化合物的硅烷化合物组合物水解和缩 合而得的，和 (B)溶剂。 RVnR1nSi(OR9)2 (1) R°表示氢、烷基、链烯基、苯基或它们的取代体。R 1表示多环式芳香族基或其取代 体。R9表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。η为1或2。在η为2的情 况下，多个R 1可以相同也可以不同。 R2Si(OR10)3 (2) R2表示多环式芳香族基或其取代体。R 1(1表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相 同也可以不同。 (R11O)niRVniSi-R 3-Si(OR12)1RV1 (3) R3表示2价的多环式芳香族基或其取代体。R4和R5表示氢、烷基、链烯基、芳基或 它们的取代体，分别可以相同也可以不同。R 11和R12表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别 可以相同也可以不同。m和1各自独立地为1?3的整数。 进一步为一种硅氧烷组合物，其包含：(A2)聚硅氧烷，该聚硅氧烷是通过使包含 选自上述通式（1)?（3)中的1种以上硅烷化合物和通式（7)所示的硅烷化合物的硅烷化 合物组合物水解和缩合而得的，和 ⑶溶剂。 R9aSi (OR16) 4_a (7) R9表示包含乙烯基、环氧基和氧杂环丁烷基中的至少1个的碳原子数3?20的有 机基团。分别可以相同也可以不同。R 16表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也 可以不同。a为1?3的整数。） 进一步为一种硅氧烷组合物，其包含：(A3)聚硅氧烷，该聚硅氧烷是通过使包含 选自上述通式（1)?（3)中的1种以上硅烷化合物、上述通式（7)所示的硅烷化合物和通 式（8)所示的硅烷化合物的硅烷化合物组合物水解和缩合而得的，和 (B)溶剂。 RltlbSi (OR17) 4_b (8) 这里，Rltl表示包含苯基的碳原子数3?20的有机基团。分别可以相同也可以不 同。R 17表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也可以不同。b为1?3的整数。） 专利技术的效果 通过使用本专利技术的硅氧烷系树脂组合物，从而能够简便并且低成本制造对于印刷 图案的转印性、图案固化被膜的密合性优异的印刷特性而言必要的墨液组合物、由该墨液 组合物形成的固化被膜、以及电子器件或光学器件。 【专利附图】【附图说明】 图1为显示作为印刷方法的一例的反转平版印刷法的概略图。 图2为显示作为印刷方法的一例的剥离平版印刷法的概略图。 图3为显示作为印刷方法的一例的微接触印刷法的概略图。 图4为显示具备绝缘膜作为栅极绝缘膜的TFT的截面示意图。 【具体实施方式】 本专利技术为一种硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(Al)聚硅氧烷，该聚硅氧烷是通 过使至少包含选自上述通式（1)?（3)中的1种以上硅烷化合物的硅烷化合物水解和缩合 而得的，和（B)溶剂。另外，本专利技术中的所谓墨液用，是指供于用于利用印刷法来形成膜、印 刷图案的墨液的用途。 本专利技术所使用的（Al)聚硅氧烷具有多环式芳香族环。含有该聚硅氧烷的硅氧烷 组合物具有下述优点：在涂布于印刷版时，抑制组合物的凹陷，对印刷版的涂布性良好，进 一步，印刷图案向对象基材（被印刷基材）的转印良好。可以认为这是因本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种聚硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(A1)聚硅氧烷，该聚硅氧烷是通过使硅烷化合物水解和缩合而得的，所述硅烷化合物至少包含选自通式(1)～(3)中的1种以上硅烷化合物，和(B)溶剂，R02‑nR1nSi(OR9)2 (1)R0表示与硅原子直接连接的氢、烷基、链烯基、苯基或它们的取代体；R1为1价的基团，表示多环式芳香族基或其取代体；R9表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同；n为1或2；在n为2的情况下，多个R1可以相同也可以不同；R2Si(OR10)3 (2)R2表示多环式芳香族基或其取代体；R10表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同；(R11O)mR43‑mSi‑R3‑Si(OR12)lR53‑l (3)R3表示2价的多环式芳香族基或其取代体；R4和R5表示氢、烷基、链烯基、芳基或它们的取代体，分别可以相同也可以不同；R11和R12表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也可以不同；m和l各自独立地为1～3的整数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：藤原健典，谷垣勇刚，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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