【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】屏蔽组件
本专利技术涉及一种电场屏蔽组件。
技术介绍
在导体和某个其它物体之间施加电位差导致产生围绕导体的电场。该电场的存在会导致电击穿。这在导体是一件电气设备时是有问题的,特别在导体是一件高压电气设备时是有问题的。当超过包围导体的介质的介电强度时会发生电击穿。当围绕导体的介质离子化(形成等离子体)时开始发生部分击穿,并允许电流的传导。结果,在紧邻导体的地方发生电晕放电,这会以电磁辐射、声频噪声或臭氧等气态污染物的形式被观察到。如果电应力足够高,会发生完全击穿,导致来自导体的火花或电弧。完全或部分击穿引起的放电导致电器设备的损坏或故障。导体的边缘和尖端的特征被认为是特别易于电击穿的临界区域,因为紧邻这些区域的电应力趋于更高。来自电气设备的放电的相关问题通常借助电场屏蔽组件(即电晕屏蔽设施)屏蔽电气设备来解决。电晕屏蔽设施的目的是使电场线跨过相对较大曲率的表面(特别是在包括边缘和尖端特征的临界区域附近)重新分布在电气设备周围。这减小了电器设备周围的电应力并因此降低了电击穿的风险。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方案,提供一种用于高压电气设备的电场屏蔽组件,该组件包括铰接地安装在电场屏蔽组件上的至少一个导电的屏蔽元件,该电场屏蔽组件在使用时容置电气设备,其中所述或每个屏蔽元件能够在打开位置与关闭位置之间铰接地移动,在打开位置时,电场屏蔽组件中产生检修孔,能够通过该检修孔接近电气设备,而在关闭位置时,电场屏蔽组件中的检修孔关闭,电场屏蔽组件还包括至少一个第一铰接构件,且所述或每个屏蔽元件包括第二铰接构件,所述或每个第二铰接构件能够与第一铰接构件或分别与第一铰接构 ...
【技术保护点】
一种用于高压电气设备的电场屏蔽组件,该组件包括铰接地安装在所述电场屏蔽组件上的至少一个导电的屏蔽元件,所述电场屏蔽组件在使用时容置电气设备,其中所述或每个屏蔽元件能够在打开位置与关闭位置之间铰接地移动,在所述打开位置时,在所述电场屏蔽组件中产生检修孔,通过所述检修孔能够接近所述电气设备,而在所述关闭位置时,所述电场屏蔽组件中的检修孔关闭,所述电场屏蔽组件还包括至少一个第一铰接构件,且所述或每个屏蔽元件包括第二铰接构件,所述或每个第二铰接构件能够与所述第一铰接构件或分别与所述第一铰接构件中的一个铰接地联接,且所述或每个第一铰接构件包括:锁定部,阻止对应的所述第二铰接构件相对于所述第一铰接构件旋转;以及枢转部,允许对应的所述第二铰接构件相对于所述第一铰接构件旋转;其中所述或每个第二铰接构件能够在锁定位置与枢转位置之间选择性地移动,在所述锁定位置时,所述或每个第二铰接构件能够与对应的锁定部锁定地联接,而在所述枢转位置时,所述或每个第二铰接构件能够与对应的枢转部旋转地联接。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.24 EP 12275077.11.一种用于高压电气设备的电场屏蔽组件,其特征在于,该组件包括铰接地安装在所述电场屏蔽组件上的至少一个导电的屏蔽元件,所述电场屏蔽组件在使用时容置电气设备,其中所述或每个屏蔽元件能够在打开位置与关闭位置之间铰接地移动,在所述打开位置时,在所述电场屏蔽组件中产生检修孔,通过所述检修孔能够接近所述电气设备,而在所述关闭位置时,所述电场屏蔽组件中的检修孔关闭,所述电场屏蔽组件还包括至少一个第一铰接构件,且所述或每个屏蔽元件包括第二铰接构件,所述或每个第二铰接构件能够与所述第一铰接构件或分别与所述第一铰接构件中的一个铰接地联接,且所述或每个第一铰接构件包括:锁定部,阻止对应的所述第二铰接构件相对于所述第一铰接构件旋转;以及枢转部,允许对应的所述第二铰接构件相对于所述第一铰接构件旋转;其中所述或每个第二铰接构件能够在锁定位置与枢转位置之间选择性地移动,在所述锁定位置时,所述或每个第二铰接构件能够与对应的锁定部锁定地联接,而在所述枢转位置时,所述或每个第二铰接构件能够与对应的枢转部旋转地联接。2.根据权利要求1所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个屏蔽元件成形和/或设置为,当处于所述关闭位置时,形成一空心外壳的至少一部分。3.根据权利要求1或2所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个枢转部是圆柱形的。4.根据权利要求1或2所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个锁定部是非圆柱形的。5.根据权利要求4所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个锁定部包括至少一个多面体边缘。6.根据权利要求1或2所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个第二铰接构件包括包围对应的所述第一铰接构件的管状部。7.根据权利要求6所述的电场屏蔽组件,其中,所述或每个第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·卡尔戈特拉,M·埃文斯,C·C·戴维森,
申请(专利权)人:阿尔斯通技术有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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