【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米复合材料
，具体的说，本专利技术涉及。
技术介绍
与一般的梯形聚倍半硅氧烷相比，多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)在结构上是分子纳米粒子，在性能上具有更好的耐热性、更低的表面能，常用作耐高温材料的基料，是一类新型有应用开发前景的高分子材料，已越来越受到人们的关注。文献中已报道的复合高分子主要有聚乙烯，聚丙烯，聚对甲基苯乙烯等。 传统原子转移自由基聚合(ATRP)法一般是以碳卤键作为引发剂，从理论上分析用硅卤键代替碳卤键作为引发剂，应该更利于反应的进行。近年来，对聚苯乙烯(PS)进行改性的研究较多，但无机纳米粒子大多是使用S12和TiQ等。
技术实现思路
本专利技术就是针对上述问题，提供了一种采用POSS作为无机组分，通过ATRP法制备了。 为实现本专利技术的上述目的，本专利技术采用如下技术方案，本专利技术采用方法如下:步骤1、取 POSS-CI 为 0.05 ?0.08g、苯乙烯 5mL、P0SS / CuCI / bpy 按摩尔比为 1:1.2:3，与小磁子一同放于密闭容器中。 步骤2、抽真空，置于110°C油浴，搅拌，反应15 h。溶液呈红褐色，冷却后变粘稠。加入少量四氢呋喃溶解，用滤纸过滤，加大量甲醇于滤液中；立即出现白色絮状沉淀，过滤，烘干即得到产物。 本专利技术的有益效果。 采用原子转移自由基聚合(ATRP)方法，以一种新型的笼型结构具有特殊性能的单官能团POSS — a作为引发剂，CuCl/2，2’ 一联吡啶为催化剂，与苯乙烯单体共聚，可以制备具有核壳结构的POSS / PS...
【技术保护点】
多面体低聚倍半硅氧纳米复合材料的制备方法，其特征在于：步骤1、取POSS‑CI为 0.05 ～0.08g、苯乙烯5mL、POSS／CuCI／bpy按摩尔比为1：1.2：3，与小磁子一同放于密闭容器中；步骤2、抽真空，置于110℃油浴，搅拌，反应15 h；溶液呈红褐色，冷却后变粘稠；加入少量四氢呋喃溶解，用滤纸过滤，加大量甲醇于滤液中；立即出现白色絮状沉淀，过滤，烘干即得到产物。
【技术特征摘要】
1.多面体低聚倍半硅氧纳米复合材料的制备方法，其特征在于:步骤1、取POSS-CI为0.05?0.08g、苯乙烯5mL、P0SS / CuCI / bpy按摩尔比为1: 1.2:3，与小磁子一同放于密闭容器中；步骤2、抽真空，置于110°C油浴，搅拌，反应15 h ;溶液呈红褐色，冷却后变粘稠；加入少量四氢呋喃溶解，用滤纸过滤，加大量甲醇于滤液中；立即出现白色絮状沉淀，过滤，烘干即得到产物。2.根据权利要求1所述的多面体低聚倍半硅氧纳米复合材料的制备方法，其特征在于，步骤1、取POSS-CI为0.05?0.08g、苯乙烯5mL、POSS / CuCI / bpy按摩尔比为1:1.2:3，与小磁子一同放于密闭容器中；步骤2、抽真空，置于110°C油浴，搅拌，反应15 h ；溶液呈红褐色，冷却后变粘稠；加入少量四氢呋喃溶解，用滤纸过滤，加大量甲醇于滤液中；立即出现白色絮状沉淀，过滤，烘干即得到产...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。