用于检测有缺陷的基板的液晶调制器和具有其的检查设备制造技术

本发明专利技术提供了一种用于检测基板的缺陷的检查设备和液晶调制器。该检查设备包括液晶调制器、发光单元、分束器和测量单元。液晶调制器包括反射层、液晶层、电极和偏振器。反射层反射光。感应层包括混合排列向列相液晶。电极设置在液晶层上。偏振器设置在电极上。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种用于检测基板的缺陷的检查设备和液晶调制器。该检查设备包括液晶调制器、发光单元、分束器和测量单元。液晶调制器包括反射层、液晶层、电极和偏振器。反射层反射光。感应层包括混合排列向列相液晶。电极设置在液晶层上。偏振器设置在电极上。【专利说明】用于检测有缺陷的基板的液晶调制器和具有其的检查设备
本公开涉及一种液晶调制器，更具体地讲，涉及一种用于检测有缺陷的基板的液晶调制器和具有该液晶调制器的检查设备。
技术介绍
已经开发了诸如液晶显示器(IXD)、有机发光显示器(OLED)和等离子体显示面板(PDP)的显示装置。这些显示装置可以能够显示高清质量，可以超薄轻质，并且可以具有宽视角特性。 通常，显示装置可以包括用于显示图像的像素。每个像素可以包括像素电极和驱动电路(例如，薄膜晶体管)。驱动电路以--对应的方式电连接到像素电极。可以在制造期间对像素电极和驱动电路执行测试来检测显示装置的缺陷以维持高质量。
技术实现思路
根据本专利技术构思的实施例，提供了一种用于检测基板的缺陷的检查设备。在实施例中，该检查设备可以包括液晶调制器、发光单元、分束器和测量单元。发光单元可以被构造成发射光。分束器可以被构造成将从发光单元发射的光分成多束光并且将所述多束光提供给液晶调制器。测量单元可以被构造为感测从液晶调制器输出的多束光。 在实施例中，液晶调制器可以包括反射层、液晶层、电极和偏振器。反射层可以被构造为反射从分束器提供的所述多束光。液晶层可以设置在反射层上并且可以包括混合排列向列相液晶。电极可以设置在液晶层上。偏振器可以设置在电极上。 在实施例中，液晶调制器还可以包括:第一取向层，设置在液晶层和电极之间；以及第二取向层，设置在反射层和液晶层之间。第一取向层和第二取向层中的一个可以是水平取向层，另一个可以是垂直取向层。 在实施例中，水平取向层的摩擦轴可以相对于偏振器的偏振轴以大约45度的角度倾斜。 在实施例中，液晶调制器可以以常黑模式被驱动。 在实施例中，液晶调制器还可以包括设置在电极和偏振器之间的四分之一波片。在这种情况下，液晶调制器可以以常白模式被驱动。 在实施例中，四分之一波片可以相对于偏振器的偏振轴以大约45度的角度倾斜并且具有基本平行于或垂直于水平取向层的摩擦轴的光轴。 在实施例中，垂直取向层的预倾斜角可以在大约89度和大约90度之间。水平取向层的预倾斜角可以是两度或更小。 在实施例中，混合排列向列相液晶可以具有正介电各向异性。 在实施例中，液晶层可以使入射到液晶层的光的一个偏振分量的相位延迟四分之一波长。 在实施例中，液晶调制器可以包括偏振器、液晶层和反射层。偏振器可以被构造成接收光并提供来自接收的光的偏振分量。液晶层可以被构造成接收来自偏振器的偏振光，将穿过液晶层的光发送到反射层，接收来自反射层的反射光并且将穿过液晶层的光发送到偏振器。反射层可以被构造成反射从液晶层输出的光。液晶层可以包括混合排列向列相液晶分子。混合排列向列相液晶分子可以根据向液晶层施加的电压来排列。 在实施例中，穿过液晶层的光的偏振状态可以取决于混合排列向列相液晶分子的排列状态。 【专利附图】【附图说明】 当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，本公开的更全面的认识及其许多附加方面将被容易地得到，同时也更易于理解，其中: 图1示出了根据本专利技术构思的实施例的检查设备； 图2是图1中的液晶调制器的剖视图； 图3A和图3B是示出根据本专利技术构思的实施例的检查设备以常黑模式被驱动的透视图，其中，图3A示出了当电压没有施加到液晶调制器时的情况，图3B示出了当电压施加到液晶调制器时的情况； 图4A和图4B是分别示出了当电压没有施加到每个感应层时和当电压施加到每个感应层时感应层、第一取向层和第二取向层的剖视图； 图5是根据本专利技术构思的实施例的液晶调制器的剖视图； 图6A和图6B是示出根据本专利技术构思的实施例的检查设备以常白模式被驱动的透视图，其中，图6A示出了当电压没有施加到液晶调制器时的情况，图6B示出了当电压施加到液晶调制器时的情况； 图7A和图7B示出了当分别使用传统的液晶调制器和根据本专利技术构思的实施例的液晶调制器时与电压有关的透射率，其中，图7A是当采用扭曲向列相(TN)模式液晶时与电压有关的透射率的曲线图，图7B是当采用根据本专利技术构思的实施例的混合排列向列相(HAN)模式液晶时与电压有关的透射率的曲线图； 图8A和图SB示出了当分别使用传统的液晶调制器和根据本专利技术构思的实施例的液晶调制器时取决于像素构造的透射率，其中，图8A是当采用TN模式液晶时透射率的曲线图，图8B是当采用根据本专利技术构思的实施例的HAN模式时液晶的透射率的曲线图；以及 图9示出了当使用传统的液晶调制器和根据本专利技术构思的实施例的液晶调制器时取决于施加的电压的反射率。 【具体实施方式】 将参照附图详细地描述本专利技术构思的实施例。然而，本专利技术构思可以以各种不同的形式来实施，并且本专利技术构思不应被解释为仅局限于示出的实施例。相反，这些实施例被提供为示例，使得本公开将是彻底的和完整的，并且将充分地传达实施例。因此，对于示例性实施例，可能不再描述已知的工艺、元件和技术。除非另外指出，否则在整个附图和书面描述中同样的附图标记可以指示同样的元件，因此可能不再重复描述。在附图中，为清晰起见，可能夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。 将理解的是，尽管在这里可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各个元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一区域、层或部分区分开。因此，在不脱离示例性实施例的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可以被称为第二元件、组件、区域、层或部分。 除非上下文另外明确地表明，否则如这里所使用的，单数形式“一个”、“一种”、“该”、“所述”也意图包括复数形式。 图1示出了根据本专利技术构思的实施例的检查设备，图2是图1中的液晶调制器MD的剖视图。 参照图1和图2，检查设备可以是用于检测显示装置的缺陷(例如，用于显示装置的显示基板DV的缺陷)的设备。然而，显示装置不限于此。例如，显示装置可以包括液晶显示装置、电润湿显示装置、电泳显示装置、有机发光显示装置等。 在实施例中，显示装置可以包括多个像素。在实施例中，显示装置还可以包括:阵列基板AS，形成有与多个像素对应的多个薄膜晶体管；显示基板DV，包括连接到薄膜晶体管的电极；相对基板(未示出)，与显示基板DV相对；以及图像显示层(未示出)，设置在显示基板DV和相对基板之间。在实施例中，图像显示层可以是液晶显示装置的液晶层、电润湿显示装置的电润湿层、电泳显示装置的电泳层或者有机发光显示装置的有机发光层。根据显示装置的类型和结构，可以用包封层取代相对基板。 在实施例中，显示基板DV可以包括阵列基板AS和设置在阵列基板AS上的靶电极EL’。可以设置与多个像素对应的多个靶电极EL’。 尽管未示出，但是阵列基板AS可以包括绝缘基板和设置在绝缘基板上的多个驱动电路(例如，薄膜晶体管)。驱动电路可以电连接到靶电极EL’本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于检测基板的缺陷的液晶调制器，所述液晶调制器包括：反射层，被构造成反射光；液晶层，设置在反射层上并且包括混合排列向列相液晶；电极，设置在液晶层上；以及偏振器，设置在电极上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：催硕，具成谋，卢泳辰，金榕元，柳彰贤，郑治连，李升熙，崔永恩，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，三星电子株式会社，全北大学校产学协力团，
类型：发明
国别省市：韩国;KR