被测定物的测定方法技术

技术编号:11191136 阅读:67 留言:0更新日期:2015-03-25 19:47
本发明专利技术是一种测定方法,其特征在于,所述测定方法是测定检体中的被测定物的有无或量的方法,其包括如下工序:过滤工序,将具有在垂直于主面的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体用作物理过滤器,从所述检体中过滤所述被测定物,将所述被测定物保持于所述空隙配置结构体;测定工序,对保持了所述被测定物的所述空隙配置结构体照射电磁波,检测因所述空隙配置结构体而被散射的电磁波的特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。更详细而言,涉及将被测定物保持于具有空隙部的空隙配置结构体,对该空隙配置结构体照射电磁波,检测因空隙配置结构体而被散射的电磁波的特性,由此测定被测定物的有无或量的测定方法。
技术介绍
一直以来,为了分析物质的特性,采用如下测定方法:在空隙配置结构体保持被测定物,对保持了该被测定物的空隙配置结构体照射电磁波,对其透射光谱等进行解析从而检测被测定物的有无或量。具体来说,可以举出例如对附着于金属网过滤器的蛋白质等被测定物照射太赫兹波而对透射光谱进行解析的手法。 作为采用这样的电磁波的透射光谱的解析手法的现有技术,专利文献I中公开了如下的测定方法:从相对于与空隙配置结构体的主面垂直的方向倾斜的方向,向具有保持了被测定物的空隙区域的空隙配置结构体(具体为网状的导体板)照射电磁波,测定透过空隙配置结构体的电磁波,测定值的频率特性所产生的跌落(尹^ 7 7°)波形的位置由于被测定物的存在而发生移动,从而基于此检测被测定物的特性。 以往,采用所述测定方法测定检体中所含的被测定物的情况下,通常,首先从检体中提取出被测定物后,在将提取出的被测定物保持在空隙配置结构体的状态下进行利用电磁波的测定。因此,在测定之前需要另外的被测定物的提取工序,存在用于测定的操作工序增加的问题。 另外,例如,在使用膜过滤器等从液体、气体等检体中过滤提取被测定物的情况下,需要通过转印等将提取出的被测定物转载至空隙配置结构体的工序,由于难以将提取出的被测定物全部移动至空隙配置结构体,因此有时测定结果有较大偏差。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2008 - 185552号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 本专利技术鉴于上述问题,其目的在于,提供能够解决需要从检体提取被测定物的情况下的操作工序的增加、测定结果的偏差的问题,并以简便的工序高精度地测定检体中所含的被测定物的。 用于解决课题的手段 本专利技术为一种测定方法,其特征在于,所述测定方法是测定检体中的被测定物的有无或量的方法,并包括如下工序: 过滤工序,将具有在垂直于主面的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体用作过滤器,从所述检体中过滤所述被测定物,将所述被测定物保持于所述空隙配置结构体; 测定工序,对保持了所述被测定物的所述空隙配置结构体照射电磁波,检测因所述空隙配置结构体而被散射的电磁波的特性。 所述空隙配置结构体的空隙部的大小优选为所述被测定物不能通过、或难以通过的大小。 所述空隙配置结构体的表面优选按照被测定物容易吸附的方式进行修饰。 所述检体优选为液体或气体。 所述被测定物优选为液体中的微生物,或者,气体中的无机物、有机物、或其复合物。 专利技术效果 在本专利技术中,空隙配置结构体兼任提取过滤器和测定器件,因此能够以简便的工序高精度地测定检体中所含的被测定物。 【附图说明】 图1是用于说明本专利技术所使用的空隙配置结构体的结构的示意图。 图2是用于说明本专利技术中的测定工序的一例的概要的示意图。 图3是用于说明实施例1的操作方法的示意图。(a)为俯视图,(b)为剖视图。 图4是表示实施例1中,被空隙配置结构体提取出的酵母的SEM照片的图。 图5是表示在实施例1中,提取出检体I?3后的空隙配置结构体的透过率特性的图。 图6是表示在实施例1中,空隙配置结构体上的酵母数与空隙配置结构体的透过率峰的关系的图表。 【具体实施方式】 本专利技术中,测定检体中的被测定物的有无或量是指,对作为液体或气体等检体中所含的被测定物的化合物进行定量,可以举出例如:测定溶液中等的微量的被测定物的含量的情形;进行被测定物的鉴定的情形等。检体优选为液体或气体。另外,所述被测定物优选为液体中的微生物,或者,气体中的无机物、有机物、或其复合物。 本专利技术的测定方法的特征在于,包括如下工序: (I)过滤工序,将具有在垂直于主面的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体用作过滤器,从检体中过滤被测定物,将被测定物保持于空隙配置结构体; (2)测定工序,对保持了被测定物的空隙配置结构体照射电磁波,检测因空隙配置结构体而被散射的电磁波的特性。 (空隙配置结构体) 本专利技术所使用的空隙配置结构体具有在垂直于其主面的方向上贯通的多个空隙部。例如,多个该空隙部在空隙配置结构体的主面上的至少一个方向上周期性地配置。但是,对于空隙部而言,可以是空隙部全部周期性地配置,也可以是在不破坏本专利技术的效果的范围内,一部分空隙部周期性地配置,而其他空隙部非周期性地配置。 空隙配置结构体优选为准周期结构体或周期结构体。准周期结构体是指,虽然不具有平移对称性但排列保持秩序性的结构体。作为准周期结构体,例如可以举出作为一维准周期结构体的斐波纳契结构、作为二维准周期结构体的彭罗斯结构。周期结构体是指,具有以平移对称性代表的各种空间对称性的结构体,根据其对称的维度而分类为一维周期结构体、二维周期结构体、三维周期结构体。一维周期结构体可以举出例如线栅结构、一维衍射光栅等。二维周期结构体可以举出例如网过滤器、二维衍射光栅等。在这些周期结构体之中,适宜使用二维周期结构体。 作为二维周期结构体,可以举出例如图1所示那样的呈矩阵状以固定间隔配置有空隙部的板状结构体(栅格状结构体)。图1(a)所示的空隙配置结构体I为,从其主面1a侧观察时正方形的空隙部11沿着与该正方形的各边平行的两个排列方向(图中的纵向和横向)以相等的间隔设置的板状结构体。 空隙配置结构体的空隙部的大小、配置、空隙配置结构体的厚度等没有特别限制,但空隙配置结构体的空隙部的大小优选为被测定物不能通过、或难以通过的大小。另外,根据空隙配置结构体的材质特性、使用的电磁波的频率等来适当设计。 具体来说,例如,在空隙部如图1 (a)所示那样沿纵横规则配置的空隙配置结构体I中,图1(b)中d所表示的空隙部的孔尺寸优选为被测定物的大小(例如,连接被测定物的表面上的2点间的直线中最长的直线的长度)以下,最优选空隙部的孔尺寸与被测定物的大小为同等程度。具体的孔尺寸根据被测定物的大小来决定,没有特别限定,但优选为0.15?150 μm,从测定灵敏度提高的观点出发,孔尺寸更优选为0.9?9 μπι。 需要说明的是,用于测定的电磁波的波长优选设定为这样的孔尺寸的十分之一以上且十倍以下。由此,散射的电磁波的强度变得更强,变得更容易检测信号。 另外,在空隙部如图1 (a)所示沿纵横规则配置的空隙配置结构体I中,图1 (b)中s所表示的空隙部的栅格间隔(间距)优选为用于测定的电磁波的波长的十分之一以上且十倍以下。通过按这种方式设置,散射变得更容易发生。具体的栅格间隔优选为0.15?150 μ m,从测定灵敏度提高的观点出发,栅格间隔更优选为1.3?13 μ m。 另外,空隙配置结构体的厚度优选为用于测定的电磁波的波长的5倍以下。通过按这种方式设置,散射的电磁波的强度变得更强,从而变得容易检测信号。 空隙配置结构体的整体的尺寸没有特别限制,根据照射的电磁波的光束点的面积等来决定。 空隙配置结构体优选至少其表面的一部分由导体形成。空隙配置结构体I的表面是指,图1(a)所示的主面10a、侧面1b和空隙部的内壁Il本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种测定方法,其特征在于,所述测定方法是测定检体中的被测定物的有无或量的方法,其包括如下工序:过滤工序,将具有在垂直于主面的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体用作过滤器,从所述检体中过滤所述被测定物,将所述被测定物保持于所述空隙配置结构体;测定工序,对保持了所述被测定物的所述空隙配置结构体照射电磁波,检测因所述空隙配置结构体而被散射的电磁波的特性。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.07.25 JP 2012-1650491.一种测定方法,其特征在于, 所述测定方法是测定检体中的被测定物的有无或量的方法,其包括如下工序: 过滤工序,将具有在垂直于主面的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体用作过滤器,从所述检体中过滤所述被测定物,将所述被测定物保持于所述空隙配置结构体; 测定工序,对保持了所述被测定物的所述空隙配置结构体照射电磁波,检测因所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:神波诚治近藤孝志白井伸明冈田俊树长谷川慎
申请(专利权)人:株式会社村田制作所
类型:发明
国别省市:日本;JP

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