【技术实现步骤摘要】
激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用柔性印刷版原版及其 制法、以及柔性印刷版及其制版法
本专利技术涉及激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用柔性印刷版原版及其制造方法、 以及柔性印刷版及其制版方法。
技术介绍
已提出了多种利用激光直接雕刻凸版形成层而制版的所谓的直接雕刻CTP方 式。该方式中，直接对柔性印刷版原版照射激光，利用光热转换使其在凸版形成层发生热 分解及挥发而形成凹部。与使用原图膜的凸版形成不同，直接雕刻CTP方式可以自如地控 制凸版形状。因此，在形成诸如镂空文字这样的图像的情况下，可以对该区域进行比其它区 域更深的雕刻，或者，对于微细网点图像，也可以在考虑到对印刷压力的阻抗的情况下进行 带肩（shoulder)的雕刻等。该方式中使用的激光大多采用高输出功率的二氧化碳激光。采 用二氧化碳激光的情况下，全部有机化合物均可以吸收照射能量而转化为热。另一方面，廉 价且小型的半导体激光虽然已不断得到开发，但这些激光是可见光及近红外光，因此需要 将上述激光吸收而转化成热。 作为现有的激光雕刻用树脂组合物，已知有例如国际公开第03/022594号、或国 际公开第2009/102035号所述的激光雕刻用树脂组合物。
技术实现思路
专利技术所要解决的问题 本专利技术的目的在于，提供一种能够得到激光雕刻时产生的雕刻渣滓的冲洗性优 良、且耐墨液性优良的柔性印刷版的激光雕刻用树脂组合物、使用上述激光雕刻用树脂组 合物的激光雕刻用柔性印刷版原版及其制造方法、以及柔性印刷版及其制版方法。 用于解决问题的手段 本专利技术的上述技术...
【技术保护点】
一种激光雕刻用树脂组合物，其特征在于，含有以下成分：成分A：具有来自共轭二烯系烃的单体单元的聚合物；成分B：具有酸基及烯属不饱和键的化合物；以及成分C：聚合引发剂。
【技术特征摘要】
2013.08.30 JP 2013-1801761. 一种激光雕刻用树脂组合物，其特征在于，含有w下成分： 成分A ;具有来自共辆二帰系姪的单体单元的聚合物； 成分B ;具有酸基及帰属不饱和键的化合物；W及 成分C;聚合引发剂。2. 根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分A含有来自下二帰和/或异戊二帰的单体单元。3. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B为下式1所示的化合物，式1中，Ra表示帰属不饱和键，m表示1?3的整数，Rb表示酸基，n表示1或2, L表示 单键或连结帰属不饱和键和酸基的（m+n)价的有机连结基。4. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B具有2个W上的帰属不饱和键。5. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B所具有的酸基选自駿基、賴酸基及磯酸基。6. 根据权利要求3所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B所具有的酸基选自駿基、賴酸基及磯酸基。7. 根据权利要求4所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B所具有的酸基选自駿基、賴酸基及磯酸基。8. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B所具有的酸基为駿基。9. 根据权利要求3所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B具有2个W上帰属不饱和键，所述成分B所具有的酸基为駿基。10. 根据权利要求4所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分B所具有的酸基为駿基。11. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述成分A的SP值为9.0 W下。12. 根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。