核磁共振分析仪制造技术

技术编号:11126752 阅读:203 留言:0更新日期:2015-03-11 16:11
本发明专利技术公开了一种核磁共振分析仪,包括滑台、滑动设置于所述滑台上的分析仪主体,所述滑台包括位于左右两侧的侧支架、连接于两侧所述侧支架之间导向轴以及滑轨,所述导向轴位于所述滑轨上方,所述分析仪主体上开设有导向穿孔,所述导向穿孔与所述导向轴相配合,所述分析仪主体的底部设置有导向部,所述导向部与所述滑轨相配合,所述分析仪主体外部设置有电磁屏蔽罩,所述电磁屏蔽罩与所述分析仪主体相固定连接,通过设置电磁屏蔽罩能够有效屏蔽外界的电磁干扰,提高分析仪的分析精度。

【技术实现步骤摘要】
核磁共振分析仪
本专利技术涉及一种核磁共振分析仪。
技术介绍
核磁共振分析仪是利用核磁共振原理对被测样品进行核磁共振实验的一种仪器,通过对实验数据的解析实现对样品内部结构和宏观性质的探测,在对被测样品进行核磁共振测量时,需将被测样品放置于磁体产生的静磁场中,现有的核磁共振分析仪中,磁体产生的静磁场在一定空间范围内,而被测样品的尺寸不能超过磁体产生静磁场的空间范围,因而,被测样品的尺寸特别是长度,受到很大限制。目前虽有移动式分析仪,但在移动过程中外界电磁极容易对分析造成影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种核磁共振分析仪,分析精度高。 为实现上述目的,本专利技术的技术方案是提供了一种核磁共振分析仪,包括滑台、滑动设置于所述滑台上的分析仪主体,所述滑台包括位于左右两侧的侧支架、连接于两侧所述侧支架之间导向轴以及滑轨,所述导向轴位于所述滑轨上方,所述分析仪主体上开设有导向穿孔,所述导向穿孔与所述导向轴相配合,所述分析仪主体的底部设置有导向部,所述导向部与所述滑轨相配合,所述分析仪主体外部设置有电磁屏蔽罩,所述电磁屏蔽罩与所述分析仪主体相固定连接。 进一步改进的是:所述分析仪主体由驱动机构驱动滑动,所述驱动机构包括转动设置于所述导向部上的驱动滚轮,所述驱动滚轮由驱动电机驱动转动。 本专利技术的优点和有益效果在于:通过设置电磁屏蔽罩能够有效屏蔽外界的电磁干扰,提高分析仪的分析精度。 【附图说明】 图1为本专利技术的示意图。 其中:1、分析仪主体;2、侧支架;3、导向轴;4、滑轨;5、电磁屏蔽罩。 【具体实施方式】 下面结合附图和实施例,对本专利技术的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案,而不能以此来限制本专利技术的保护范围。 如图1所示,一种核磁共振分析仪,包括滑台、滑动设置于所述滑台上的分析仪主体1,所述滑台包括位于左右两侧的侧支架2、连接于两侧所述侧支架2之间导向轴3以及滑轨4,所述导向轴3位于所述滑轨4上方,所述分析仪主体I上开设有导向穿孔,所述导向穿孔与所述导向轴3相配合,所述分析仪主体I的底部设置有导向部,所述导向部与所述滑轨4相配合,所述分析仪主体I外部设置有电磁屏蔽罩5,所述电磁屏蔽罩5与所述分析仪主体I相固定连接。 本实施例中,所述分析仪主体I由驱动机构驱动滑动,所述驱动机构包括转动设置于所述导向部上的驱动滚轮,所述驱动滚轮由驱动电机驱动转动。 以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种核磁共振分析仪,其特征在于:包括滑台、滑动设置于所述滑台上的分析仪主体,所述滑台包括位于左右两侧的侧支架、连接于两侧所述侧支架之间导向轴以及滑轨,所述导向轴位于所述滑轨上方,所述分析仪主体上开设有导向穿孔,所述导向穿孔与所述导向轴相配合,所述分析仪主体的底部设置有导向部,所述导向部与所述滑轨相配合,所述分析仪主体外部设置有电磁屏蔽罩,所述电磁屏蔽罩与所述分析仪主体相固定连接。

【技术特征摘要】
1.一种核磁共振分析仪,其特征在于:包括滑台、滑动设置于所述滑台上的分析仪主体,所述滑台包括位于左右两侧的侧支架、连接于两侧所述侧支架之间导向轴以及滑轨,所述导向轴位于所述滑轨上方,所述分析仪主体上开设有导向穿孔,所述导向穿孔与所述导向轴相配合,所述分析仪主体的底部设置有导向...

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓南陈国华陆海浪
申请(专利权)人:苏州露宇电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1