新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用制造技术

技术编号:11115551 阅读:90 留言:0更新日期:2015-03-05 21:06
本发明专利技术公开了一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用,提供一种化合物能够对磷酸官能团化合物的保护,新型苯并噻喃酮类光敏保护基光解离反应高效迅速,且在日常光照条件下具有良好的相对稳定性,且具有独特的既对光响应又能释放潜在荧光基团的光敏结构。便于对光控过程进行跟踪监测,达到释放的‘可控性’、‘可视性’。为在细胞生物环境下进行定量释放和积聚度研究提供新的研究方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于新化合物的应用领域,尤其是一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用
技术介绍
在有机反应过程中为了选择性地进行某一反应,需要使用特定的基团保护分子内的敏感性官能团或者干扰性官能团,这类基团就是保护基。保护基在有机合成中有着广泛的应用,而后续的脱保护反应往往需要较为激烈的反应条件来进行。而光敏保护基可以在特定波长光照下尽可以实现脱保护反应。近年来,随着生命科学的飞速进步,光敏保护基在生物医药科学领域得到了广泛和深入的研究。他们为快速传递生物活性物质,例如神经传感物质,ATP或者Ca+到目标位置,由此使得生物学家能够即时跟踪到随后的生理事件。人们还可以通过用光敏保护基来控制酶的活性,基因表达或者是离子通道穿透性来取得放大的化学效应。众所周知,ATP、AMP等核苷酸具有多种重要的生物学功能。核苷酸是核糖核酸及脱氧核糖核酸的基本组成单位,是体内合成核酸的前身物。核苷酸随着核酸分布于生物体内各器官、组织、细胞的核及胞质中,并作为核酸的组成成分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用,所述新型苯并噻喃酮类光敏保护基的结构通式如下:其中,R1为:三氟甲基;芳基;R2为:对甲氧基;芳基。

【技术特征摘要】
1.一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应
用,所述新型苯并噻喃酮类光敏保护基的结构通式如下:
其中,R1为:三氟甲基;芳基;R2为:对甲氧基;芳基。
2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于:所述化合物新型苯并噻喃酮
类光敏保护基为1,1-二氧代-2-甲苯磺酰腙-3-苯基-4H-苯并噻喃酮、或1,1-二氧
代-2-重氮基-3-苯基-4H-苯并噻喃酮、或1,1-二氧代-2-重氮基-3-对甲氧基苯
基-4H-苯并噻喃酮、或1,1-二氧代-2-重氮基-3-(3,5-二(三氟甲基))苯基-4H-
苯并噻喃酮、或1,1-二氧代-2-重氮基-3-(2-萘基)-4H-苯并噻喃酮、或1,1-二
氧代-2-重氮基-3-苯...

【专利技术属性】
技术研发人员:张有来张欢刘珊珊马驰程艳丽洪丽虹李保芬杜旭泽
申请(专利权)人:天津理工大学
类型:发明
国别省市:天津;12

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