薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置制造方法及图纸

技术编号:11079813 阅读:53 留言:0更新日期:2015-02-25 18:11
本发明专利技术提供一种薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置。薄膜晶体管阵列基板包括显示区域及围绕显示区域设置的边框区域,显示区域内设置呈阵列状分布的多个薄膜晶体管及多个数据线,在边框区域形成第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案,相邻的测试图案之间的距离大于两条数据线之间的距离,每个测试图案包括光阻及两个测试线,每个测试图案中的光阻及两个测试线分别与显示区域中相应颜色的光阻与数据线的尺寸位置关系相对应,通过测相应测试图案中的光阻超出相应测试线的宽度,以得到显示区域内相邻的两个相应颜色的光阻之间的重叠区域。本发明专利技术能够测出显示区域内相邻的两个相应颜色光阻之间的重叠区域。

【技术实现步骤摘要】
薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置
本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置。
技术介绍
COA (Color on Array)技术是将彩色光阻制备在薄膜晶体管阵列基板阵列(thinfilm transistor (TFT) Array)上的一种技术。其具有可以提高像素开口率及液晶显示装置(liquid crystal display, LCD)品质的优点。其次,应用C0A技术制备的液晶显示装置因为不存在彩色滤光(color filter, CF)基板与TFT基板对位的问题,从而降低液晶显示装置的成盒(cell)阶段的难度。然而,在C0A技术中,薄膜晶体管阵列基板中相邻的两种光阻之间会有重叠区域,重叠区域的大小会影响到液晶显示装置的显示效果。因为公共(com)电极金属的干扰,相邻的两种光阻之间的重叠区域不容易被测量,即在现有技术中,薄膜晶体管阵列基板还不能够测量出C0A技术中相邻的光阻之间的重叠区域的大小,进而不能够很好地对相邻光阻之间的重叠区域大小进行改进以提高液晶显示装置的显示效果。
技术实现思路
本专利技术提供了一种薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板能够很好地测量出相邻的光阻的重叠区域的大小。 一种薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板包括显示区域及围绕所述显示区域设置的边框区域,所述显示区域内设置呈阵列状分布的多个薄膜晶体管及多个数据线,在所述边框区域形成第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案,所述第一测试图案与所述第二测试图案之间的距离以及所述第二测试图案与所述第三测试图案之间的距离大于所述显示区域内相邻的两条数据线之间的距离,所述第一测试图案包括第一测量线、第二测量线及第一光阻,所述第一测量线及所述第二测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第一光阻覆盖所述第一测量线及所述第二测量线,且所述第一光阻的尺寸与所述显示区域内第一颜色光阻的尺寸相对应;所述第二测试图案包括第三测量线、第四测量线及第二光阻,所述第三测量线邻近所述第二测量线设置,所述第三测量线及所述第四测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第二光阻覆盖所述第三测量线及所述第四测量线,且所述第二光阻的尺寸与所述显示区域内第二颜色光阻的尺寸相对应;所述第三测试图案包括第五测量线、第六测量线及第三光阻,所述第五测量线邻近所述第四测量线设置,且所述第五测量线及所述第六测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第三光阻覆盖所述第五测量线及所述第六测量线,且所述第三光阻的尺寸与所述显示区域内第三颜色光阻的尺寸相对应,所述第一光阻超出所述二测量线的宽度为第一宽度,所述第二光阻超出所述第三测量线及所述第四测量线的宽度分别为第二宽度及第三宽度,所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为第四宽度,则所述显示区域内第一颜色光阻与所述第二颜色光阻之间重叠区域的宽度为所述第一宽度与所述第二宽度之和。 其中,所述显示区域内第二颜色光阻与所述第三颜色光阻之间的重叠区域的宽度为所述第三宽度与所述第四宽度之和。 其中,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线的宽度为所述显示区域内数据线的宽度的二分之一。 其中,所述第一光阻超出所述第二测量线的宽度为所述第一光阻超出所述第二测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第三测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第三测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第四测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第四测量线的中线的宽度;所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为所述第三光阻超出所述第五测量线的中线的宽度。 其中,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线在形成所述薄膜晶体管的源极及漏极时形成。 本专利技术还提供了一种液晶显示装置,所述液晶显示装置能够很好地测量出相邻光阻之间重叠区域的大小。 一种液晶显示装置,所述液晶显示装置包括薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板包括显示区域及围绕所述显示区域设置的边框区域,所述显示区域内设置呈阵列状分布的多个薄膜晶体管及多个数据线,在所述边框区域形成第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案,所述第一测试图案与所述第二测试图案之间的距离以及所述第二测试图案与所述第三测试图案之间的距离大于所述显示区域内相邻的两条数据线之间的距离,所述第一测试图案包括第一测量线、第二测量线及第一光阻,所述第一测量线及所述第二测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第一光阻覆盖所述第一测量线及所述第二测量线,且所述第一光阻的尺寸与所述显示区域内第一颜色光阻的尺寸相对应;所述第二测试图案包括第三测量线、第四测量线及第二光阻,所述第三测量线邻近所述第二测量线设置,所述第三测量线及所述第四测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第二光阻覆盖所述第三测量线及所述第四测量线,且所述第二光阻的尺寸与所述显示区域内第二颜色光阻的尺寸相对应;所述第三测试图案包括第五测量线、第六测量线及第三光阻,所述第五测量线邻近所述第四测量线设置,且所述第五测量线及所述第六测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第三光阻覆盖所述第五测量线及所述第六测量线,且所述第三光阻的尺寸与所述显示区域内第三颜色光阻的尺寸相对应,所述第一光阻超出所述二测量线的宽度为第一宽度,所述第二光阻超出所述第三测量线及所述第四测量线的宽度分别为第二宽度及第三宽度,所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为第四宽度,则所述显示区域内第一颜色光阻与所述第二颜色光阻之间重叠区域的宽度为所述第一宽度与所述第二宽度之和。 其中,所述显示区域内第二颜色光阻与所述第三颜色光阻之间的重叠区域的宽度为所述第三宽度与所述第四宽度之和。 其中,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线的宽度为所述显示区域内数据线的宽度的二分之一。 其中,所述第一光阻超出所述第二测量线的宽度为所述第一光阻超出所述第二测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第三测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第三测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第四测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第四测量线的中线的宽度;所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为所述第三光阻超出所述第五测量线的中线的宽度。 其中,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线在形成所述薄膜晶体管的源极及漏极时形成。 本专利技术的薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置在薄膜晶体管阵列基板的边框区域设置第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案。所述第一测试图案、所述第二测试图案及所述第三测试图案分别包括两条测量线及光阻,每个测试图案中的两条测量线分别与所述显示区域内的相邻的两条数据线相对应,每个测试图案的光阻分别与显示区域a内的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻相对应。从而,所述第一光阻与所述第一测量线及所述第二测量线之间的关系与显示区域内第一颜色光阻与所述第一颜色光阻覆盖的两条数据线之间的关系本文档来自技高网...
薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置

【技术保护点】
一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板包括显示区域及围绕所述显示区域设置的边框区域,所述显示区域内设置呈阵列状分布的多个薄膜晶体管及多个数据线,在所述边框区域形成第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案,所述第一测试图案与所述第二测试图案之间的距离以及所述第二测试图案与所述第三测试图案之间的距离大于所述显示区域内相邻的两条数据线之间的距离,所述第一测试图案包括第一测量线、第二测量线及第一光阻,所述第一测量线及所述第二测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第一光阻覆盖所述第一测量线及所述第二测量线,且所述第一光阻的尺寸与所述显示区域内第一颜色光阻的尺寸相对应;所述第二测试图案包括第三测量线、第四测量线及第二光阻,所述第三测量线邻近所述第二测量线设置,所述第三测量线及所述第四测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第二光阻覆盖所述第三测量线及所述第四测量线,且所述第二光阻的尺寸与所述显示区域内第二颜色光阻的尺寸相对应;所述第三测试图案包括第五测量线、第六测量线及第三光阻,所述第五测量线邻近所述第四测量线设置,且所述第五测量线及所述第六测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第三光阻覆盖所述第五测量线及所述第六测量线,且所述第三光阻的尺寸与所述显示区域内第三颜色光阻的尺寸相对应,所述第一光阻超出所述二测量线的宽度为第一宽度,所述第二光阻超出所述第三测量线及所述第四测量线的宽度分别为第二宽度及第三宽度,所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为第四宽度,则所述显示区域内第一颜色光阻与所述第二颜色光阻之间重叠区域的宽度为所述第一宽度与所述第二宽度之和。...

【技术特征摘要】
1.一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板包括显示区域及围绕所述显示区域设置的边框区域,所述显示区域内设置呈阵列状分布的多个薄膜晶体管及多个数据线,在所述边框区域形成第一测试图案、第二测试图案及第三测试图案,所述第一测试图案与所述第二测试图案之间的距离以及所述第二测试图案与所述第三测试图案之间的距离大于所述显示区域内相邻的两条数据线之间的距离,所述第一测试图案包括第一测量线、第二测量线及第一光阻,所述第一测量线及所述第二测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第一光阻覆盖所述第一测量线及所述第二测量线,且所述第一光阻的尺寸与所述显示区域内第一颜色光阻的尺寸相对应;所述第二测试图案包括第三测量线、第四测量线及第二光阻,所述第三测量线邻近所述第二测量线设置,所述第三测量线及所述第四测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第二光阻覆盖所述第三测量线及所述第四测量线,且所述第二光阻的尺寸与所述显示区域内第二颜色光阻的尺寸相对应;所述第三测试图案包括第五测量线、第六测量线及第三光阻,所述第五测量线邻近所述第四测量线设置,且所述第五测量线及所述第六测量线分别与所述显示区域内两条相邻的数据线相对应,所述第三光阻覆盖所述第五测量线及所述第六测量线,且所述第三光阻的尺寸与所述显示区域内第三颜色光阻的尺寸相对应,所述第一光阻超出所述二测量线的宽度为第一宽度,所述第二光阻超出所述第三测量线及所述第四测量线的宽度分别为第二宽度及第三宽度,所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为第四宽度,则所述显示区域内第一颜色光阻与所述第二颜色光阻之间重叠区域的宽度为所述第一宽度与所述第二宽度之和。2.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述显示区域内第二颜色光阻与所述第三颜色光阻之间的重叠区域的宽度为所述第三宽度与所述第四宽度之和。3.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线的宽度为所述显示区域内数据线的宽度的二分之一。4.如权利要求3所述的薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述第一光阻超出所述第二测量线的宽度为所述第一光阻超出所述第二测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第三测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第三测量线的中线的宽度;所述第二光阻超出所述第四测量线的宽度为所述第二光阻超出所述第四测量线的中线的宽度;所述第三光阻超出所述第五测量线的宽度为所述第三光阻超出所述第五测量线的中线的宽度。5.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述第一测量线、所述第二测量线、所述第三测量线、所述第四测量线、所述第五测量线及所述第六测量线在形成所述薄膜晶体管的源极及漏极时形成。6.一...

【专利技术属性】
技术研发人员:马佳星
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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