反应性单体、液晶组合物、液晶面板及电子设备制造技术

本发明专利技术公开了一种反应性单体、液晶组合物、液晶面板及电子设备。该反应性单体包括联苯结构以及连接在联苯结构两边的可聚合基团，该反应性单体的结构式为，其中，n≥3，B为可聚合基团。本发明专利技术的液晶面板包括分别配置有配向膜的第一基板和第二基板，以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层，所述液晶层包括液晶组合物，所述液晶组合物包括上述反应性单体。本发明专利技术通过使用含有丰富的苯环结构的反应性单体，其对紫外光更加敏感，从而可以更有效率地吸收紫外光，进而加快反应性单体的聚合，缩短UV1的光照时间，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
反应性单体、液晶组合物、液晶面板及电子设备
本专利技术涉及光学材料
，特别是涉及一种反应性单体、具有此反应性单体 的液晶组合物、液晶面板及电子设备。
技术介绍
PSVA(Polymer St油ilized ve;rtical alignment)技术即聚合物稳定垂直配向技 术，其最大的特点便是在配向膜1 (PI)上生成一层可W使VA液晶形成预倾角的聚合物层。 其具体的形成过程包括如图1所示的四个步骤，（1);在液晶介质中添加一定比例 的可聚合反应性单体2 (RM，Reactive monomer)，该反应性单体2在紫外光照射后会聚合成 高分子网络；（2) =UV光4照射前，先在上基板51和下基板52上外加一个电压使液晶分子 3产生一个倾斜角；（3)待电压稳定后进行特定UV光4的照射从而使反应性单体2聚合成 高分子网络，反应性单体2移动至配向膜1表面销定表层的液晶分子3 ; (4)去掉电压之后， 液晶分子3由于聚合物的销定而不能回到初始位置从而形成一定的预倾角。该预倾角用来 提高液晶的响应时间，该UV光4照射的过程为UVl。 在PSVA技术中，主要通过控制UVl的照射时间来控制液晶的预倾角大小进而控制 液晶面板光学性能。但是，UVl的照射时间过长会降低生产效率。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种反应性单体、液晶组合物、液晶面板及电 子设备，其能缩短UVl的光照时间，从而提高生产效率。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是；提供一种反应性单体，其包 括联苯结构W及连接在联苯结构两边的可聚合基团，其通式W式I表示： 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应性单体，其特征在于，所述反应性单体包括联苯结构以及连接在联苯结构两边的可聚合基团，其通式以式I表示：其中，n≥3；B为可聚合基团。

【技术特征摘要】
1. 一种反应性单体，其特征在于，所述反应性单体包括联苯结构以及连接在联苯结构 两边的可聚合基团，其通式以式I表示：其中，n彡3 ;B为可聚合基团。2. 根据权利要求1所述的反应性单体，其特征在于，所述可聚合基团为丙烯酸酯基或 者甲基丙烯酸酯基。3. 根据权利要求3所述的反应性单体，其特征在于，所述反应性单体的通式以式II表 示：其中，所述X选自一H，一F, 一CF3或一CH3中的一种； 所述Y1和Y2基团分别独立地选自一H或一CH3中的一种。4. 一种液晶组合物，其特征在于，包括至少一种如权利要求1至3任一项所述的反应性 单体。5. -种液晶面板，包括分别配置有配向膜的第一基板和第二基板，以及位于第一基板 和第二基板之间的液晶层，其特征在于，所述液晶层包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：李祥，宋彦君，谢忠憬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44