制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体技术

技术编号：10990398 阅读：82 留言：0更新日期：2015-02-04 09:09

本发明专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体。本发明专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体，如下列反应路线所示∶其中符号如本说明书所定义。

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【技术实现步骤摘要】
制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体本申请是申请号为201180052521.6(国际申请日为2011年9月7日）、专利技术名称为制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体的进入国家阶段的PCT申请的分案申请。
[0001 ] 本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体。
技术介绍
某些哒嗪酮化合物在药物或杀虫剂中是有用的已知活性组分，或用作药物或杀虫剂的中间体（参见专利文献1-10)。引用文献列表专利文献专利文献I:W0 2007-119434 专利文献 2 :W0 2009-035150 专利文献 3 :W0 2009-086041 专利文献 4 :W0 2007-080720 专利文献 5 :W0 2009-090039 专利文献6:EP835 865A 专利文献 7 :W0 2004-058729 专利文献 8 :W0 2005-007632 专利文献 9 :W0 2005-077915 专利文献 10JP-A-2009-215312。专利技术概述技术问题本专利技术提供了制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体。问题的解决方案本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体。下面给出了概述：

【技术保护点】
式(4A)的化合物：其中式(4A)中的符号定义如下：R2‑4A代表氢，C1‑C6烷基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基，(C1‑C6烷基亚磺酰基)C1‑C6烷基，(C1‑C6烷基磺酰基)C1‑C6烷基，苯基，或5或6元杂芳基；其中C1‑C6烷基、(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基、(C1‑C6烷基亚磺酰基)C1‑C6烷基和(C1‑C6烷基磺酰基)C1‑C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同，苯基和5或6元杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团2‑4A组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团2‑4A组由下述组成：卤素，氰基，硝基，甲酰基，C1‑C6烷基，C1‑C6烷氧基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，C1‑C6烷硫基，C1‑C6烷基亚磺酰基，C1‑C6烷基磺酰基，C1‑...

【技术特征摘要】
2010.09.08 JP 2010-200669;2011.06.22 JP 2011-138211?式（4A)的化合物：其中式（4A)中的符号定义如下： Rma代表氢，C1-C6烷基，（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6 环烷基，（C1-C6烷硫基）C1-C6烷基，（C1-C6烷基亚磺酰基）C1-C6烷基，（C1-C6烷基磺酰基）C1-C6烷基，苯基，或5或6元杂芳基；其中C1-C6烷基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、 (C1-C6烷硫基）C1-C6烷基、（C1-C6烷基亚磺酰基）C1-C6烷基和（C1-C6烷基磺酰基）C1-C6 烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同，苯基和5或6元杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团2-4A组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团2-4A组由下述组成：卤素，氰基，硝基，甲酰基，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，（C1-C6 烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6烷基氨基，二（C1-C6烷基）氨基，C3-C6环烷基氨基， (C1-C6烷基）羰基，（C3-C6环烷基）羰基，（C1-C6烷氧基）羰基，（C1-C6烷基氨基）羰基，二（C1-C6烷基）氨基羰基，（C3-C6环烷基氨基）羰基和三（C1-C6烷基）甲硅烷基；在基团2-4A组中，C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、 C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、（C1-C6 烷基）羰基、（C3-C6环烷基）羰基和（C1-C6烷氧基）羰基可以任选被一个或多个齒素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； Rma代表氢，C1-C6烷基，（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6 环烷基，（C1-C6烷硫基）C1-C6烷基，C1-C6烷基磺酰基，（C1-C6烷基）羰基，（C1-C6烷氧基）羰基，（C1-C6烷基氨基）羰基，二（C1-C6烷基）氨基羰基，（C3-C6环烷基氨基）羰基，苯基，苄基或苯磺酰基；其中C1-C6烷基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、 (C1-C6烷硫基）C1-C6烷基、C1-C6烷基磺酰基、（C1-C6烷基）羰基和（C1-C6烷氧基）羰基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；苯基、苄基和苯磺酰基可以任选具有一个或多个选自基团3-4A组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团3-4A组由下述组成：卤素，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基和（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基；在基团3-4A组中，C1-C6烷基、C1-C6烷氧基和（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； Rma代表Cl-C6烷基或苯基；其中C1-C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；苯基可以任选具有一个或多个选自基团5-4A组的取代基，条件是，当它具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团5-4A组由下述组成：卤素，C1-C6烷基和C1-C6烷氧基；在基团5-4A组中，C1-C6烷基和C1-C6烷氧基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； G4a代表C6-C10芳基，5或6元杂芳基或8至10元稠合杂芳基；其中C6-C10芳基、5或6元杂芳基和8至10元稠合杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团R44a的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同，基团R44a由下述组成：齒素，氰基，硝基，甲酰基，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰基，C...

【专利技术属性】
技术研发人员：M贾奇曼恩，若松孝行，安立光晴，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP

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