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一种窗膜核心功能层和制作该窗膜核心功能层的方法技术

技术编号:10978029 阅读:104 留言:0更新日期:2015-01-30 14:15
本发明专利技术公开了一种窗膜核心功能层和制作该核心功能层的方法,该窗膜核心功能层包括PET基底薄膜和设在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层,所述磁控溅射层包括自下而上依次设在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层和第三透明氧化物层;制作窗膜核心功能层的方法为依次在五腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的五个腔室内进行磁控溅射镀膜,以形成上述磁控溅射层。本发明专利技术的有益效果为:提高红外光反射率的同时降低可见光的反射率,节约能源消耗;在Ag层上部沉积封层金属层阻断Ag层与氧气的接触而氧化,保证所述窗膜核心功能层的使用寿命;所述制作所述窗膜核心功能层在五个磁控腔室内一次完成,生产效率高。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种窗膜核心功能层和制作该核心功能层的方法,该窗膜核心功能层包括PET基底薄膜和设在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层,所述磁控溅射层包括自下而上依次设在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层和第三透明氧化物层;制作窗膜核心功能层的方法为依次在五腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的五个腔室内进行磁控溅射镀膜,以形成上述磁控溅射层。本专利技术的有益效果为:提高红外光反射率的同时降低可见光的反射率,节约能源消耗;在Ag层上部沉积封层金属层阻断Ag层与氧气的接触而氧化,保证所述窗膜核心功能层的使用寿命;所述制作所述窗膜核心功能层在五个磁控腔室内一次完成,生产效率高。【专利说明】—种窗膜核心功能层和制作该窗膜核i L'功能层的方法
本专利技术涉及光学领域,具体涉及。
技术介绍
在美国,磁控溅射技术从20世纪80年代开始已经被广泛应用于各类基底和材料的镀膜工艺上,并代表着镀膜工艺中最高端的技术。但由于长久的技术封锁,导致国内市场2000年前后才有相关技术引进,2010年前后触摸屏行业的兴起让国内市场逐渐熟本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种窗膜核心功能层,其特征在于:包括PET基底薄膜和沉积在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层,所述磁控溅射层包括自下而上依次沉积在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层和第三透明氧化物层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱玮陈土培
申请(专利权)人:朱玮
类型:发明
国别省市:陕西;61

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